Osmiriidiumi sulatamisel leelisega kaasneb terav iseloomulik lõhn. Hiljem selgus, et lõhna põhjustab üks element, mis sai selle omaduse tõttu nimeks osmium (kreeka keeles osme ,,lõhn"). Osmiumi tootmiseks kasutatakse vase-nikli-sulfiidseid maake ja vase- molübdeenimaaki, mis sisaldab plaattina. Maakide töötlusjäägist pärinevat toormest eraldatakse osmiumi kuumutamisel õhus temperatuuril 800 900 °C. Aurufaasi läinud osmiumtetraoksiid absorbeeritakse NaOH lahusega. Puhas metall redutseeritakse vesinikuga. Levimus ja kasutus. Osmium on looduses haruldane ja hajutatud element, mis levimuselt maakoores on 79. kohal ja seda on seal 0,0001 %. Tähtsamad mineraalid maakoores on ehemetallide sulamid: osmrutiin (Os-Ru sulam), osmiriidium (Os-Ir sulam) ja looduslik Au-Os sulam. Osmium on ülikõvade ja kulumiskindlate sulamite koostismetall. Os-Ir-Ru-sulamist
79.kohal ja seda on seal 0,0001 %. Osmiumi leidub maakoores tähtsamates mineraalides (ehemetallide sulamites), nagu osmrutiin (Os-Ru sulam), osmiriidium (Os-Ir sulam) ja looduslik Au-Os sulam. 3. Saamine, tootmine Osmiumi tootmiseks kasutatakse vase-nikli-sulfiidseid maake ja vase-molübdeeni maaki, mis sisaldab plaatinat. Maakide töötlusjäägist pärinevat toormest eraldatakse osmiumi kuumutamisel õhus temperatuuril 800 900 °C. Aurufaasi läinud osmiumtetraoksiid absorbeeritakse NaOH lahusega. Puhas metall redutseeritakse vesinikuga. Osmium on ülikõvade ja kulumiskindlate sulamite koostismetall. Os-Ir-Ru-sulamist valmistatakse kvaliteet täitesulepeade sulgi, mis on kulumiskindlad ja peene kirjaga. Os-W-Mo-sulamist valmistatakse eriotstarbelisi dioode, Os-Pd-sulamist elektrikontakte täppis aparatuuris. Osmiumit kasutatakse samuti kellavedrudes, kompassinõeltes ja juveelitoodetes. 4
aldehüüd/ketoon (R-CO-R) ester (R-COOR) alküülhaliid (R-hal) eeter (R-O-R) aromaatne ühend (Ar-H) alkaan (R-H) vedelike lahustumisel lahus enamasti soojeneb, temperatuuri tõstes lahustuvus suureneb olekudiagrammid kolmikpunkt B tingimused (T, p), mille korral kolm faasi/agregaatolekut on tasakaalus. kriitiline punkt D tingimused (T, p), mille korral kaob erinevus vedela ja aurufaasi vahel . faasisiirded: mitteelektrolüütide lahjendatud lahuste kolligatiivsed omadused kolligatiivsed omadused lahuste füüsikalised omadused, mis sõltuvad lahuste kontsentratsioonist, aga mitte aine omadustest. ideaalne lahus puudub osakestevaheline toime, soojusefekt ja ruumalaefekt. lõpmata lahja lahus väga lahja lahus, mis käitub peaaegu ideaalse lahusena.
Seotud keemiliste potentsiaalide ja kontsentratsiooni gradientidega, mida kirjeldatakse rõhu kujul. Rektifikatsiooni selgitus Aur, mis on madala keem. temp eraldub esimesena. Osa sellest destilleerub kuid selleks ajaks on ta madalama koostisega. Nii hakkab aurufaasi kogunema kõrgema keem. temperatuuriga aine ja vedelfaasi madalama keem. temperatuuriga aine Aseotroopne lahus lahus, kus on selline koostise vahekord, mistõttu mõlema komponendi keemistemperatuur on sama ja neid ei saa destilleerimisel eraldada Ostwaldi lahjendusseadus pH ja vee ioonkorrutis Nõrkades hapetes leitakse K järgi ja selle järgi pH, sest akt
kogurõhuga 25. Reaalse gaasi põhiomadused. Reaalsete gaaside üheks põhiomaduseks on asjaolu, et neid on alati võimalik teatud tingimustel kondenseerida (veeldada). 26. Reaalse gaasi kriitiline punkt. Mida kõrgem on temperatuur, mille juures jälgitaks rõhu ja erimahu vahelist seost, seda väikesem on küllastustemperatuuril oleva vedeliku ja küllastunud auru erimahu erinevus (v' ja v'' erinevus, ehk aurufaasi ja vedelfaasi tiheduse erinevus on väiksem). Temperatuuri tõusuga toimub see seni, kuni muutub v' ja v'' vahe nulliks , see toimub temperatuuril temperatuuril Tk. Temperatuur Tk on aine kriitiline temperatuur- punkt. Aine kriitilisel temperatuuril kaob vedel- ja aurufaasi vahel erinevus. 27. Reaalse gaasi olekuvõrrandid (mõned võrrandi näited) Van der waalsi võrrand a p 2 (v b) RT v 28
REAKTSIOONI KIIRUS keemilise reaktsiooni kiirus – saaduste/lähteainete hulga muutust ajaühikus. (Homogeense) reaktsiooni kiirus (v), põhiühik mol/dm3⋅s – ruumalaühikus ajaühiku jooksul toimuvate reaktsiooni elementaaraktide arv; mõõdetakse lähteaine või saaduse kontsentratsiooni muutusega ajaühikus, seejuures lähteainete kontsentratsioon ajas väheneb (Δc<0) ja saaduste kontsentratsioon kasvab (Δc>0). c 2 c1 v t 2 t1 keskmine kiirus: hetkeline e tõeline kiirus: c dc v lim ( ) t 0 t dt reaktsiooni kiirust mõjutavad tegurid: ainete iseloom, kontsentratsioon (gaasiliste ainete korral rõhk), temperatuur, segamine, peenestamine, katalüsaatorid. a) kiiruse sõltuvus kontsentratsioonist massitoimeseadus – konstantsel temperatuuril on reaktsiooni kiirus on...
Esineb soojus- ja ruumalaefekt (∆H≠0; ∆V≠0). Need on mitteelektrolüütide lahjad lahused, kus n<0,1…0,2 mol/kg; faaside lahused. Reaalsed lahused ei ole ideaalsed ei lahustunud aine ega lahusti suhtes. Mõlema lisamisel esineb soojus- ja ruumalaefekt. 3. aururõhk lahuse kohal. Keemine, külmumine: Isegi keemistemperatuurist hulga madalamal temperatuuril leidub alati vedelikumolekule, mille kineetiline energia (Ek) on piisavalt suur, et end vedelikust lahti rebida ja minna üle aurufaasi. Samaaegselt toimub ka pöördprotsess — kondensatsioon. Kui need kiirused saavad võrdseks, tekib tasakaal vedeliku- ja aurufaasi vahel. Seda auru nimetatakse küllastunud auruks ja selle poolt avaldatud rõhku küllastatud auru rõhuks. Aurustumine on endotermiline protsess ja kui temperatuur kasvab, aurustumine intensiivistub ja küllastunud auru rõhk kasvab. Mittelenduva aine lahus — sel juhul on osa lahuse pinnast kaetud mittelenduva aine
4. Kas niitkristalli kasvamisel pindest toimub materjali sadestumine kristalli tipus või kristall kasvab altpoolt? Kasvatamine pindest tähendab materjali sadestumist kristalli tipus 5. Mis on niitkristallide kasvu allikad kristallide kasvamisel pindest? Dislokatsioonide tekkekohad 6. Millised tingimused peavad olema täidetud niitkristallide kasvuks aurusadestamisel gaasifaasist. Meetod põhineb lähtematerjali kuumutamises ja aurustamises, järgnevas massiülekandes läbi aurufaasi ja kondenseerumises jahutustsoonis. 7. Milles seisnevad niitkristallide saamise keemilised meetodid? Niitkristallid saadakse keemilise reaktsiooni teel aurustatava materjali ja ümbritseva gaasilise keskkonna vahel, kus lenduvad komponendid suunatakse sadestus- ja kristallisatsioonitsooni. 8. Kas rasksulavate ühendite niitkristalle saamisel auru-gaasifaasist sadestamisel aurustatakse kogu rasksulav ühend? Põhjendage vastust! *** 9
leidub alati vedelikumolekule, mille kineetiline energia on Kui rakendada kõrge kontsentratsiooniga lahuse piisavalt suur, et end vedelikust lahti rebida ja minna üle poolele osmootsest rõhust kõrgemat rõhku, hakkab aurufaasi. Samaaegselt toimub ka pöördprotsess ehk toimuma pöördosmoos ehk lahusti molekulide kondensatsioon. Kui aurustumise ja kondenseerumise kiirused saavad liikumine väiksema kontsentratsiooniga lahuse suunas. Ühesuguse osmootse rõhuga lahuseid nimetatakse võrdseks, tekib tasakaal vedeliku- ja aurufaasi vahel.
polaarsusest. Tavalisel temperatuuril on alkoholide molekulid vesiniksideme tekkimise tõttu ühe alkoholimolekuli hapnikuaatomi ja naabermolekuli vesinikuaatomi vahel assotsieerunud. Kuigi vesinikside on tunduvalt nõrgem tavalistest keemilistest sidemetest, on ta siiski küllalt märkimisväärne. Alkoholide kõrged keemistemperatuurid vastavate eetrite või süsivesinikega võrreldes on seega tingitud vajadusest lõhustada vesiniksidemeid molekulide üleminekul aurufaasi, milleks kulub täiendav hulk energiat. Teiselt poolt põhjustab selline assotsieerumine molekulmassi suurenemise, millega kaasneb lenduvuse vähenemine. Ühealuseliste küllastunud alkoholide homoloogilise rea esimesed liikmed on vedelikud, alates C12-st on selle rea liikmed tahked ained. Pentanool sisaldav viite süsiniku ja on seetõttu vedelik. Aine on värvitu ja iseloomuliku lõhnaga. Pentanool lahustub vees halvasti, kuid hästi orgaanilistes lahustites.
18. Miks kondenseerub aur kapillaarides madalamal rõhul kui tasapinnal? Kapillaarkondensatsioon See nähtus esineb poorsete adsorbentide korral. Zigmondi leidis 1911.a., et kui vedelik märgab kapillaari seina, kondenseeruvad aurud madalamal rõhul, kui siledal pinnal. Asetades peenesse kapillaari raadiusega r vedelikku, tekib nõgus menisk. Nõgusal pinnal toimub pindkihi molekul suurema arvu naabermolekulidega kui kumeral pinnal. Seetõttu on vedeliku molekulil nõgusalt pinnalt raskem aurufaasi minna kui kumeralt meniskilt. Pindpinevuse määramise juures leidsime, et veesamba kõrgus kapillaartorus on h= 2/rg. Samuti teame eelnevast Laplace võrrandist ln = . Asendades ln = . , siis RT ln V/r. Näeme, et vedelikumeniski kohal olev aururõhk kapillaaris sõltub kapillaari raadiusest ja pindpinevusest. Nõgusa pinna korral on tasakaaluline aururõhk madalam kui siledal või kumeral pinnal
Enamikku aineid saab temperatuuri ja rõhu muutmise teel viia üle mis tahes agregaatolekusse. Kui näiteks kristalli temperatuur tõuseb, muutub molekulide võnkumine ümber tasakaalupunktide nii ulatuslikuks, et kristall sulab. Toimub faasisiire, milles tahkis muutub vedelikuks. Kui vedelik kuumutada piisavalt kõrge temperatuurini, tekivad kogu vedelikus aurumullid (keemine) ja vedelik muutub gaasiks (aurustumine). 8.13.Aine oleku diagram Iga aine olekudiagrammil on vedeliku ja aurufaasi tasakaalu kõveral (keemiskõveral) olemas kriitiline punkt, millest kõrgemal algab ülekriitiline piirkond. Kriitilisest punktist edasi on vedelik ja selle aur eraldamatud ning on kadunud erinevus vedela ja gaasilise oleku vahel. Kriitilisest punktist kõrgematel rõhkudel ja temperatuuridel muudab temperatuuri ja rõhu muutus ainult fluidumi tihedust, kuid ei põhjusta ülekriitilise fluidumi üleminekut vedelasse või gaasilisse faasi
ja orgaanilise happe vesilahuse piirpinnal. 16. Kapillaarkondensatsioon See nähtus esineb poorsete adsorbentide korral. Zigmondi leidis 1911.a., et kui vedelik märgab kapillaari seina, kondenseeruvad aurud madalamal rõhul, kui siledal pinnal. Asetades peenesse kapillaari raadiusega r vedelikku, tekib nõgus menisk. Nõgusal pinnal toimub pindkihi molekul suurema arvu naabermolekulidega kui kumeral pinnal. Seetõttu on vedeliku molekulil nõgusalt pinnalt raskem aurufaasi minna kui kumeralt meniskilt. Pindpinevuse määramise juures leidsime, et veesamba kõrgus kapillaartorus on h= 2/rg. Samuti teame eelnevast Laplace võrrandist ln =. Asendades ln =. , siis RT ln V/r. Näeme, et vedelikumeniski kohal olev aururõhk kapillaaris sõltub kapillaari raadiusest ja pindpinevusest. Nõgusa pinna korral on tasakaaluline aururõhk madalam kui siledal või kumeral pinnal. Küllastunud aur kondenseerub peenikestes kapillaarides
C Vee oleku diagramm: vesi kolmikpunkt (O) vastab tingimustele (T, p), mille korral 1 atm on tasakaalus kolm faasi (erinevat agregaatolekut); kriitiline punkt (C) vastab tingimustele (T, p), mille jää korral kaob erinevus vedela ja aurufaasi vahel. O aur 0 0C 0 100 C T TÜ, Füüsikalise Keemia Instituut Keemia alused
C Vee oleku diagramm: vesi kolmikpunkt (O) – vastab tingimustele (T, p), mille korral 1 atm on tasakaalus kolm faasi (erinevat agregaatolekut); kriitiline punkt (C) – vastab tingimustele (T, p), mille jää korral kaob erinevus vedela ja aurufaasi vahel. O aur 0 0C 0 100 C T TÜ, Füüsikalise Keemia Instituut Keemia alused
Kriitilisest temp. kõrgemal eksisteerivat olekut nim. superkriitiliseks olekuks. Kahekomponendilised süsteemid- sageli on kasutussel diagrammid kahemõõtmelises teljestikus. Praktikas on rõhk muutumatu olles = välisrõhuga. Eksisteerivad alad kus on tasakaalus kaks faasi. Diagrammilt saab lugeda temp. antud kahest ainest koosnev segu sulab või aurustub ning milline on seejuures tekkiv auru ja vedeliku faasi koostis. Tasakaal vedela ja aurufaasi vahel- küllastatud aur on temaga oleva vedeliku suhtes rikkam jlenduvama komponendi poolest. Maksimum ja min. keemistemp. Koostis diagrammil vastavad küllastatud auru ja lahuse niisugusele tasakaalule, mille juures mõlemad faasid on ühesugune koostis. Nendes punktides läheb vedelik aurumisel aurufaasi koostise muutuseta. Selliseid kahekomponendilisi segusid nim. aseotroopseteks segudeks.
Molekulaarkimp epitaks Protsessi viiakse läbi vaakumis ja tänu väga madalale sadestumiskiirusele saab see toimuda epitakselt ehk sarnaselt kristallide moodustumisele. Protess ise keeruline... Impulss-laser sadestus Selle tehnika puhul fokusseeritakse suure energiaga pulseeriv laser materjalile, mida tahetakse kileks sadestada. Laserkiir aurustab materjali ja see sadestub materjali vastas asuvale pinnale. Protsess toimub vaakumis. Keemilise aurufaasi sadestus (CVD) Kasvatusalused asuvad reaktoris, kuhu lastakse termiliselt ebastabiilset ja kasvatavat komponenti sisaldavat gaasi. Reaktori temperatuuri tõstetakse kuni gaas laguneb ning eraldunud tahke osa sadestub kilena alustele ja jääkgaas imetakse reaktorist välja. Tööstuses levinuim õhukeste kilede sünteesimisviis. Metall-orgaaniline aurofaasi epitaksia Lähetaineteks on metallorgaanilised ühendid. Protsess ise on väga keeruline. 44. Nimetage kolm optilise litograafia liiki
· Tasakaalu korral on auru faas küllastatud ja vedeliku kohal on küllastunud auru rõhk, · Temperatuuri tõstmisel küllastunud auru rõhk suureneb, · Auru faas vedela lahuse kohal võib koosneda lahuse mõlema komponendi molekulidest. Raoult'i seadus komponendi aurude osarõhk lahuse kohal on võrdne vastava puhta komponendi moolimurru ja aururõhu korrutisega. p(lahusti)=C(x(lahusti))*pº(lahusti) · Mittelenduv lahustunud aine vähendab lahusti omadust üle minna aurufaasi ehk mida rohkem on lahuses lahustunud ainet, seda väiksem on lahusti moolimurd. · Kui lahuse mõlemad komponendid on lenduvad, siis lahuse aururõhk on summa mõlema komponendi aururõhkudest. Aururõhu langus lahjendatud lahuse kohal: · Mittelenduva aine lahjendatud lahuse aururõhk võrdub lahusti aururõhuga, · Mittelenduv lahustunud aine ävhendab võrdeliselt kontsentratsiooni vähenemisega lahusti võimet üle minna aurufaasi,
Vedelikel puudub kindel kristallvõre, kui esinevad dünaamilised lähistruktuuri. Nii on enamik veemolekule ümbritsetud vesiniksideme abil seotud veemolekulide poolt. Soojusliikumise tõttu need struktuurid pidevalt lagunevad ja moodustuvad. NH2O -> n=2 3 (assotsiaalid) Aatomite pidev ümberpaiknemine põhjustab vedelike VOOLAVUSE. Vedeliku molekulid on pidevas liikumises. Kõrge kineetilise energiaga molekulid ületavad pinnakihi osakeste tõmbejõu ja väljuvad aurufaasi. Põrkudes vedeliku pinnaga võivad nad minna tagasi vedelfaasi. Kahe protsessi tasakaalu iseloomustab AURURÕHK, mis kirjeldab vedeliku molekulide kontsentratsiooni aurufaasis. Kui vedeliku aururõhk muutub võrdseks välisrõhuga, hakkab vedelik keema ja vastav temp. on KEEMISTEMP: vedeliku struktuuri peegeldab viskoossus ja pindpinevus. VISKOOSSUSEKS nim. ühe vedelikukihi võimet takistada teise kihi liikumist või avaldada vastupanu mõne teise keha liikumisele vedelikus.
m lahus 260.5 g p lahusti = CX lahusti * p°lahusti m NaCl 10.5 g n NaCl = = = 0.179 mol Võrrand näitab, et mittelenduv lahustunud aine vähendab lahusti tendentsi üle minna M NaCl 58.5 g/mol aurufaasi mida rohkem on lahuses lahustunud ainet, seda väiksem on lahusti moolimurd Kui lahuse mõlemad komponendid on lenduvad (näit. vesi + etanool), siis lahuse m lahus 260.5 g
Sõltuvalt märgab kapillaari seina, kondenseeruvad aurud madalamal rõhul kui vahemikus ei kutsu esile koagulatsiooni. Põhjuseks on vastasioonide sellest, kas assotsiaadid on katioonse või anioonse iseloomuga, siledal pinnal. Vedeliku molekulil on nõgusalt pinnalt raskem väljavahetamine. See on eriti iseloomulik mitmevalentsete ioonidega jagatakse poolkolloidid katioonaktiivseteks või anioonaktiivseteks. aurufaasi minna kui kumeralt meniskilt. Aururõhk kapillaaris sõltub elektrolüütide lisamisel kolloidlahusele. Kõigepealt toimub Viimaste hulka kuuluvad seebid, mis ongi poolkolloididest kapillaari raadiusest ja pindpinevusest. Nõgusa pinna korral on potentsiaaliandvate ioonide laengu kompenseerimine kuni - enamkasutatavad ained. Seebi all mõistetakse ühealuseliste tasakaaluline aururõhk madalam kui siledal või kumeral pinnal
A soojus adsorbaadi kondensatsioonisoojusest. Samuti on adsorbendi-adsorbaadi ja vastupidi vahelised koosmõjud sarnased. 4. Võib esineda hüstereesinähtus. Toimub pooride erinev täitumine rõhu tõstmisel ja alandamisel.5. kapillaarne kondensatsioon. Kapillarkondensatsioon: poorsete absorbentide korral. Kui vedelik märgab kapillaari seina, kondenseeruvad aurud madalamal rõhul kui siledal pinnal. Vedeliku molekulil on nõgusalt pinnalt raskem aurufaasi minna kui kumeralt meniskilt. Aururõhk kapillaaris sõltub kapillaari raadiusest ja pindpinevusest. Nõgusa pinna korral on tasakaaluline aururõhk madalam kui siledal või kumeral pinnal. Küllastunud aur kondenseerub peenikestes kapillaarides vedelikuks juhul, kui vedelik märgab kapillaari seinu, kuna kapillaaris on meniski kohal aururõhk p0-st madalam kui tasasel pinnal (ph < p0). Seda nähtust nimetatakse kapillaarkondensatsiooniks. Elektrolüütide A: A-d põhjustavad
oluliselt enam energiat kui nende ühendite korral, milles vesiniksidet ei esine. ➢ Keemiliselt on vesi aktiivne ühend – reageerib paljude metallidega, mittemetallidega, sooladega (hüdrolüüs) ja oksiididega. ➢ Iga vee molekul võib osaleda 2 H-sideme moodustamisel. Tekib ruumiline võrk kus iga O aatom asub tetraeedri tsentris, H aatomid aga selle nurkades. ➢ Tavatemperatuuril säiluvad vees H-sidemed (50%), aurufaasi üleminekul need purunevad täielikult. ➢ Paljud ained lahustuvad, sest moodustub H-side lahustunud aine ja lahusti molekulide vahel. ➢ Leelismetallidega 2Na + 2H2O →2NaOH + H2 ➢ Happeliste oksiididega SO2+ H2O →H2SO3 ➢ Aluseliste oksiididega CaO + H2O →Ca(OH)2 ➢ Vähedissotsieeruva ühendina on paljude ioonvahetusreaktsioonide saaduseks. 44. Loodusliku vee koostis.
freoon CF2Cl2 (m=1; n=0; p=2) saame R012 ehk R12 12/11/10 MSJ 0120 Soojuspumbad 24 Külmutusagensside tähistus Soojuspumpades kasutatakse ka külmutusagensside segusid, mis omavad eritähistust. Külmutusagensid võivad olla aseotroopsed või anaseotroopsed. Aseotroopsed agensid koosnevad kahest erinevast gaasist, mis moodustavad segamisel ühe homogeense terviku, millega tasakaalus oleva aurufaasi koostis on samasugune kui vedelfaasi koostis. Selline segu keeb kindlal temperatuuril, kusjuures segu koostis külmutusseadme tööprotsessis ei muutu. Aseotroopseid gaasisegusid ei saa rektifitseerida (destilleerimise vorm). Taoliste agensite tunnusnumbrid algavad 500st (näit. aseotroopsed segud R500, R502 jt). 12/11/10 MSJ 0120 Soojuspumbad 25 Külmutusagensside tähistus Anaseotroopsed (seotroopsed) agensid koosnevad kuni kolmest
P=P1 + P2. nim.jääval ruumalal toimuva keemilise reaktsiooni soojus efektsi, katalüsaatoreid nim. fermentideks ehk ensüümideks ja nad reguleerivad Kui lahustunud aine on mittelenduv, siis ülärõhk võrdub lahuse mis on võrdne reaktsiooni energia muutuda, saaduste ja reaktsioonide kulgu taimedes ja elusorganismides. osarõhuga. Aine osekeste üleminek vedelfaasist aurufaasi oleneb lähteainete siseenergiate vahega. 6.1 Lahused. Dispergeeritud süsteemid. Solvatsioon sellest, millise osa vedeliku pinnast võtavad enda alla komponendi Isobaarne soojusefekt (qp) jääval rõhul toimuv soojusefekt. Lahuseks nim. kahest või enamast ainest koosnevat homogeenn-set molekulid, see aga oleneb kontsentratsioonist. Seega peab kompo-
P=P1 + P2. q FeO * p Fe2O3 * r H2O Tehnikas kasut Me-d, mis sisaldavad osad, seejärel toim aine keem lag-ne (fotolüüs) või ühin-ne (fotosüntees). Kui lah-nud aine on mittelenduv, siis ülarõhk=lahuse osarõhuga. lisanditena teisi met-e, tekitavad elektrolüüdi lahuse toimel pid-lt Suure en-ga kiirgusliigid: gamma- ja röntgenkiired, ioniseerivad ka v püs- Aine osakeste üleminek vedelfaasist aurufaasi olen sellest, millise töötavaid galvaanielemente, mille töötamisel lähevad akt-se id moke ja põhj-d kiirguskeemilisi reakts-e. osa vdku pinnast võt enda alla komponendi mok-d, see aga oleneb metalli ioonid lahusesse ja met hävib. Katalüüs Katalüsaator on reakts-i kiiruste muut-st põhj aine, mis kontsentratsioonist
Kui kõverusraadius on negatiivne(nõgus), siis on exp suurem ühest, ph väiksem kui p0 Nagu võib valemist näha võib olla peamiselt kaks olukorda (ph suurem p0) või väiksem. Esimeses olukorras on aururõhk kapillaaris VÄIKSEM. Järelikult toimub kondensatsioon, KAPILLAARKONDENSATSIOON. Siit võib omakorda järeldada, et kui vedelik märgab kapillaari seinu, siis aur kondenseerub kapillaarides vedelikuks. Selle nähtuse mehaaniline seletus oleks see, et kumeralt pinnalt on kergem aurufaasi minna kui nõgusalt. Teises olukorras on aururõhk kapillaaris suurem. Järelikult toimub adsorptsioon tasasele pinnale, ADSORPTSIOON. Siit võib järeldada, et kui vedelik ei märga kapillaari seinu, siis aur adsorbeerub tasasele pinnale eelistatult, ei kondenseeru. Kolloidkeemia Kristian Leite 2012 Materjal/aine Kalju Lott 20
Lahuse üldine aururõhk p on sellel juhul võrdne kummagi komponendi auru osarõhkude summaga p=p1+p2 s.o. Daltoni seadus 66. Raoulti seadus Komponendi aurude osarõhk lahuse kohal on võrdne vastava puhta komponendi moolimurru ja aururõhu korrutisega: lahusti C x lahusti * lahusti Võrrand näitab, et mittelenduv lahustunud aine vähendab lahusti omadust üle minna aurufaasi –mida rohkem on lahuses lahustunud ainet, seda väiksem on lahusti moolimurd 67. Lahuse keemistemperatuuri tõus Vedelik keeb temperatuuril, mille juures tema aururõhk saab võrdseks välisrõhuga. Lahuse keemistemperatuur on alati kõrgem kui puhta lahusti keemistemperatuur. Tk i * K e * Cm kus Cm - lahuse molaalne kontsentratsioon (lahjades lahustes Cm ~ CM
Auru faas vedela lahuse kohal võib koosneda lahuse mõlema komponendi molekulidest (näiteks vesi ja etanool). Lahuse üldine aururõhk p on sellel juhul võrdne kummagi komponendi auru osarõhkude summaga p=p1+p2 s.o. Daltoni seadus 62. Raoulti seadus Komponendi aurude osarõhk lahuse kohal on võrdne vastava puhta komponendi moolimurru ja aururõhu korrutisega: lahusti C x lahusti * lahusti Võrrand näitab, et mittelenduv lahustunud aine vähendab lahusti omadust üle minna aurufaasi –mida rohkem on lahuses lahustunud ainet, seda väiksem on lahusti moolimurd 63. Lahuse keemistemperatuuri tõus Vedelik keeb temperatuuril mille juures tema aururõhk saab võrdseks välisrõhuga. Lahuse keemistemperatuur on alati kõrgem kui puhta lahusti keemistemperatuur. Tk i * K e * C m kus Cm - lahuse molaalne kontsentratsioon (lahjades lahustes Cm ~ CM Ke - ebullioskoopiline konstant, sõltub ainult lahusti omadustest (lahusti molaarmassist, keemistemperatuurist ja
osarõhkude summaga p=p1+p2 66. Raoulti seadus. Komponendi aurude osarõhk lahuse kohal on võrdne vastava puhta lahusti C x lahusti * lahusti komponendi moolimurru ja aururõhu korrutisega: Võrrand näitab, et mittelenduv lahustunud aine vähendab lahusti omadust üle minna aurufaasi –mida rohkem on lahuses lahustunud ainet, seda väiksem on lahusti moolimurd 67. Lahuse keemistemperatuuri tõus (graafik ja selgitus). Vedelik keeb temperatuuril mille juures tema aururõhk saab võrdseks välisrõhuga. (aururõhk=välisrõhk) 14
Auru faas vedela lahuse kohal võib koosneda mõlema kompnendi molekulidest (vesi ja etanool). Lahuse üldine aururõhk p on võrdne kummagi komponendi auru osarõhkude summaga p=p1+p2 = Daltoni seadus 66. Raoulti seadus. Komponendi aurude osarõhk lahuse kohal on võrdne vastava puhta komponendi moolimurru ja aururõhu korrutisega: Plahusti = CX lahusti * P°lahusti. Võrrand näitab, et mittelenduv lahustunud aine vähendab lahusti omadust üle minna aurufaasi – mida rohkem on lahuses lahustunud ainet, seda väiksem on lahusti moolimurd. 67. Lahuse keemistemperatuuri tõus (graafik ja selgitus). Kõrgem kui puhta lahusti keemistemperatuur. ∆Tk=i*Ke*Cm, kus Cm - lahuse molaalne kontsentratsioon; Ke-ebulliskoopiline konstant; i- isotooniline tegur. Vedelik keeb, kui küllastunud auru rõhk saab võrdseks atmosfäärirõhuga; lahuse keemistemp. on alati kõrgem kui puhta lahusti keemistemp. 68
Joonis 7.1: Gaasi molekulide kiiruse protsesside (aurustumine .. kondenseerumine) Vedelikust väljuvate molekulide arv sõltub nende kineetilisest energiast, st temperatuurist. Aurust vedelikku minevate molekulide arv sõltub auru tihedusest, tihedus omakorda aga rõhust. Kui auru rõhk vedeliku kohal on küllastunud auru rõhust madalam, siis vedelik aurub, kui suurem, siis aur kondenseerub. Tasakaaluolekus on vedelikust aurufaasi väljuvate ja aurufaasist vedelikku sisenevate molekulide hulgad võrdsed. Auru rõhku, mille juures süsteem on tasakaalus, nim. küllastunud auru rõhuks ning selle väärtus sõltub temperatuurist. Toatemperatuuril vedelate ainete küllastunud auru rõhud on madalamad atmosfäärirõhust. Temperatuuri tõusuga molekulide keskmine kineetiline energia kasvab, seega suureneb ka auru rõhk vedeliku kohal (veeauru rõhk vee kohal 20°C juures 17,535 mmHg, 100°C juures 760 mm Hg)
SESKO Soome Elektrotehniline Standardi Organ SFS Soome Standardiseerimise Liit SM mono- SMA SMA-liides SPC Super PC (füüsikaline kontakt ) SPM iseenese faasimodulatsioon ST ST-liides STM sünkroon edastusmoodul SZ muutuva suunaga keerutus TO tööpistikupesa UV ultraviolet VAD telje suunalise aurufaasi settimine VCSEL püstpinnaline laser-diood WAN laivõrk WDM lainepikkustega kanalite loomine (multipleksimine) ZH halogeenitu I Sissejuhatus 6 1.1 Ajalooline areng Andmesides valguse kasutusele võtmine on inimkonnal olnud tuttav juba kaua ning mitmel eri kujul.. Optilise andmeside uurimine ja areng sai tõelise hoo laseri leiutamisest aastal 1950.
tsirkulatsiooni võimalik korraldada ka pumpade abil (sundtsirkulatsioon). Trumlist väljuv küllastunud aur läbib auruülekuumendi ja suundub sealt aurutorustiku kaudu tarbijale (auruturbiini). Suitsugaaside soojuse paremaks ärakasutamiseks ja kasuteguri tõstmiseks kasutatakse järelküttepindu vee-eelsoojendit e ökonomaiserit ja põlemisõhu eelsoojendit, mis võimaldab energeetilise aurukatla kasuteguri tõsta 90 95%. Kui auru rõhk ületab kriitilise (21,1 MPa), siis kaob vee ja aurufaasi eralduspiir ning trumliga loomuliku tsirkulatsiooniga aurukatel tuleb asendada otsevoolukatlaga, milles vesi pumbatakse läbi järjestikuste küttepindade torude kuni auru vajaliku lõpptemperatuuri saavutamiseni. Joonis 5.46. Kondensatsioon-energiabloki põhimõtteline skeem Aurukatelde areng on olnud tihedas seoses aurumasina arenguga. Esimeste aurukatelde loojateks võib pidada Prantsuse päritoluga Briti füüsikut Denis Papin'i, kelle keedukatel
annaabi.ee 
