Selleks barboteeritakse vett õhu-osooni seguga. Osoneerimise aeg on 15 20 minutit. Katseseadme põhiosaks on perioodiline pideva gaasi läbivooluga reaktor (1) (maht 0,9 l), milles osoonitakse vett või reovett. - Õhu-osoonisegu genereeritakse osoonigeneraatoris OZON-2M (2) ning suunatakse läbi difuusori reaktorisse. - Osooni kontsentratsiooni osoonigeneraatorist või osoonimisreaktorist väljuvas gaasivoos mõõdetakse osoonimõõtjaga Anseros GM-6040 (4). - Katseseadmest väljuv gaas läbib jääkosooni lagundaja (5). - Vett osoonitakse kuni toimub osooni absorptsioon vette. 3. Arvutamine. 10 ABS n C O3 = 0, 42 L Vproov , mgO3/l Kus: 10 - süstla maht, ml, ABS - mõõtelahuse ja võrdluslahuse optiliste tiheduste vahe, 0,42 - koefitsient, L - küveti pikkus, cm,
termilised protsessid mis kõigerohkem mõjutavad sisevooderdusel kasutatavaid samotttelliseid. Seoses sellega soovitatakse sisu välja vahetada iga viie aasta tagant. Samuti on kuluosadeks gaasisüsteemi osad. Väikseimgi tehniline viga võib viia suure õnnetuseni. Tänapäeva krematooriumites on kasutusel kaks gaasi liiki: maagaas ja propaan. Kuni 1960-te aastate alguseni kasutati aga kivisütt ja koksi. Põletamine ja tuha kogumine Põletamise protsess toimub pidevas gaasivoos temperatuuril 900 10000 C juures ajavahemikul 50 kuni 90minutit, mõningatel juhtudel aga kuni 2 tundi. Eelnevalt peavad olema eemaldatud surnult kellad, sõrmused, kõrvarõngad. Kuid mitte ainult ehted vaid ka meditsiinilised aparaadid peavad olema surnult, näiteks südamestimulaator mis tuhastamise käigus võib plahvatada ja samas omab ka suurt keskkonnamõju, sest patareides sisalduv elavhõbe on piisav saasteobjekt.
· tahkete ainete peenestamisega · vedelike pihustamisega · ainete omavahelise intensiivse segamisega reaktsiooni käigus. Reaktsioonikiirust mõjutavad füüsikalised protsessid Heterogeensete reaktsioonide kiirust mõjutab sageli ka selline nähtus nagu difusioon. Eristatakse välisdifusiooni ning sisedifusiooni. Välisdifusiooni all mõistetakse näiteks seda, kuidas reageeriva gaasi molekulid jõuavad gaasivoost tahke osakese pinnale. Kui reageeriva gaasi kontsentratsioon üldises gaasivoos on madal, siis võib probleemiks saada just gaasimolekulide ning tahke osakese "kohtumine" ehk tegemist on välisdifusiooni takistusega. Sisedifusiooni all mõeldakse näiteks reageeriva gaasi molekulide liikumist osakese sisemusse ja/või gaasiliste produktide liikumist osakese pinnale. Kui osake on vähepoorne, toimub reaktsioon algul vaid osakese pinnal ning muutub seejärel väga aeglaseks. Gaasimolekulid ei pääse osakese sisemusse ja tegemist on nn sisedifusiooni takistusega
annaabi.ee 
