Elektrikaar: alalis- või vahelduvvoolu kaar tekitatakse kahe elektroodi vahele ( 5 - 30 A, 10 - 25 V, 6000 - 10000 oK) elektroodid metalli proovidel on metall ise elektroodiks vahelduvvoolu kaarega saab (statistiliselt) õigema tulemuse. Laser mikroanalüsaator (laser mikroprobe): laserkiirguse impulssidega aurutatakse 50 m kraatri proovi pinda. Sobib ka elusorganismide analüüsiks Induktiivselt seotud plasma (inductively coupled plasma (ICP) Kvartstoru otsa ümber on mähitud pool, läbi mille voolab vahelduvvool. Kvartstoru on kolmekordsete seintega, läbi toru suunatakse argooni voog Argooni voos olevad ioonid ja elektronid, mis liikudes läbi magnetvälja, hakkavad tiirlema ringikujulistel orbiitidel kuumutavad plasmat kuni 10000 oK. Proovi aatomid, sattudes koos argooni vooga plasmasse, ergastuvad ja kvartstoru osa tekib kiirgav "tõrvik", mille kiirgust analüüsitakse monokromaatoriga ICP iseärasused:
Lambi kütmisel pingeallikast katoodi aine aurustub, atomiseerub ja ergastub , andes antud elemendile iseloomuliku valgusspektri. Segavad faktorid- spektraalsed segajad puuduvad, küll on olemas keemilised: mitte dissotseeruvad ühendid, elemendi ioniseerumine; mittekeemilistest segajatest võib esineda pindpinevuse ja viskoossusega kaasnevat lahuse imemiskiiruse muutumist, mis võib oluliselt muuta aatomite kontsentratsiooni leegis. Fooni korrigeerimine- ICP- kvartstoru ota ümber on mähitud pool, läbi mille voolab vahelduvvool; kvarsttoru on kolmekordsete seintega, läbi toru suunatakse argooni voog; proovi aatomid, sattudes koos argooni vooga plasmasse, ergastuvad ja kvartstoru otsa tekib kiirgav „tõrvik“, mille kiirgust analüüsitakse monokromaatoriga. Infrapunane- võnkumite moode ja üleminekuid on palju ja spekter on keeruline. Kuna võnkeüleminekud on seotud konkreetsete sidemete võnkumisega, saab spektri joone olemasolu
Seletage induktiivselt seotud plasma aatomemissiooni spektroskoobi (ICP- AES) tööpõhimõtet. Mis töökomponentidest koosneb seade? Mis komponente määratake keskkonnaproovides selle seadme abil? Maatriksefektid on minimaalsed võrreldes näiteks AASga. Samuti võimaldab AES määrata kuni 60 elementi korraga vastava spektrijoone eraldamise teel. AASi puhul peab vahetama vastava õõneskatoodlampi iga metalli määramisel Plasma genereeritakse raadiosageduse magnetväljas Kvartstoru otsa ümber on mähis, läbi mille voolab vahelduvvool Läbi kvartstoru 3-kordsete seinte suunatakse argooni voog 1. Proov suunatakse plasmasse vesi-argoon aerosoolina 2. Kõrgel temp (6000-8000K)- proovis olevad ühendid atomiseeruvad 3. Aatomid ioniseeruvad ja hakkavad footoneid kiirgama 4. Emiteeritud valgus fokusseeritakse dispergeeriva elemendi abil (MK või polükromaator) Kromatograafia. Seletage mõisted ,,elueerimine", ,,eluent", ,,eluaat",
pööratud jaotus. Valguse suure kiirus tõttu toimub see pidevalt kasvava intensiivsusega edasi- tagasi põrkumine välkkiirelt. Seega tekib kõigi tingimuste täitmise korral tohutult intensiivne, eriliste omadustega, väga lühiajaline valgusimpulss."4 3.2 Optiline pumpamine Optiline pumpamine mis tekitab pööratud jaotuse, toimub fluorestentsvalguse abil. Rubiin varrast ümbritseb ksenooniga täidetud spiraalne kvartstoru, mida omakorda piirab silindrikujuline peegel. Nüüd laetakse suur elektrokondensaator ning juhitakse läbi ksenoontoru võimas vooluimpulss. Kvartstorus tekib lühiajaline tohutult intensiivne ere valgusvälgatus, mille ümbritsev silindriline peegel rubiinvardale koondab. Just see võimas valgusimpulss põhjustabki pööratud jaotuse rubiinkristallis hajunud kroomiaatomites5. 4 TOLANSKY, S., Revolutsioon optikas, 1975, lk 178 5 TOLANSKY, S., Revolutsioon optikas, 1975
esinevat viita, mis osutab ,,pinu tipule" see viit on pinuviit (stack pointer). Tüüpiline pinul realiseeritud operatsioon protsessoris ,,tõmba" pinu tipust ,,sõna 1" ja ,,sõna 2", saada ALUsse, korruta omavahel, ,,lükka" tulemus pinu otsa tagasi. 1. MIKROSKEEMIDE VALMISTAMISE TEHNOLOOGIAID OKSÜDEERIMINE räni-oksiidi kihi tekitamine ränikristalli pinnale. Toimub temperatuuril 1000-1300C. Kõigepealt lahtise otsaga kvartstoru lämmastikku, millega välditakse räniplaatide kokkupuudet õhu ja võimaliku saastumist. Seejärel tööreziim, milleks avatakse üks kraanidest. Kuiv hapnik, märg hapnik ja veeaur. Ränioksiidi kihi paksus tavaliselt 0.5-1 mm. DIFUSIOON pooljuhi kristalli viiakse lisandid vajaliku juhitavusega tsoonide tekitamiseks. Põhineb ainete osakeste tungimisel teise ainesse kõrgel temperatuuril. Difusandid tavaliselt kas doonor- või aktseptorlisandid.
Nende tingimuste mõjul kipuvad osakesed endi asendeid iseseisvalt muutma. Mahud jäävad vahemikku mõnest MB- st sadade GB-deni. Magnetmäluseadmed on mugavad info säilitamiseks, kuid vajavad hoolikat ümberkäimist. PILET 7. Mikroskeemide valmistamise tehnoloogiad. Oksüdeerimine on räni-oksiidi kihi tekitamine räni kristalli pinnale. Oksüdeerimine toimub termiliselt temperatuuril 1000-1300C. Kõigepealt juhitakse lahtise otsaga kvartstoru lämmastikku, millega välditakse räniplaatide kokkupuudet õhuga ja võimalikku saastumist. Seejärel minnakse üle tööreziimile, milleks avatakse üks kraanidest. Kuivhapnik, märghapnik või veeaur. Ränioksiidi kihi paksus on tavaliselt 0,5-1um. Difusioon on protsess, millega viiakse pooljuhi kristalli lisandid, vajaliku juhitavusega tsoonide tekitamiseks. Difusiooni nähtus põhineb aine osakeste tungimisel teise ainesse kõrgel temperatuuril (1100-1300C)
mäluks. Magnetmälu alla jääb kõvaketas, lint, pehme ketas ja optilise mälu alla jääb CD-ROM, CD-RW, DVD, CD-R. (CD-R puhul põletatakse, kirjutakse info, aga CD-ROM on varem pressitud nagu mängud jne). 1. Mikroskeemide valmistamise tehnoloogiad. Oksüdeerimine on räni-oksiidi kihi tekitamine räni kristalli pinnale. Oksüdeerimine toimub termiliselt temperatuuril 1000-1300C. Kõigepealt juhitakse lahtise otsaga kvartstoru lämmastikku, millega välditakse räniplaatide kokkupuudet õhuga ja võimalikku saastumist. Seejärel minnakse üle tööreziimile, milleks avatakse üks kraanidest. Kuivhapnik, märghapnik või veeaur. Difusioon on protsess, millega viiakse pooljuhi kristalli lisandid, vajaliku juhitavusega tsoonide tekitamiseks. Difusiooni nähtus põhineb aine osakeste tungimisel teise ainesse kõrgel temperatuuril (1100-1300C). Difusandid on
ühesuuruste kandjaosakeste kasutamisele, mille puhul vedeliku kolonnist läbisurumiseks rakendatakse rõhku suurusjärgus 50700 atm. Mõistetavalt kasutatakse HPLC-s tugevaid metallkolonne. Tulemuseks on segu komponentide väga hea lahutumine ja protsessi kiirenemine tundidelt minutiteni. Üheks kolonnkromatograafia edasiarenduseks on kapillaarkolonnide kasutuselevõtmine. Kapillaarkolonn on täidiseta pikk metall-, klaas- või kvartstoru läbimõõduga 0,20,6 mm, mille sisepinnale on kantud õhuke vedelikukiht, milles toimub ainete lahutumine. Siit tuleneb ka meetodi nimetus kapillaarkormatograafia. Kapillaarkromatograafia meetod võimaldab kiiremat, efektiivsemat ja kõrgema saagisega lahutamist võrreldes traditsiooni- liste kolonnkromatograafia meetoditega. Peale kromatograafiakolonni voolutamist analüüsitakse lahutunud aineid sobival meetodil.
polaarseid rühmi, seda väiksem lenduvus. Ained peavad sobima detektoriga. Isegi kui lenduvus on piisav, võib polaarsete ainete GC analüüsiga raskusi olla piigid sabatavad. Polaarsuse vähendamiseks ja lenduvuse parandamiseks võib analüüdi derivatiseerida. 132. Täidiskolonnid ja kapillaarkolonnid. Eelised ja puudused? Praegu on tavalisemad kapillaarkolonnid, 20-50 m pikkused 0.2-0.6 mm siseläbimõõduga kvartstoru. Statsionaarne faasi kapillaarkolonnis on kantud kapillaari siseseinale. Statsionaarseks faasiks on peamiselt kõrgmolekulaarsed vedelikud. Kapillaarkolonni eelised: väga hea lahutusvõime, madal foon (mis on tingitud statsionaarse faasi väljauhtumisest). Puudused: kapillaarkolonn on väga õrn, suurt proovikogust ei maksa sisestada, ei tohi analüüsida kõrge veesisaldusega proove ega väga 'musti' proove. Täidiskolonnid klaasist või terasest (3-5 mm siseläbimõõduga, pikkus 0
annaabi.ee 
