kolloidkeemia töös nr 9 kirjeldatud viisil. KOLLOIDOSAKESTE ELEKTROKINEETILISE POTENTSIAALI ELEKTROFOREETILINE MÄÄRAMINE TÖÖ EESMÄRK Uurida elektroforeesi nähtust, mtes piirpinna kolloidlahus-dispersioonikeskkond liikumise joonkiirust. Selle phjal määrata osakeste laengu märk ja arvutada elektrokineetiline potentsiaal ( potentsiaal- DEF: Mõttelist pinda, milles vastasioonid kolloidosakestega enam kaasa ei liigu, nimetatakse nihkepinnaks ehk libisemispinnaks ja sellele pinnale vastavat potentsiaali väärtust nimetatakse -potentsiaaliks). TÖÖVAHENDID Elektrofereesi kiirust mõõdetakse joonisel 1 kujutatud seadmes. TÖÖ KÄIK Hoolikalt pestud ja kuiv U-toru kinnitatakse hoidiku külge, külgtoru täidetakse juhendaja poolt määratud kolloidlahusega, U-torusse kallatakse umbes 15 ml külgvedelikku ja asetatakse kohale CuSO4-ga täidetud vahelahused. Seejärel asetatakse kohale soolasillad ja
Vahtu iseloomustatakse kordsusega . Vahu liikuv ainehulk on sedimentatsioonivoog: Is=vc (1) (v-osakeste Kolloidosakeste puhul toimib raskusjõule vastu difusioon ja NO3- ioonid ei liigu enam graanulaga kaasa.Seda pinda nimetatakse tekkimiseks peab vedelik sisaldama stabilisaatorit vahutekitajat. liikumiskiirus). Sedimentatsioonivoole toimib vastu difusioonivoog. saavutatakse tasakaal (sedimentatsiooni tasakaal). Sedimentatsioon libisemispinnaks ehk nihkepinnaks.Elektrokineetilised nähtused Ilma selleta märkimisväärset ja püsivat vahtu ei saa. Vahu püsivust Osake hakkab liikuma kiirenevalt raskusjõu fg = mg mõjul. Osakese esineb siis kui > 0 (osakese tihedus on suurem keskkonna jagunevad kahte rühma, kus esimese rühma moodustavad iseloomustab eluiga. See on aeg vahumullikese tekkest kuni tema liikumist takistab keskkonna sisehõõrdejõud f=Bv
vastasioonideks ja millised kuloniliste tõmbejõudude toimel kogunevad Ag + lähedusse. Ag+ läheduses on NO3- ioonid tugevasti seotud. Mida kaugemale, seda nõrgemaks muutub side. Adsorbne kiht lõpeb, kui NO3- ioonid hakkavad osa võtma soojusliikumisest, kuid liiguvad veel kaasa kolloidosakesega. Kompenseeriv NO3- laeng jaotubadsorbse ja difuusse kihi vahel. Teatud kaugusest alates NO3 - ioonid ei liigu enam graanulaga kaasa.Seda pinda nimetatakse libisemispinnaks ehk nihkepinnaks. Elektrokineetilised nähtused jagunevad kahte rühma, kus esimese rühma moodustavad elektroforees (kõige tähtsam, seisneb kolloidosakeste liikumises välises elektriväljas teatud kindlas suunas ning meenutab elektrolüüsinähtusi elektrolüütide lahustes.) ja elektroosmoos, mis tekivad süsteemis siis, kui faaside liikumine on põhjustatud välise elektrivälja poolt. Teise rühma moodustavad need, mille korral faaside liikumist põhjustab väline mehaaniline jõud
Kui tuuma (tahke faasi) pinna lähedal on ülekaalus elektrivälja mõju, siis kauguse suurenedes see nõrgeneb ja domineerivaks saab soojusliikumine. See on difuusne kiht. Difuusses kihis jaotuvad ioonid korrapäratult. Ioonid on küll veel elektrostaatiliselt adsorbse kihi laenguga seotud, kuid soojusliikumine põhjustab vastasioonide hajutatud olekut. -potentsiaali definitsioon: Mõttelist pinda, milles vastasioonid kolloidosakestega enam kaasa ei liigu, nimetatakse nihkepinnaks ehk libisemispinnaks ja sellele pinnale vastavat potentsiaali väärtust nimetatakse -potentsiaaliks Lisandite mõju -potentsiaalile -potentsiaal on kolloidosakese püsivuse mõõduks. Sellepärast on kasulik teada kuidas muutub -potentsiaal lahuse kontsentratsiooni muutumisel, elektrolüüdi lisamisel, lahuse pH muutmisel, temperatuuri muutumisel. Indiferentsed elektrolüüdid on elektrolüüdid, millistel ei ole ioone, millised võiksid asetuda kolloidosakese tuuma kristallvõresse
vastasioonideks ja millised kuloniliste tõmbejõudude toimel kogunevad Ag+ lähedusse. Ag+ läheduses on NO3- ioonid tugevasti seotud. Mida kaugemale, seda nõrgemaks muutub side. Adsorbne kiht lõpeb, kui NO3- ioonid hakkavad osa võtma soojusliikumisest, kuid liiguvad veel kaasa kolloidosakesega. Kompenseeriv NO3- laeng jaotub adsorbse ja difuusse kihi vahel. Teatud kaugusest alates NO3- ioonid ei liigu enam graanulaga kaasa. Seda pinda nimetatakse libisemispinnaks ehk nihkepinnaks (-potentsiaal). 23. Elektrokineetilised nähtused. Üldjuhul on kolloidosake laetud. Ta laengu määrab ära -potentsiaal. Elektrokineetilisteks nimetatakse nähtusi, millised võib jagada kahte rühma: 1) väljaspoolt rakendatud elektrivälja toimel kolloidse süsteemi faasid hakkavad liikuma või 2) kus faaside liikumisel tekib potentsiaalide vahe. Esimesse rühma kuuluvad elektroforees ja elektroosmoos - potentsiaali avaldamine elektroforeesil
liikumisel Metalli tugevus seejuures ei vähene, kuna katkevate sidemete asemel tekivad uued. Sellist plastilist deformatsiooni nimetatakse libisemiseks. Pinda, mida mööda dislokatsioon liigub, nimetatakse libisemispinnaks Iga kristallstruktuuri korral on dislokatsioonidel eelistatud pinnad, mis ongi libisemispindadeks. Neil pindadel on omakorda eelistatud suunad, mida nimetatakse libisemissuundadeks. TTK võre korral on libisemispindadeks {111} pinnad ja neil omakorda libisemissuundadeks suunad <110> (joon 5-13) Metallide tugevdamise meetodid Mida kergemini dislokatsioonid metallis liiguvad, seda kergemini metall plastiliselt deformeerub
pannakse laetud (z-potentsiaaliga laetud) osakesed liikuma mehaanilisel jõul. Sadenemispotentsiaal tekib laetud kolloidosakeste kindlasuunalisel liikumisel vedelikus (peenestuskeskkonnas). Kui surume kolloidlahust läbi membraani, siis tekib mälemal pool membraani potentsiaalide vahe, mida nimetame voolamispotentsiaaliks. 22. -potentsiaal ja lisandite mõju -potentsiaalile Mõttelist pinda, milles vastasioonid kolloidosakestega enam kaasa ei liigu, nimetatakse nihkepinnaks ehk libisemispinnaks ja sellele pinnale vastavat potentsiaali väärtust nimetatakse - potentsiaaliks. Indiferentsed elektrolüüdid: on elektrolüüdid, millistel ei ole ioone, millised võiksid asetuda kolloidosakese tuuma kristallvõresse. Kuna vastasioonide kontsentratsioon elektrolüüdi lisamisel suureneb, siis elektriline kaksikkiht surutakse kokku ja selle tagajärjel -potentsiaal alaneb. Mitteindiferentsed elektrolüüdid: sisaldavad kolloidosakeses sisalduvaid ioone
Sellega lõpeb adsorbne kiht. Kui tuuma pinna lähedal on ülekaalus elektrivälja mõju, siis kauguse suurenedes see nõrgeneb ja domineerivaks saab soojusliikumine. See on difuusne kiht. Difuusses kihis jaotuvad ioonid korrapäratult. Ioonid on küll veel elektrostaatiliselt adsorbse kihi laenguga seotud, kuid soojusliikumine põhjustab vastasioonide hajutatud olekut. Mõttelist pinda, milles vastasioonid kolloidosakestega enam kaasa ei liigu, nimetatakse nihkepinnaks ehk libisemispinnaks ja sellele pinnale vastavat potentsiaali väärtust nimetatakse -potentsiaaliks. Elektrokineetilisteks nimetatakse nähtusi, millised võib jagada kahte rühma: 1) väljaspoolt rakendatud elektrivälja toimel kolloidse süsteemi faasid hakkavad liikuma või 2) kus faaside liikumisel tekib potentsiaalide vahe. Esimesse rühma kuuluvad elektroforees ja elektroosmoos. Elektroosmoos see on peenestuskeskkonna liikumine välise elektrivälja mõjul. Peenestatud faas jääb paigale
Metallide plastiline deformatsioon just dislokatsioonide liikumise kaudu. Illustratsioon ääredislokatsiooni liikumise kohta jõu toimel on joonistel 5-9. Dislokatsiooni liikumine läbi kristalli on analoogiline kapsaussi liikumisele. Deformatsioon saab toimuda ka vintdislokatsiooni liikumisel. Metalli tugevus seejuures ei vähene, kuna katkevate sidemete asemel tekivad uued. Sellist plastilist deformatsiooni nimetatakse libisemiseks. Pinda, mida mööda dislokatsioon liigub, nimetatakse libisemispinnaks. Dislokatsioonid ei liigu kõigil kristallograafilistel pindadel ühesuguse kergusega. Iga kristallstruktuuri korral on eelistatud pinnad, mis ongi libisemispindadeks. Neil pindadel on omakorda eelistatud suunad, mida nimetatakse libisemissuundadeks. Libisemispinnad ja libisemissuunad on need, kus osakeste paiknemise tihedus on suurim e kus osakesed puutuvad üksteisega vahetult kokku. Sellisel juhul osakese liikumine jõu toimel lükkab naaberosakese võresõlmest välja
Metallide plastiline deformatsioon just dislokatsioonide liikumise kaudu. Illustratsioon ääredislokatsiooni liikumise kohta jõu toimel on joonistel 5-9. Dislokatsiooni liikumine läbi kristalli on analoogiline kapsaussi liikumisele. Deformatsioon saab toimuda ka vintdislokatsiooni liikumisel. Metalli tugevus seejuures ei vähene, kuna katkevate sidemete asemel tekivad uued. Sellist plastilist deformatsiooni nimetatakse libisemiseks. Pinda, mida mööda dislokatsioon liigub, nimetatakse libisemispinnaks. Dislokatsioonid ei liigu kõigil kristallograafilistel pindadel ühesuguse kergusega. Iga kristallstruktuuri korral on eelistatud pinnad, mis ongi libisemispindadeks. Neil pindadel on omakorda eelistatud suunad, mida nimetatakse libisemissuundadeks. Libisemispinnad ja libisemissuunad on need, kus osakeste paiknemise tihedus on suurim e kus osakesed puutuvad üksteisega vahetult kokku. Sellisel juhul osakese liikumine jõu toimel lükkab naaberosakese võresõlmest välja
toimel on joonistel 5-9 ja 5-10. Dislokatsiooni liikumine läbi kristalli on analoogiline kapsaussi liikumisele. Makroskoopiliselt näeb see välja nii, nagu näidatud joonisel 5-11. Deformatsioon saab toimuda ka vintdislokatsiooni liikumisel (joon 5-12). Metalli tugevus seejuures ei vähene, kuna katkevate sidemete asemel tekivad uued. Sellist plastilist deformatsiooni nimetatakse libisemiseks. Pinda, mida mööda dislokatsioon liigub, nimetatakse libisemispinnaks. Dislokatsioonid ei liigu kõigil kristallograafilistel pindadel ühesuguse kergusega. Iga kristallstruktuuri korral on eelistatud pinnad, mis ongi libisemispindadeks. Neil pindadel on omakorda eelistatud suunad, mida nimetatakse libisemissuundadeks. Libisemispinnad ja libisemissuunad on need, kus osakeste paiknemise tihedus on suurim e kus osakesed puutuvad üksteisega vahetult kokku. Sellisel juhul osakese liikumine jõu toimel lükkab naaberosakese võresõlmest välja. TTK võre
Dislokatsiooni liikumine läbi kristalli on analoogiline kapsaussi liikumisele. Makroskoopiliselt näeb see välja nii, nagu näidatud joonisel 5-11. Deformatsioon saab toimuda ka vintdislokatsiooni liikumisel (joon 5-12). Metalli tugevus seejuures ei vähene, kuna katkevate sidemete asemel tekivad uued. Sellist plastilist deformatsiooni nimetatakse libisemiseks. Pinda, mida mööda dislokatsioon liigub, nimetatakse libisemispinnaks. Dislokatsioonid ei liigu kõigil kristallograafilistel pindadel ühesuguse kergusega. Iga kristallstruktuuri korral on eelistatud pinnad, mis ongi libisemispindadeks. Neil pindadel on omakorda eelistatud suunad, mida nimetatakse libisemissuundadeks. Libisemispinnad ja libisemissuunad on need, kus osakeste paiknemise tihedus on suurim e kus osakesed puutuvad üksteisega vahetult kokku. Sellisel juhul osakese liikumine jõu toimel lükkab naaberosakese võresõlmest välja
annaabi.ee 
