MATERJALITEADUSE INSTITUUT FÜÜSIKALISE KEEMIA ÕPPETOOL Üliõpilane: Teostatud: Õpperühm: Kontrollitud: Töö nr: 6/9K Kaitstud: Fe(OH)3 SOOLI VALMISTAMINE KOLLOIDOSAKESTE ELKTROKINEETILISE POTENTSIAALI ELEKTROFOREETILINE MÄÄRAMINE SKEEM Tööülesanne: Uurida elektroforeesi nähtust, mtes piirpinna kolloidlahusdispersioonikeskkond liikumise joonkiirust. Selle phjal määrata osakeste laengu märk ja arvutada elektrokineetiline potentsiaal ( - potentsiaal). Töö käik: külgtoru täidetakse juhendaja poolt määratud kolloidlahusega, U-torusse kallatakse umbes 15 ml külgvedelikku ja asetatakse kohale CuSO4-ga täidetud vahelahused. Seejärel asetatakse kohale soolasillad ja Cu-elektroodid, mis ühendatakse alalisvoolu toiteallikaga
elektrokineetilise potentsiaali elektroforeetiline määramine Üliõpilase nimi ja eesnimi: Õpperühm: Töö teostamise Kontrollitud: Arvestatud: kuupäev: 13.02.2012 SKEEM Elektroforeesi uurimise seadme põhimõtteskeem Töö eesmärk: Uurida elektroforeesi nähtust, mtes piirpinna kolloidlahus- dispersioonikeskkond liikumise joonkiirust. Selle phjal määrata osakeste laengu märk ja arvutada elektrokineetiline potentsiaal ( - potentsiaal). Töö käik: Kõigepealt valmistada raudhüdroksiid sool, mida saab teha intensiivsel segamisel juhtides 10ml 2% värskelt valmistatud FeCl3 lahust 250ml keevasse vette. Seejärel võtakse kasutusse elektroforeesi uurimise seade, mille külgtoru täidetakse Fe(OH)3 kolloidlahusega,
Töö nr: 6/9k Töö pealkiri: Fe(OH)3 sooli valmistamine/ Kolloidosakeste elektrokineetilise potentsiaali elektroforeetiline määramine Üliõpilase nimi ja eesnimi: Jekaterina Miloserdova Õpperühm: KATB47 Töö teostamise kuupäev: Kontrollitud: Arvestatud: 17.03.2014 Töö eesmärk: Uurida elektroforeesi nähtust, mtes piirpinna kolloidlahus- dispersioonikeskkond liikumise joonkiirust. Selle phjal määrata osakeste laengu märk ja arvutada elektrokineetiline potentsiaal ( - potentsiaal). Töö käik: Kõigepealt valmistada raudhüdroksiid sool, mida saab teha intensiivsel segamisel juhtides 10ml 2% värskelt valmistatud FeCl3 lahust 250ml keevasse vette. Seejärel võtakse kasutusse elektroforeesi uurimise seade, mille külgtoru täidetakse Fe(OH)3 kolloidlahusega, U-
Seda saab vältida, kui eemaldada hüdrolüüsil tekkinud HCl, kas dialüüsides saadud sooli kuumalt vōi juhtides teda läbi kolonni, mis sisaldab nōrgalt aluselist OH vormis ioniiti. Saadud soolile määratakse kolloidosakeste laengumärk ja ζ - potentsiaal kolloidkeemia töös nr 9 kirjeldatud viisil. KOLLOIDOSAKESTE ELEKTROKINEETILISE POTENTSIAALI ELEKTROFOREETILINE MÄÄRAMINE Töö eesmärk Uurida elektroforeesi nähtust, mōōtes piirpinna kolloidlahus-dispersioonikeskkond liikumise joonkiirust. Selle pōhjal määrata osakeste laengu märk ja arvutada elektrokineetiline potentsiaal. Töövahendid Elektrofereesi kiirust mõõdetakse joonisel 1 kujutatud seadmes. See koosneb U-kujulisest torust (1), gradueeritud skaalast piirpinna edasiliikumise ulatuse määramiseks (2), kraani abil U-toruga ühendatud külgtorust (3), agar-agariga ja KCl-ga täidetud soolasillast (4), CuSO 4
Raudoksükloriidi molekulid dissotseeruvad vastavalt võrrandile: FeOCl = FeO+ Cl ioon adsorbeerub osakese pinnale ning ioon esineb vastasioonina. Raudhüdroksiidi mitsell: {mFe(OH)3 nFeO+(n-x)Cl}xxCl 9. KOLLOIDOSAKESTE ELEKTROKINEETILISE POTENTSIAALI ELEKTROFOREETILINE MÄÄRAMINE. Töö eesmärk Uurida elektroforeesi nähtust, mõõtes piirpinna kolloidlahusdispersioonikeskkond liikumise joonkiirust. Selle põhjal määrata osakeste laengu märk ja arvutada elektrokineetiline potentsiaal . Töö käik 1. Hoolikalt pestud ja kui U-toru kinnitasin hoidiku külge. 2. Külgtoru täitsin eelnevalt valmistatud kolloidlahusega. 3. U-torusse kallasin umbes 15 ml külgvedelikku ja asetasin kohale -ga täidetud vahelahused. 4
Seda saab vältida, kui eemaldada hüdrolüüsil tekkinud HCl, kas dialüüsides saadud sooli kuumalt vi juhtides teda läbi kolonni, mis sisaldab nrgalt aluselist OH vormis ioniiti (anioniiti). Seejärel määratakse saadud soolile kolloidosakeste laengumärk ja -potentsiaal kolloidkeemia töös nr 9 kirjeldatud viisil. KOLLOIDOSAKESTE ELEKTROKINEETILISE POTENTSIAALI ELEKTROFOREETILINE MÄÄRAMINE TÖÖ EESMÄRK Uurida elektroforeesi nähtust, mtes piirpinna kolloidlahus-dispersioonikeskkond liikumise joonkiirust. Selle phjal määrata osakeste laengu märk ja arvutada elektrokineetiline potentsiaal ( potentsiaal- DEF: Mõttelist pinda, milles vastasioonid kolloidosakestega enam kaasa ei liigu, nimetatakse nihkepinnaks ehk libisemispinnaks ja sellele pinnale vastavat potentsiaali väärtust nimetatakse -potentsiaaliks). TÖÖVAHENDID Elektrofereesi kiirust mõõdetakse joonisel 1 kujutatud seadmes. TÖÖ KÄIK
emulsioon. Samaaegselt toimuvad mitmed protsessid: tilkade teke, agregaatideks ühinemine, tilkade liitumine, piirpinnale filmi moodustamine. Segades kokku õli ja vee, mõlemad faasid moodustavad tilgad. See faas, mis jääb tilkadena püsima kauemaks ajaks, saab dispergeeritud faasiks ja ümbritsetakse pideva faasi poolt, mis formeeris rohkem liitunud tilkadest. Tekkinud tilkade arv määratakse faasi mahu ja piirpinna pinevuse poolt. Mida rohkem on moodustunud tilku, seda rohkem nad üksteisega kokku põrkuvad , seega see faas, mis on suuremas mahus saab pidevaks faasiks. Emulgeerimise protsess ja emulsiooni tüüp on mõjutatud viskoossusest. Emulsioonid on termodünaamiliselt ebapüsivad ja kolmanda komponendi, emulgaatori juuresolek on vajalik. Letsitiin (leidub näiteks munakollases) on teada tuntud toiduemulgaator
litosfääri, mis on oluline mõiste laamtektoonika seisukohalt. Litosfäär hõlmab Maa ülemise kihi 50...300 kilomeetri sügavuseni. Litosfääri alumiseks pinnaks on astenosfääri ülemine pind. Vahevöö Vahevöö koosneb kuumast ja tihedast kivimimassist ning see ulatub kuni 2900 km sügavuseni. 660 kilomeetri sügavuses toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üle- ning alavahevööks. Vahevöö ehk mantli ülemist osa nimetatakse astenosfääriks, milleks on poolvedelas olekus mõnesaja kilomeetri paksune kiht. See on vahevöö kivimite ülessaulamise ehk basaltse magma tekkepiirkonnaks. Ülemine vahevöö ulatub umbes 10200 kilomeetri sügavusele. Vahevöö ehk mantli alumine osa on tahke ja koosneb peamiselt ränist. Mantli alumine osa ulatub 9002900 kilomeetri sügavusele. Vahevöö alaosas on D"-kiht,
ulatub kuni 2900 km sügavuseni. 660 km sügavuses Päikesesüsteem toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üla- ning alavahevööks. Vahevöö ehk mantli ülemist osa nimetatakse astenosfääriks, mis on poolvedelas olekus mõnesaja kilomeetri paksune kiht. See on vahevöö kivimite ülessulamise ehk basaltse magma tekkekoht. Ülemine vahevöö ulatub umbes 10–200 km sügavusele. Vahevöö ehk mantli alumine osa on tahke ja koosneb peamiselt ränist. Keskmine temperatuur Maa pinnal on 15 °C. Maapinna lähedal süstemaatilistel ilmavaatlustel
Elektrilise kaksikkihi kujunemine: Paigutame metallelektroodi tema enda soola lahusesse. Metalli ioonide keemiline potentsiaalmetalli- ja lahusefaasis on üldjuhul erisugune, mille tagajärjel metalli ioonid hakkavad läbi piirpinna minema üle sellesse faasi, kus nende keemiline potentsiaal on madalam. Kunaioonid on elektriliselt laetud, siis see ioonide üleminek põhjustab faaside laadumise. Kui selletagajärjel metallifaas omandab positiivse laengu, siis kuloniliste tõmbejõudude tõttu tõmmatakse lahusest faaside piirpinnale anioone, mis püüavad neutraliseerida metalli positiivset laengut. Need negatiivse laenguga anioonid omakorda põhjustavad ka metallielektroodi sisemusest positiivsete laengute kandumise
juhusliku loomuga liikumine mistahes olekus. SULAMISSOOJUS – ainekoguse sulatamiseks kuluv soojushulk. ABSOLUUTNE ÕHUNIISKUS – ehk veeauru tihedus näitab kui kuupmeetris õhus sisalduva vee massi. SUHTELINE ÕHUNIISKUS – näitab kui suure osa (protsentides) moodustab absoluutne õhuniiskus võimalikust õhuniiskusest. KASTEPUNKT – temperatuur, mille juures veeaur hakkab kondenseeruma. HÜGROMEETER – õhuniiskuse mõõdik. PINDPINEVUS – vedeliku ja gaasi piirpinna omadustega seonduvad nähtused, mida põhjustab pinnakihi molekulide vaheliste molekulaarjõudude tasakaalustamatus. PINDPINEVUSJÕUD – pinge, mis tekib vedeliku pinnakihis, kui väljaspool on gaas mille minnakihis on vähem molekule. MÄRGAMINE – nähtus, kus vedelik tahket pinda mööda laiali valgub. KAPILLAARSUS – vedelike omadus tungida peenikestesse vahedesse, kiudude vahele ja pooridesse. FAASISIIRE – aine oleku muutus ja üleminek ühest faasist teise.
· negatiivsel elektroodil - metalli kristallvõrest eralduvad metalli positiivselt laetud ioonid ja lähevad lahusesse. Metalliioonide tekkimisel eraldunud elektronid jäävad metallifaasi ja annavad metallile negatiivse laengu. II. Elektrilise kaksikkihi kujunemine: Paigutame metallelektroodi tema enda soola lahusesse. Metalli ioonide keemiline potentsiaal metalli- ja lahusefaasis on üldjuhul erisugune, mille tagajärjel metalli ioonid hakkavad läbi piirpinna minema üle sellesse faasi, kus nende keemiline potentsiaal on madalam. Kuna ioonid on elektriliselt laetud, siis see ioonide üleminek põhjustab faaside laadumise. Kui selle tagajärjel metallifaas omandab positiivse laengu, siis kuloniliste tõmbejõudude tõttu tõmmatakse lahusest faaside piirpinnale anioone, mis püüavad neutraliseerida metalli positiivset laengut. Need negatiivse laenguga anioonid omakorda põhjustavad ka
Pöörduv elektrood, saab kasutada nii anoodi kui ka katoodina: Anood kui tekib H+; Katood kui redutseeritakse molekulaarse H2 Võrdluselektroodid Hõbe-hõbekloriid elektrood Difusioonipotentsiaal *Difusioonipotentsiaal Ed tekib kahe erineva koostisega elektrolüüdi lahuste kokkupuutepinnal; *Näiteks 1M HCl ja 0,01M HCl on eraldatud poorse klaasmembraaniga. Nii H+ kui ka Cldifundeeruvad kontsentreeritumast lahusest lahjemasse. H+ on liikuvam kui Cl-, tekib laengute erinevus. Piirpinna lahjem pool omandab positiivse laengu tänu H+, kontsentreeritum pool negatiivse laengu tänu Cl-. *Elimineeritakse soolasillaga, mis asetatakse kahe lahuse vahele. KCl- kus katioon ja anioon on sarnaste mõõtmetega. Ed ~ mõni mV Indikaatorelektroodid *Ideaalne indikaatorelektrood reageerib kiirelt ja reprodutseeritavalt analüüsitava iooni kontsentratsiooni muutustele. *2 tüüpi: 1. Metallilised: I liiki, II liiki ja inertsed redoks 2. membraan I liiki metall elektroodid
3. DISPERSSETE SÜSTEEMIDE ELEKTRILISED OMADUSED 1. Millised on võimalikud põhjused elektrilise kaksikkihi moodustumiseks faasidevahelisel piirpinnal? Tooge näiteid elektrilise kaksikkihi moodustumisest erinevates süsteemides. Põhiline kolloidosakese kineetilise stabiilsuse allikas on kolloidosakese elektriliselt laetud pind. Laengu ümberjaotumine võib toimuda kolmel moel: 1. laetud osakeste ülekanne läbi piirpinna 2. erilaenguliste ioonide erinev adsorptsioon 3. polaarsete molekulide adsorptsioon ja orienteerumine Vastasmärgilised ioonid kogunevad selliselt laetud pinna lähedusse ja kujuneb välja ioonatmosfäär, milles eristub kaks iseloomulikku laenguregiooni. Täiesti kolloidosakese pinna vastas asub liikumatu kiht. Teine osa kolloidosakese laengut kompenseerivatest ioonidest ei ole seotud osakesega ja osaleb soojusliikumises. Sellist laetud kihti mis tekib tahke ja vedela faasi vahelisel
5200 kilomeetri sügavusel muutub tuum taas tahkeks, ehkki ta on ilmselt sulamispunktile väga lähedal. Maakoorest eristatakse litosfääri, mis on oluline mõiste laamtektoonika seisukohalt. Litosfäär hõlmab Maa ülemise kihi 50...300 kilomeetri sügavuseni. Litosfääri alumiseks pinnaks on astenosfääri ülemine pind. 660 kilomeetri sügavuses toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üle- ning alavahevööks. Vahevöö alaosas on D"-kiht, mis ulatub vahevöö ja tuuma piirilt 220...250 kilomeetrit kõrgemale. See on kiht, kus seismiliste lainete levikukiirus sügavuse suurenedes ei muutu. Liikumine Päikesesüsteemi liikumine Koos Päikesesüsteemiga liigub Maa kosmoses kiirusega umbes 20,1 km/s = 72 360 km/h Herkulese tähtkuju poole. Galaktika liikumine Galaktika tervikuna liigub aga Lõvi tähtkuju suunas kiirusega umbes 600 km/s.
potentsiaalid on konstantsed võib klaaselektroodi potentsiaali mõjutava tegurina arvestada uuritavas lahuses esinevate H+ ja Me+- ioonide aktiivsusi. Potentsiomeetrilisel tiitrimisel jälgitakse indikaatorelektroodi potentsiaali muutumist tiitrimise käigus, et kindlaks teha tiitrimise ekvivalentpunkt. Ekvivalentpunktis on potentsiaali muutumine kõige suurem. Diffusioonipotentsiaal tekib kahe erineva koostisega elektrolüütide lahuste piirpinnal. Elektrolüüdi ioonid diffundeeruvad läbi piirpinna madalama kontsentratsiooniga lahusesse. Kuna ioonide liikuvused on erinevad tekib laengute lahkuviimine, mis põhjustabki potentsiaali kuni mõni sajandik volti. Indikaatorelektroodi potentsiaal sõltub määratava iooni kontsentratsioonist. Reageerib kiiresti ja reprodutseeritavalt analüüsitava iooni kontsentratsiooni muutustele. On soovitavalt võimalikult selektiivne, s.t. tema potentsiaal sõltub vähe teiste ioonide kontsentratsioonist lahuses.
Vahevöö koosneb kuumast ja tihedast kivimimassist ning see ulatub kuni 2900 km sügavuseni. 660 kilomeetri sügavuses toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üle- ning alavahevööks. Vahevöö ehk mantli ülemist osa nimetatakse astenosfääriks, milleks on poolvedelas olekus mõnesaja kilomeetri paksune kiht. See on vahevöö kivimite ülessaulamise ehk basaltse magma tekkepiirkonnaks. Ülemine vahevöö ulatub umbes 10200 kilomeetri sügavusele. Vahevöö ehk mantli alumine osa on tahke ja koosneb peamiselt ränist. Mantli alumine osa ulatub 9002900 kilomeetri sügavusele.
- pinna vabaenergia, pindpinevus, s faasidevaheline piirpind *Pinpinevus on siserõhuga proportsiaalne => mida tugevam on molekulivaheliste jõudude toime, seda suurem on pindpinevus. Temperatuuri tõstmisel vedelikke pindpinevus väheneb. *Pinnaenergia on samuti kahe faasi erinevuse mõõduks piirpinnal. *Mida suurem on kahe faasi erinevus, seda suurem on pindpinevus nende vahel. *Kui me mõõdame vedeliku pindpinevust, siis me mõõdame vedeliku ja selle kohal oleva õhu piirpinna ühikulist vabaenergiat. *Kõige üldisemas mõistes tähendab pindpinevus pindliia tasakaaluenergiat vedeliku ja ta enda auru piirpinnal. *Igasugune pinna hõivanud molekulide arvu või omaduste muutus toob esile ka piirpinna energia muutuse. *Pinna vabaenergia muutus võib olla seotud nii pindala muutusega, kui ka pindpinevuse muutusega. *Seaduspärasuseks on ikka vabaenergia vähenemine isevooluliste protsesside korral, e. G < O väheneb piirpinna suurus (koagulatsioon)
pindpinevus, s faasidevaheline piirpind *Pinpinevus on siserõhuga proportsiaalne => mida tugevam on molekulivaheliste jõudude toime, seda suurem on pindpinevus. Temperatuuri tõstmisel vedelikke pindpinevus väheneb. *Pinnaenergia on samuti kahe faasi erinevuse mõõduks piirpinnal. *Mida suurem on kahe faasi erinevus, seda suurem on pindpinevus nende vahel. *Kui me mõõdame vedeliku pindpinevust, siis me mõõdame vedeliku ja selle kohal oleva õhu piirpinna ühikulist vabaenergiat. *Kõige üldisemas mõistes tähendab pindpinevus pindliia tasakaaluenergiat vedeliku ja ta enda auru piirpinnal. *Igasugune pinna hõivanud molekulide arvu või omaduste muutus toob esile ka piirpinna energia muutuse. *Pinna vabaenergia muutus võib olla seotud nii pindala muutusega, kui ka pindpinevuse muutusega. *Seaduspärasuseks on ikka vabaenergia vähenemine isevooluliste protsesside korral, e. G < O väheneb piirpinna suurus (koagulatsioon)
Reeglina koosneb kontinentaalne maakoor kolmest selgesti eristuvast kihist lasuvast settelisest pealiskorrast, lamavast kristalsest aluskorrast ja selle all olevast gabroidse koostisega kivimkiht. Ülemine korrus ehk setteline pealiskord võib ka puududa Vahevöö koosneb kuumast ja tihedast kivimimassist ning see ulatub kuni 2900 km sügavuseni. 660 kilomeetri sügavuses toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üle- ning alavahevööks. Vahevöö ehk mantli ülemist osa on poolvedelas olekus mõnesaja kilomeetri paksune kiht. See on vahevöö kivimite ülessaulamise ehk basaltse magma tekkepiirkonnaks. Ülemine vahevöö ulatub umbes 10200 kilomeetri sügavusele. Vahevöö ehk mantli alumine osa on tahke ja koosneb peamiselt ränist. Maa keskele jäävat osa nimetatakse tuumaks, mis jaguneb välistuumaks ja sisetuumaks. Välistuum on vedelas olekus
40 313,15 6648,799 5,31409 7 Vedeliku 6,5 viskoossus 6 mPas ln 5,5 741.7347616 5 331.5770293 4,5 172.5752824 4 88.78246991 0,00315 0,0032 0,00325 0,0033 0,00335 0,0034 1/T 14 316 033 0,00335 0,0034 Potentsiaalide vahe Elektroodide vaheline Piirpinna Elektroforeesi elektroodidel U kaugus L edasinihkumine aeg t h V m m s 150 0,233 0,005 1500 Külgvedeliku Külgvedeliku viskoossus dielektriline läbitavus Pa*s 0,8902 78,53 Jrk Lahuse normaalne Mõõdetud Elektrijuhtivus Ekvivalentjuhtivus nr
koosneva vahevöö ning see ulatub kuni 2900 ülaosaga moodustavad km sügavuseni. 660 litosfääri, mis on oluline kilomeetri sügavuses mõiste laamtektoonika toimub viimane oluline seisukohalt. Litosfäär hüpe seismiliste lainete hõlmab Maa ülemise kihi levikukiiruses enne 50...300 kilomeetri vahevöö ja välistuuma sügavuseni. Litosfääri piiri. Selle piirpinna järgi alumiseks pinnaks on jagatakse vahevöö üle- astenosfääri ülemine pind. ning alavahevööks. Maa tuum Maa tuum on Maa sisemine, peamiselt rauast ja niklist koosnev osaMaa tuum paikneb umbes 29006378 km sügavusel. Tuuma ümbritseb vahevöö. Vahevöö ja tuuma piiri nimetatakse Gutenbergi eralduspinnaks. Tuum jaguneb vedelaks välistuumaks ja tahkeks sisetuumaks. Vedela välistuuma liikuv, peamiselt rauast koosnev
vaid nende kõrge hind. Keraamilisi materjale kasutatakse kõrgetel temperatuuridel töötavates seadmetes soojust isoleerivate materjalidena, kosmoselaevade soojaisolatsioonis. 1.3.3. Komposiidid Komposiitmaterjalid koosnevad kahest või rohkem erinevast materjalist: täiteaine(te)st ja maatriks e. põhiainest. Komposiitmaterjalide komponendid on tavaliselt üksteises lahustamatud ja neid võib komposiitidest identifitseerida läbi nende piirpinna. Komposiitmaterjalid on kujundatud nii, et nad resultaadina omavad mõlema komponendi parimad omadused. Näitena fiiberklaas, mis kujutab endast materjali, kus klaaskiud on paigutatud polümeersesse maatriks-materjali. Saadud komposiit omab klaasi tugevuse ja polümeeridele omase painduvuse. Komposiite võib olla erinevat tüüpi täiteainetaga. Tähtsamad täiteaine tüübid on kiudjad ja pulbrilised täiteained. Tööstuses hetkel leiavad
6.Mis on suundade perekonnad? Suunad näitavad antud suunas kulgevate vektorite projektsioone kristallograafilistele telgedele, mis on vähendatud väiksemate täisarvuliste väärtusteni. 7.Millised on amorfsed materjalid? Amorfseteks kutsutakse materjale, mis on mittekristallilised, st puudub korrapära ja korduvus pikkadel aatomdistantsidel. 8.Mis on faaside vahelised piirpinnad materjalis? Faaside vahelised piirpinnad võivad olla kui piirpinnad erinevate kristallmodifikatsioonide vahel. Piirpinna energia suurus sõltub piirpinna tüübist. 9.Loetlege võimalikud laengukandjad ioonilistes materjalides? Ioonilistes materjalides on laengukandjateks ioonid. 10.Mis on materjali optilised omadused? Optilised omadused on materjali vastumõju temale rakendatud valgustatud elektromagneetilisele kiirgusele. 11.Mis on süsteemi vabadusastmete arv? 12.Kuidas leida olekudiagrammist faaside suhtelist hulka? 9 1.Materjalide klassifikatsiooni alused?
valgustatud pilu), ekraani ning läätsehoidjatega, õhukesed kumer- ja nõgusläätsed, pikksilm. TÖÖ TEOREETILISED ALUSED Läätseks nimetatakse läbipaistvast ainest (tavaliselt klaasist) keha, mida piiravad kaks sfäärilist või mõnda muud pinda. Kui läätse mõlemad piirpinnad on sfäärilised (üks võib ka tasapind olla) siis nimetatakse läätse sfääriliseks ning sirget, mis läbib mõlema piirpinna keskpunkte läätse optiliseks peateljeks. Sõltuvalt sellest, kas optilise peateljega paralleelsed kiired pärast läätse murdumist koonduvad või hajuvad, jagatakse läätsed vastavalt koondavateks või hajuvateks. Koondava läätse korral nietatakse fookuseks punkti, kus lõikuvad läätsele langevad optilise peateljega paralleelsed kiired pärast murdumist. Hajutavas läätses hajuvad optilise
Sellest vahetusest osavõtvat iooni nimetatakse potentsiaalimääravaks iooniks. Seda potentsiaalihüpet kirjeldab Nernsti võrrand. Polariseeritaval elektroodil reaktsioone ei toimu ja seal esinev tasakaal on elektrokeemilist laadi. Laetud osakesed ei suuda faaside piirpinda läbida. Elektrilise kaksikkihi kujunemine: Metall paigutatakse tema enda soola lahusesse. Tema ioonide keemiline potentsiaal metallid- ja lahusefaasis on üldjuhul erinev, mille tagajärjel metalli ioonid hakkavad läbi piirpinna minema üle madalama keemilise potentsiaaliga faasi. Kuna ioonid on elektriliselt laetud, siis see üleminek põhjustab faaside laadumise. Selle tagajärjel omandab metallifaas positiivse laengu, seega tõmmatakse lahusest faaside piirpinnale anioone, mis püüavad neutraliseerida laengut. Anioonid omakorda põhjustavad metallielektroodi sisemusest positiivsete laengute kandumise metall-lahuse piirpinnale, kus tegib erimärgiliste laengute vastasseis. On tekkinud elektriline kaksikkiht.
Reeglina koosneb kontinentaalne maakoor kolmest selgesti eristuvast kihist lasuvast settelisest pealiskorrast, lamavast kristalsest aluskorrast ja selle all olevast gabroidse koostisega kivimkiht. Ülemine korrus ehk setteline pealiskord võib ka puududa Vahevöö koosneb kuumast ja tihedast kivimimassist ning see ulatub kuni 2900 km sügavuseni. 660 kilomeetri sügavuses toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üle- ning alavahevööks. Vahevöö ehk mantli ülemist osa on poolvedelas olekus mõnesaja kilomeetri paksune kiht. See on vahevöö kivimite ülessaulamise ehk basaltse magma tekkepiirkonnaks. Ülemine vahevöö ulatub umbes 10200 kilomeetri sügavusele. Vahevöö ehk mantli alumine osa on tahke ja koosneb peamiselt ränist. Maa keskele jääb tuum, mis jaguneb kaheks: Välistuum on vedelas olekus. Vedela metalli pöörisvoolud välistuumas tekitavad Maa
reostuskoha. Eemaletõukamist kasutatakse ujuhul, kui õnnetuskohal on keeruline reostust kokku korjata. 24.Mis on dispergent? Kuidas kasutatakse? Õli lahustav koostisosa,p ihustatakse merre kas laevadelt või lennukist, samuti ranniku äärde. NB! Läänemeres keelatud kasutada. pindaktiivsete ainete segu, mida kasutatakse naftareostuse tõrjel orgaanilise lahusti koosseisus nafta merevees lahustamise tõhustamiseks, et vähendada nafta ja vee vahelise piirpinna pinevust 25.Mis on absorbent? Kuidas kasutatakse? Aine, mis imab reostuse endasse. Pannakse reostuse peale, ja kui see on en reostusega sidunud, siis korjatakse kokku. Nt liiklusõnnetuse puhul korjatakse sellega tee pealt õli. 26.Kirjeldage hariskimmeri tööpõhimõtet. Selles süsteemis kasutatakse suurediameetrilisi pöörlevaid silindreid horisontaalsel teljel. Trummel on osaliselt uputatud ning veest kogutud nafta eemaldatakse harjadelt kaabitsaga ning suunatakse reservuaari. 27
Tavaliselt voolavad veri ja dialüüsivedelik vastupidistes suundades. Tänapäeval sageli kasutatakse glükoosivaba dialüüsivedelikku. ! 2. Elektroforees - mis on, selle seos z-potentsiaaliga. ! Elektroforees - laetud osakeste liikumine vedeliku suhtes elektriväljas. 1) Mikroelektroforees - liikumist jälgitakse mikroskoobiga. 2) Liikuva pinna elektroforees - luuakse süsteem, kus on terav piirpind kolloidlahuse ja puhta dispersioonikeskkonna vahel ning jälgitakse selle piirpinna liikumist elektriväljas. Nende kahe meetoditega saab määrata tseeta-potentsiaali väärtust. 3) Tsoonelektroforees - sarnane liikuva pinna elektroforeesiga, kuid kasutatakse inertset tahket kandjat või geeli. Selle meetodiga ei saa määrata osakeste elektroforeetilist liikuvust, kuid on võimalik segusid hästi komponentideks lahutada. 4) Kapillaarelektroforees - samuti kasutusel analüütilistel eesmärkidel.
Suurus: oleneb metalli ioonide konstruktsioonile lahuses. Järjestus: Al(-1,66V), Zn(-0,76V), Fe(-0,44V), Sn(-0,14V), Cu(0,34V) Kontaktkorrusioon Korrusioon erinevate metallide kokkupuutekohtades. (Al ja Cu, Cu ja teras) Ühtlane, laiguline, pisteline, pilu-, hõõrde-, kontakt-, kiht-, kihtide vaheline, kristallide vaheline ja sisene, väsimus. Ühtlast ja laigulist korrosiooni vähendatakse pinna katmisega, pisteliselt sobiva materjali valikuga Piirpinna korrosioonile tuleb valida sobiv keevituse tehnoloogia ja ka materjal, Pilu korrosiooni korral tuleb pind hoida puhas jne. 31. NERNSTI võrrand Eme = EoMe + RT / nF * ln[Men+] , kus R 9,314J/kmol; T temp; n elektr. arv; F faraday arv Kui T=293K, siis Eme= EoMe + 0,059T / n * ln[Men+] Järeldused: · GE - võimalik valmistada, mille elektroodid on samast mat., elektrolüüt on sama, konstruktsioon on sama, kuid elektroodid on erineva temperatuuriga.
Vt lk 314 7. Kontsentratsioonielemendid kui elemendi elektroodid asetsevad erisuguse kontsentratsiooniga lahustes, tekib vool energia arvelt, mis vabaneb aine ülekandumisel suurema kontsentratsiooniga lahusest väiksema kontsentratsiooniga lahusesse. 8. Difusioonipotentsiaal kahe eri lahuse piirpinnal esinev potentsiaali hüpe, mille põhjustab eri ioonide isesugune liikuvus. Erisuguse kontsentratsiooniga HCl lahuste kokkupuutel toimub elektrolüüdi difusioon läbi piirpinna kõrgemalt kontsentratsentratsioonilt madalamale. 9. Elektromotoorjõu ja elektroodipotentsiaali mõõtmine elektromotoorjõu määramiseks tehakse esmalt kindlaks, milline elektroodidest on positiivne ja milline negatiivne- käsiraamatu abiga. Elektromotoorjõu mõõtmiseks ühendatakse mõlemad elektroodid voltmeetriga ja saadakse nende vahel olev pinge. e. elektromotoorjõud. Saadud elektromotoorjõu põhjal arvutatakse elektroodide potentsiaalid. Vt 18. Töö juhendist. 10
aatomite/molekulide arguga ja mille kuju sõltub sageli aatomite/molekulide loomusest. Detektori signaali pole enamasti võimalik ette ennustada ja seega on ta empiiriline. Dispasioon: millises väärtuste vahemikus on tulemus usaldusväärne Detekteerimispiir: vähim määratav hulk Tundlikkus: 2. Elektroanalüütiliste meetodite klassifikatsioon. Elektroanalüütilised meetodid Faaside piirpinna Lahuse kogumahus reaktsioonidel toimuvatel põhinevad reaktsioonidel meetodid põhinevad meetodid: Konduktomeetria (G=1/R) Konduktomeetriline
) moodustavad mitmesugust tüüpi kolloidsüsteeme. 4. Emulsioonid, nende stabiliseerimine, emulgaatorid Emulsioonid on süsteemid, mis sisaldavad kahte vedelfaasi, millest üks on peenete tilkadena dispergeeritud teises. Termodünaamiliselt ebapüsivad. Kahe segunematu vedelingrediendi, näiteks vee ja vedela parafiini, kokku segamisel ja intensiivsel loksutamisel on võimalik saada ebapüsiv emulsioon. Kui üks faas jaotub teises väikeste gloobulitena, siis tulemuseks on piirpinna suurenemine ja pinna vaba energia suurenemine süsteemis. Saadud seisund on termodünaamiliselt ebastabiilne ning selle tagajärjel diperssest faasist tekivad sfäärilised tilgad (sfäärilisel osakesel on minimaalne piirpind sama ruumala korral) ja need tilgakesed liituvad, põhjustades faasi eraldumise ning süsteem saavutab minimaalse vaba energia. Pindaktiivse aine lisamisel adsorbeeritakse see
=mg/S=Vg/S=gSh/S=gh -vedeliku tihedus g-raskuskiirendus Eelnevast järeldub,et rõhk on seisvas vedelikus ühe nivoo piiras konstantne.Olgu tegemist vedelikus kahe erineva nivooga,kõrgustega H1 ja h2,siis vastavate rõhkude vahe. P2-P1=g(h2-h1)= gh Rõhkühikus on SI süsteemis paskal ja CGS süsteemis dyn/cm². Mittesüsteemseks ühikuks on atmosfäär(at). 1at=1,01*10^5 Pa=760 mm Hg 1mm Hg=133Pa 2.1.2.Archimedese jõud 2.1.3.Pindpinevus Vedeliku ja õhu piirpinna lähedal on molekulidevaheliste tõukejõudude osakaal väiksem kuna vedeliku molekulide põrgete sagedus piirpinnal väheneb ja molekulide kaotilise liikumise vaba tee pikkus suureneb ning molekulide vahel on tõmbejõud ülekaalus.Sellest tulenevast ei liigu paljud molekulid pinnakihist enam tagasi vedeliku ja pinnakihi molekulid omavad tõendava potentsiaalse energia,mis moodustab osa vedeliku siseenergiast.
(2) dt Keemilise reaktsiooni kiirus sõltub paljudest teguritest. Põhilisemad nendest on reageerivate ainete iseloom ja kontsentratsioon, rõhk (kui reaktsioonist võtavad osa gaasilised ained), temperatuur, katalüsaatori juuresolek. Heterogeensete protsesside korral, kui reaktsioon toimub faasidevahelisel piirpinnal, sõltub reaktsiooni kiirus selle piirpinna suurusest (seega ainete peenestatuse astmest) ja omadustest. Reaktsiooni kiiruse sõltuvus kontsentratsioonist lihtsate (s.o. ühestaadiumiliste) homogeensete reaktsioonide korral on määratud massitoimeseadusega: reaktsiooni kiirus on võrdeline reageerivate ainete kontsentratsioonide korrutisega (astmetes, mis vastavad reaktsiooni võrrandi kordajatele). Näiteks reaktsiooni aA + bB dD + gG kiirus avaldub järgmiselt:
=mg/S=Vg/S=gSh/S=gh vedeliku tihedus graskuskiirendus Eelnevast järeldub,et rõhk on seisvas vedelikus ühe nivoo piiras konstantne.Olgu tegemist vedelikus kahe erineva nivooga,kõrgustega H1 ja h2,siis vastavate rõhkude vahe. P2P1=g(h2h1)= gh Rõhkühikus on SI süsteemis paskal ja CGS süsteemis dyn/cm². Mittesüsteemseks ühikuks on atmosfäär(at). 1at=1,01*10^5 Pa=760 mm Hg 1mm Hg=133Pa 2.1.2.Archimedese jõud 2.1.3.Pindpinevus Vedeliku ja õhu piirpinna lähedal on molekulidevaheliste tõukejõudude osakaal väiksem kuna vedeliku molekulide põrgete sagedus piirpinnal väheneb ja molekulide kaotilise liikumise vaba tee pikkus suureneb ning molekulide vahel on tõmbejõud ülekaalus.Sellest tulenevast ei liigu paljud molekulid pinnakihist enam tagasi vedeliku ja pinnakihi molekulid omavad tõendava potentsiaalse energia,mis moodustab osa vedeliku siseenergiast.
ehitiste või tehnovahenditega vastavalt käesoleva seaduse §-le 8. Karstiala-karsti (karstilehtrid, -nõod, -järved, -koopad, -jõed) leviku piirkond, kus puudub ajutiselt või alaliselt sademevee pindmine äravool vooluveekogusse; Dispergent- pindaktiivsete ainete segu, mida kasutatakse naftareostuse tõrjel orgaanilise lahusti koosseisus nafta merevees lahustamise tõhustamiseks, et vähendada nafta ja vee vahelise piirpinna pinevust Üleujutus-on harilikult veega katmata maa-ala ajutine kattumine veega, kaasa arvatud selline üleujutus, mis on põhjustatud veekogu veetaseme tõusust. Üleujutuseks ei peeta kanalisatsioonisüsteemidest põhjustatud üleujutust Välisõhk- Välisõhk on troposfääri hooneväline õhk, välja arvatud õhk töökeskkonnas. Väliõhu keemiline mõjutamine-puhta välisõhu koostise muutmine saasteainete õhku eraldamisega.
Wa = tg + vg tv töö on vastupidine pinnaenergiaga Dupre võrrand ütleb, et adhesiooni töö võrdub komponentide pindpinevuse summa miinus nende omavaheline pindpinevus. 22. Elektriline kaksikkiht. Sooli saamine ja kolloidosakese ehitus Fe(OH)3 või AgI näite varal. Vaatleme faasidevahelist piirpinda näiteks tahke faasi ja lahuse vahel. Selle faasidevahelise piirpinna moodustumine on seotud elektrilaengute ümberjaotumisega faaside sisemuse ja pinnakihi vahel. Nimetame tahket faasi elektroodiks. Seda elektroodi võime jaotada kaheks: mittepolariseeritavaks ja polariseeritavaks elektroodiks. Mittepolariseeritava elektroodi
Vedelkütuses esineb S org.te ühenditena, gaaskütustes aga kas vesiniksulfiidina või 17. Soojusläbikanne – kahe soojuskandja vaheline vääveldioksiidina. Väävlit loetakse kahjulikuks lisandiks, tema soojusvahetus, mis toimub läbi neid lahutava tahke vaheseina põlemisel eraldub 3x vähem soojust kui C põlemisel. või läbi nendevahelise piirpinna. Isel soojusläbikandetegur Väävliühendid põhjustavad ka korrosiooni. Gaasiline kütus k=Q/(tdS) antakse komponentidena: CO+H2+CH4+H2S+CO2+SO2+N2+ Soojusläbikanne tasapinnalises seinas. Soojusläbikanne- soojus …=100% . levib järjestikku konvektsiooni ja kiirguse teel seinapinnale, Kütuse kütteväärtus. See on soojushulk, mis eraldub 1kg läbib soojustjuhtiva seina ja väljub teise keskonda
5200 kilomeetri sügavusel muutub tuum taas tahkeks, ehkki ta on ilmselt sulamispunktile väga lähedal. Maakoorest eristatakse litosfääri, mis on oluline mõiste laamtektoonika seisukohalt. Litosfäär hõlmab Maa ülemise kihi 50...300 kilomeetri sügavuseni. Litosfääri alumiseks pinnaks onastenosfääri ülemine pind. 660 kilomeetri sügavuses toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üle- ning alavahevööks. Vahevöö alaosas on D"-kiht, mis ulatub vahevöö ja tuuma piirilt 220...250 kilomeetrit kõrgemale. See on kiht, kus seismiliste lainete levikukiirus sügavuse suurenedes ei muutu. Kuu · Kuu on Maa looduslik kaaslane. Ta on Maale lähim taevakeha (keskmine kaugus Maast 384 400 km). · Kuu tiirleb ümber Maa mööda elliptilist orbiiti, mille ekstsentrilisus on 0,0549.
Sooli saamine ja kolloidosakese ehitus Fe(OH)3 või AgI näite varal Kolloidkeemia seisukohalt on elektriline kaksikkiht oluline, kuna elektrilise kaksikkihi tugevus kolloidosakese pinnal tagab kolloidosakesele tema püsivuse. Elektriline kaksikkiht mittepolariseeritaval elektroodil. Paigutame metalli tema enda soola lahusesse, näiteks (Zn/Zn2+ või Cu/Cu2+). Metalli ioonide keemiline potentsiaal metalli- ja lahuse faasis on erinev. Sellel põhjusel hakkavad metalli ioonid läbi piirpinna minema üle sellesse faasi, milles nende keemiline potentsiaal on madalam. Kuna ioonid on elektriliselt laetud, siis selline üleminek põhjustab faaside laadumise. Oletame, et Cu2+ ioonid liikusid lahusest vase pinnale. Metalne vaskelektrood omandab sellisel juhul positiivse laengu. Saanud positiivse laengu, tõmbab vaskelektrood lahusest faaside eralduspinnale anioone, millised püüavad neutraliseerida vaskelektroodi positiivset laengut. Elektrostaatilise külgetõmbe tõttu
Suunad näitavad antud suunas kulgevate vektorite projektsioone kristallograafilistele telgedele, mis on vahendatud vaiksemate täisarvuliste väärtusteni. 7.Millised on amorfsed materjalid?Amorfseteks kutsutakse materjale, mis on mittekristallilised, st. Puudub korrapära ja korduvus pikkadel aatomdistantsidel .8.Mis on faaside vahelised piirpinnad materjalis? Faaside vahelised piirpinnad võivad olla kui piirpinnad erinevate kristallmodifikatsioonide vahel.Piirpinnaa energia suurus sõltub piirpinna tuubist. 9.Loetlege võimalikud laengukandjad ioonilises materjalides? ioonilistes materjalides on laengukandjateks ioonid. 10.Mis on materjali optilised omadused? Optilised omadused on materjali vastumõju temale rakendatud valgustatud elektromagneetilisele kiirgusele. 11.Mis on süsteemivabadusastmete arv? Vähim sõltumatute muutujate arv (rõhk, komponentide kontsentratsioonid erinevates faasides, temperatuur), mis on vajalik süsteemi oleku
(temperatuur, mehaanilised jõud jt.). ➢ Reaktsioonidest ümbritsevas keskkonnas sisalduvate ainetega. Liigitus: ➢ Üldine ja laiguline- atmosfääris, tekkinud kiht vähendab edasist korrosiooni. ➢ Pisteline (auklik, nn pitting)- tekivad süvendid ja augud. Tekib C-terasest kuumavee torudel, Al ja tema sulamitel, Cu, roostevaba teras merevees. ➢ Pilu - detailide vahel, ka Cu ja Zn plekk, värvitud plekk. ➢ Piirpinna- keevitus, kuni 2 cm eemal, põhjustatud temperatuuride erinevusest. ➢ Hõõrde- elektrokeemiline + mehaaniline. Kontakt- 2 või rohkem erinevat metalli või sulamit koos; teras koos Cu neetidega, Al plekk ja Fe poldid 93. Korrosiooni keskkonnad. ➢ Atmosfäär- õhk Kõige suuremad kaod. Niiskus, mis sisaldab lahustunud hapnikku; S- ühendid; NaCl (mere atmosfäär); lahja H2SO4 (happevihmad) - tööstuskeskkonnas.
Korrosioon jaguneb järgmiselt: keemiline- (kõrgetel temperatuuridel, elektrolüütide osavõtul), elektrokeemiline- (tekib galvaanipaar ning anoodiks olev metall hävib), bioloogiline- (organismide elutegevusetulemusel) ning erosioonkorrosioon (mehaailiste jõudude toimel). f. Levinuimad korrosiooni ilmingud on: ühtlane-, pisteline- (roostevabateras), laiguline- (süsinikterased atmosfääris), piirpinna- (keevisliidesed), kihtide vaheline- (kihilised materjalid), kontakt- (roostevabateras süsinikuga), kristallidevaheline- (valatud detailid), pinge- ja erosioonkorrosioon. 25. Tsingi korrosiooni seaduspärasused vees ja vesilahustes ning atmosfääris. Millised protsessid leiavad aset tsingitud teraspleki ja tsingitud terasest konstruktsioonielementide korrosioonil? Kuidas valmistatakse tsinkkatet metallidele
olekus. 5200 kilomeetri sügavusel muutub tuum taas tahkeks, ehkki ta on ilmselt sulamispunktile väga lähedal.[6] Maakoorest eristatakse litosfääri, mis on oluline mõiste laamtektoonika seisukohalt. Litosfäär hõlmab Maa ülemise kihi 50...300 kilomeetri sügavuseni. Litosfääri alumiseks pinnaks on astenosfääri ülemine pind. 660 kilomeetri sügavuses toimub viimane oluline hüpe seismiliste lainete levikukiiruses enne vahevöö ja välistuuma piiri. Selle piirpinna järgi jagatakse vahevöö üle- ning alavahevööks. Vahevöö alaosas on D"-kiht, mis ulatub vahevöö ja tuuma piirilt 220...250 kilomeetrit kõrgemale. See on kiht, kus seismiliste lainete levikukiirus sügavuse suurenedes ei muutu.[3] 4.3 Kuu Kuu on meile lähim taevakeha, keskmiselt vaid 384 400 km kaugusel. Kuna Kuu orbiit on küllalt piklik, siis muutub tema kaugus Maast piirides 356 410 km kuni 406 700 km. Sellega kaasnevat Kuu näiva suuruse muutumist võib isegi silmaga märgata
3)Erosioon osakeste mehaaniline lahtirebimine pinnalt liikuva gaasi või vedeliku toimel(nt torustikes). 4)Bioloogiline mehhanism on kahesugune a) mikroorganismid toodavad ühendeid(happeid), mille toimel metall korrodeerub(nt. väävlibakterid vajavad elutegevuseks väävli ioone) b) elusorganismid tarvitavad elutegevuseks materjale, millel nad elavad(nt. puus elavad seened). Tüüpilised korrosioonikahjustuste ilmingud on ühtlane korrosioon, laiguline korrosioon, pisteline korrosioon, piirpinna korrosioon, pilukorrosioon, hõõrdekorrosioon, kontaktikorrosioon, kihtkorrosioon, kihtide vaheline korrosioon, kristallide vaheline korrosioon, kristallide sisene korrosioon, väsimuskorrosioon. . Kontaktkorrosioon toimub elektrokeemilise kemismi järgi kui kontaktis on 2 metalli või metallisulamid. Nendes kohtades moodustub galvaaniline baas, milles negatiivsema potentsiaaliga metall või tema sulam on anoodiks,
3) erosioon ehk mehaaniline korrosioon seisneb aine ja materjali osakeste ärakandes liikuvate vedelike või gaasi voogude poolt. 4) bioloogiline korrosioon mikroorganismid toodavad ühendeid (happed), mille toimel metall korrodeerub. Need on mikroorganismid, mis vajavad elutegevuseks antud metalli ioone. Ühtlast ja laigulist korrosiooni vähendatakse pinna katmisega, pisteliselt sobiva materjali valikuga vajalikule konstruktsioonile, piirpinna korrosioonile tuleb valida sobiv keevituse tehnoloogia ja ka materjal, pilu korrosiooni korral tuleb pind hoida puhas jne. 34. Raua ja raua sulamite korrosiooni...: Elektrolüütide lahustes kõige ohtlikumad korrosiooni kiirendajad on kloriidioonid ja lihtaine hapnik. Hapniku sisalduse mõju raua korrosioonile destilleeritud vees 25 C juures, kui hapniku sisaldus vees on 16cm ³/dm³, siis korrosiooni max kiirus on 300 mg*dm³/p. teras on raua
alandab lahuse sulamistäppi 1,86 C ja tõstab keemistäppi 0,52 C, elektrolüütide lahused aga kordi rohkem vastavalt tekkinud ioonide arvule. Kui ühes aine faasis (nimetame teda nüüd dispersiooni keskkonnaks) sisaldab suures hulgas teises faasis olevaid olevaid väikesi (tüüpiliselt diameetriga 1 – 1000 nm) osakesi, siis seda süsteemi nimetatakse dispersiooniks. Dispersioonide käitumist määrab oluliselt faasidevahelise piirpinna olemasolu ja viimane on seda suurem, mida peenem on dispergeeritud faas. 13 Hästidispergeeritud süsteeme nimetatakse kolloidideks (osakesed alla 100 nm). Kolloidid peegeldavad ja hajutavad valgust (Tyndalli efekt). Kolloidosakesed on elektriliselt laetud. See laeng tuleneb laetud gruppidest osakese pinnal ja vastupidise laenguga ioonide adsorptsioonist ümbritsevast dispergeerivast keskkonnast. Nii
Korrosiooni tulemusena metallilised materjalid purunevad kas osaliselt või täielikult muutudes kasutamiskõlbmatuteks. Korrosioonile alluvad peaaegu kõik metallid ja sulamid Üldine ja laiguline- atmosfääris, tekkinud kiht vähendab edasist korrosiooni. Pisteline (auklik, nn pitting)- tekivad süvendid ja augud. Tekib C terasest kuumavee torudel, Al ja tema sulamitel, roostevaba teras merevees. Pilu detailide vahel, ka Cu ja Zn plekk, värvitud plekk. Piirpinna- keevitus, kuni 2 cm eemal, põhjustatud temperatuuride erinevusest. Hõõrde - elektrokeemiline + mehaaniline. Kontakt- 2 või rohkem erinevat metalli või sulamit koos; teras koos Cu neetidega, Al plekk ja Fe poldid 1. Sise- ja välistegurid korrosioonil Välistegurid Keskkonna koostis st. lahustunud soolad a) hüdrolüüsuvad soolad pH muutub; b) halogeniidioonid suurendavad korrosiooni; kõrged kontsentratsioonid vähendavad O2 lahustumist.
seep). Pindaktiivsed ained on pika süsinikahelaga molekulid, mille ühes otsas on aktiivne rühm, näiteks karboksüülrühm (-COOH), sulforühm (-SO3H). Üks ahela ots on vett tõrjuv (hüdrofoobne), teine veelembeline (hüdrofiilne). Märgumine ja kapillaarsed nähtused Vedelikutilga käitumine kolme faasi piirpinnal on määratud pindpinevusjõudude vahekorraga. Märgumise ulatust iseloomustab äärenurk , mis moodustub faaside piirpinna ja tilga puutuja vahel. · Märguvad pinnad -hüdrofiilsed pinnad (ioonvõrega mineraalid - silikaadid, sulfaadid, metallioksiidid ja hüdroksiidid). Kui vedelik märgab pinda, tõuseb ta kapillaarides ja poorides üles. Vedelikusamba kõrgus on määratud kapillaari raadiuse, vedeliku tiheduse ja pindpinevusega. · Mittemärguvad pinnad -hüdrofoobsed pinnad (metallid, enamik molekulaarse struktuuriga orgaanilisi ühendeid)