Algandmed: N2 =54% CO2 =18% t sg =180°C = 453,15K O2 =2,4% V sg 0 =8 m3 /s tv =4°C = 277,15K c kaheaatomiline gaas =29,31 kJ/(kmol·K) c kolmeaatomiline gaas =37,68 kJ/(kmol·K) t0 =0°C= 273,15K p0 =760mmHg m W=8 s Vaja leida d ja Q2 Arvutused: Leian puuduva veeauru osakaalu: 54%+2.4%+18%+x%=100% x%=25,6% Leian kahe- ja kolmeaatomilise gaasi osa: 0,54+0,24=0,78 kaheaatomilise gaasi osa 1-0,78=0,22 kolmeaatomilise gaasi osa Leian moolerisoojuse c: 29,31 37,68 c = 0,78( 22,4 ) + 0,22( 22,4 ) = 1,0206 + 0,37 = 1,391 kJ/(kmol·K) Leian soojuskao Q2 : Q2 = V0 · c · Δt Δt = 453,15 – 277,15 = 176K Q2 = 8 m3/s · 1,391 kJ/(kmol·K) · 176K = 1959 kJ Leian korstna ava minimaalse läbimõõdu d:
Lähteandmed matrikli numbri() järgi: Suitsugaasi temperatuur( t sg ¿ - 130°C Süsihappegaasi osamaht(CO2) - 13% Lämmastiku osamaht(N2) 64% Hapniku osamaht(O2) 2,5% Väliskeskkonna temperatuur(tv) - 2°C 3 m Põlemisel tekkiva suitsugaasi kogus(Vsg0) - 9 s 1) Leian puuduva veeauru osakaalu 13% + 64% + 2,5% = 100% Veeauru osamaht(H2O) 20,5% 2) Leian kahe- ja kolmeaatomilise gaasi osa: 0,64(N2) + 0,025(O2) = 0,665 Kaheaatomilise gaasiosa on 0,665 0,13(CO2) + 0,205(H2O) = 0,335 Kolmeaatomilise gaasi osa on 0,335 3) Leian moleerisoojuse C 29,31 37,68 C = 0,665 × ( 22,4 ¿ + 0,335 × ( 22,4 ¿ = 1,434 kJ/(kmol·K) C = 1,434 kJ/(kmol·K) 4) Leian soojuskao Q2 Q2 = Vsg0 × C × t T2 = 130°C + 273,15K = 403,15K T1 = 273,15K t = 403,15 275,15 = 128K
Butaan C4H10 2,593 118650 - Pentaan C5H12 3,218 146080 - Lämmastik N2 1,251 2,4 Süsinikdioksiid CO2 1,97 0,1 = 100 Ülesanne 1 Alumine kütteväärtus Põlemiseks teoreetiliselt vajalik õhuhulk Kolmeaatomilise gaaside teoreetilie maht Veeauru teoreetiline maht Võtan dq=10 Lämmastiku teoreetiline maht Põlemisgaasis olev tegelik lämmastik, hapnik ja H2O maht Tegelik lämmastiku maht Tegelik hapniku maht Tegelik H2O maht Põlemisgaaside summaarne hulk Põlemisgaaside mass Leian Põlemisgaaside ja õhu entalpia q=1,05 (c )CO2 (c )N2 (c )O2 (c )H2O (c )õ (c )t
5. osoonikiht Osoonikiht (ka osoonikilp, osooniekraan) on keskmiselt 1555 km kõrgusel asuv stratosfääri kiht, kus Päikese ultraviolettkiirguse toime tõttu on atmosfääri keskmisest suurem osooni kontsentratsioon. Osoon tekib atmosfääris ultraviolettkiirguse mõjul. Osooni molekuli tekkeprotsess on kaheastmeline. Esmalt laguneb hapniku molekul UV-kvandi toimel. Pärast lagunemist liitub üksik hapniku aatom hapniku kaheaatomilise molekuliga, moodustades osooni kolmeaatomilise molekuli. Osoonikiht kaitseb Maa organisme ultraviolettkiirguse eest. Kui osoonikihti ei oleks, oleks elu Maa peal jäänudki ookeanide sügavamatesse kihtidesse. Tõsiseks ohuks osoonikihile on keemilised ühendid, mille koondnimeks on freoonid. Freoonide toimel võib moodustuda niinimetatud osooniauk. Osoonikiht ei koosne peamiselt osoonist. Osooni kontsentratsioon on seal lihtsalt kõrgem kui mujal: umbes üks sajast tuhandest osoonikihi molekulist on osooni molekul. 6
Osoonikiht (ka osoonikilp, osooniekraan) on keskmiselt 1555 km kõrgusel asuv stratosfääri kiht, kus Päikese ultraviolettkiirguse toime tõttu on atmosfääri keskmisest suurem osooni kontsentratsioon. Osoon tekib atmosfääris ultraviolettkiirguse mõjul. Osooni molekuli tekkeprotsess on kaheastmeline. Esmalt laguneb hapniku molekul UV-kvandi toimel. Pärast lagunemist liitub üksik hapniku aatom hapniku kaheaatomilise molekuliga, moodustades osooni kolmeaatomilise molekuli. Osoonikiht kaitseb Maa organisme ultraviolettkiirguse eest. Kui osoonikihti ei oleks, oleks elu Maa peal jäänudki ookeanide sügavamatesse kihtidesse. Tõsiseks ohuks osoonikihile on keemilised ühendid, mille koondnimeks on freoonid. Freoonide toimel võib moodustuda niinimetatud osooniauk. Osoonikiht ei koosne peamiselt osoonist. Osooni kontsentratsioon on seal lihtsalt kõrgem kui mujal: umbes üks sajast tuhandest osoonikihi molekulist on osooni molekul.
mg/L 0,5 mg/L. Osoneerimine · Omab eelist kloorimise ees, kuna laguneb hapnikuks, st. Kemikaale ei jää vette. · Üleliia suuri nitraadi kontsentratsioonid -> bakteriaalne denitrifikatsoon, ioon- vahetus või pöördosmoos 1) O2 lõhutakse keemiliselt või elektrivoolu toimel atomaarseks hapnikuks O+O 2) O moodustab koos hapniku molekuliga O2 kompleksse kolmeaatomilise ühendi O3, osooni. 3) See protsess on sumaarselt pöörduv, st. 2O3 3O2 H=-298kJ Osooni keemilised omadused: Osoon on väga tugev oksüdeerija. Osoonpuhastus tehnoloogia: 1) Prantsuse koolkond Osoon puhutakse vette puhastusprotsessi lõpus 2) Ameerika koolkond Lisaks vee osoneerimisele kuuluvad puhastussüsteemi koaguleerimine ja kloreerimine Karedus Ca(HCO3)2 tinglik karedus (mööduv ehk kõrvaldatav karedus) Ca(HCO3)2 CaCO3 + H2O + CO2
Sissejuhatus Osoonikiht (ka osoonikilp, osooniekraan) on keskmiselt 1555 km kõrgusel asuv stratosfääri kiht, kus Päikese ultraviolettkiirguse toime tõttu on atmosfääri keskmisest suurem osooni kontsentratsioon.Osoon tekib atmosfääris ultraviolettkiirguse mõjul. Osooni molekuli tekkeprotsess on kaheastmeline. Esmalt laguneb hapniku molekul UV-kvandi toimel. Pärast lagunemist liitub üksik hapniku aatom hapniku kaheaatomilise molekuliga, moodustades osooni kolmeaatomilise molekuli.Osoonikiht kaitseb Maa organisme ultraviolettkiirguse eest. Kui osoonikihti ei oleks, oleks elu Maa peal jäänudki ookeanide sügavamatesse kihtidesse.Osoonikiht ei koosne peamiselt osoonist. Osooni kontsentratsioon on seal lihtsalt kõrgem kui mujal: umbes üks sajast tuhandest osoonikihi molekulist on osooni molekul. Ultraviolettkiirguse ohtlikkusest Alles nüüd, kus nahavähi ja pahaloomulise pigmentkasvaja melanoomi esinemissagedused
5. Osoonikiht (ka osoonikilp, osooniekraan) on keskmiselt 1555 km kõrgusel asuv stratosfääri kiht, kus Päikese ultraviolettkiirguse toime tõttu on atmosfääri keskmisest suurem osooni kontsentratsioon. Osoon tekib atmosfääris ultraviolettkiirguse mõjul. Osooni molekuli tekkeprotsess on kaheastmeline. Esmalt laguneb hapniku molekul UV- kvandi toimel. Pärast lagunemist liitub üksik hapniku aatom hapniku kaheaatomilise molekuliga, moodustades osooni kolmeaatomilise molekuli. Osoonikiht kaitseb Maa organisme ultraviolettkiirguse eest. Kui osoonikihti ei oleks, oleks elu Maa peal jäänudki ookeanide sügavamatesse kihtidesse. 6. Elektrofiil on aineosake, millel on vaba või osaliselt vaba aatomorbitaal ja selle tulemusena positiivne elektrilaeng või osalaeng. Elektrofiilid on nt H+, Cl+, R+. Nukleofiil on aineosake, millel on vaba elektronpaar ja selle tulemusena negatiivne laeng või osalaeng.
Osoonikiht (ka osoonikilp, osooniekraan) on keskmiselt 1555 km kõrgusel asuv stratosfääri kiht, kus Päikese ultraviolettkiirguse toime tõttu on atmosfääri keskmisest suurem osooni kontsentratsioon. Osoon tekib atmosfääris ultraviolettkiirguse mõjul. Osooni molekuli tekkeprotsess on kaheastmeline. Esmalt laguneb hapniku molekul UV-kvandi toimel. Pärast lagunemist liitub üksik hapniku aatom hapniku kaheaatomilise molekuliga, moodustades osooni kolmeaatomilise molekuli. Osoonikiht kaitseb Maa organisme ultraviolettkiirguse eest. Kui osoonikihti ei oleks, oleks elu Maa peal jäänudki ookeanide sügavamatesse kihtidesse. Tõsiseks ohuks osoonikihile on keemilised ühendid, mille koondnimeks on freoonid. Freoonide toimel võib moodustuda niinimetatud osooniauk. ((Freoonid on keemilised ühendid, milles üks või kõik orgaanilise ühendi (tavaliselt alkaani) vesiniku aatomid on asendunud kloori või fluori aatomitega.