Vajad kellegagi rääkida?
Küsi julgelt abi LasteAbi
Logi sisse
Sulge

"disotsieerumise" - 4 õppematerjali

Konspekt
15
doc

Konspekt!

Praktiliselt loetakse 6-8 neutraalseks. Elektrolüüdid - ained, mille lahused või sulatised juhivad hästi elektrit Hape ­ osake, mis loovutab prootoni Alus ­ osake, mis liidab prootoni Indikaatorid ­ nõrgad orgaanilised happed või alused, mille molekulid ja ioonid on erineva värvusega Ehituses on fenolftaleiini lahus indikaatoriks betoonide karboniseerumise määramisel. Tugevad ja nõrgad happed ning alused Hapete ja aluste tugevuse mõõdupuuks on nende molekulide disotsieerumise määr või aste. Tugevate aluste või hapete molekulid on disotsieerunud 90-95% ulatuses, nõrkadel mõni protsent. Tugevad happed: soolhape, lämmastikhape ja väävelhape. Nõrgad boorhape, äädikhape. Tugevad alused naatriumhüdroksiid, kaaliumhüdroksiid. Nõrk ammoniaagi vesilahus. Hüdrolüüs ­ lahutunud aine ja lahusti vaheline reaktsioon, mille juures tekivad vähedisotsieeruvad või rasklahustuvad ühendid

Keemia → Keemia ja materjaliõpetus
368 allalaadimist
Keemia ja materjaliõpetus
15
doc

Keemia ja materjaliõpetus

Praktiliselt loetakse 6-8 neutraalseks. Elektrolüüdid - ained, mille lahused või sulatised juhivad hästi elektrit Hape ­ osake, mis loovutab prootoni Alus ­ osake, mis liidab prootoni Indikaatorid ­ nõrgad orgaanilised happed või alused, mille molekulid ja ioonid on erineva värvusega Ehituses on fenolftaleiini lahus indikaatoriks betoonide karboniseerumise määramisel. Tugevad ja nõrgad happed ning alused Hapete ja aluste tugevuse mõõdupuuks on nende molekulide disotsieerumise määr või aste. Tugevate aluste või hapete molekulid on disotsieerunud 90-95% ulatuses, nõrkadel mõni protsent. Tugevad happed: soolhape, lämmastikhape ja väävelhape. Nõrgad boorhape, äädikhape. Tugevad alused naatriumhüdroksiid, kaaliumhüdroksiid. Nõrk ammoniaagi vesilahus. Hüdrolüüs ­ lahutunud aine ja lahusti vaheline reaktsioon, mille juures tekivad vähedisotsieeruvad või rasklahustuvad ühendid

Keemia → Keemia
10 allalaadimist
Keemia ja materjaliõpetuse eksam 2011
33
doc

Keemia ja materjaliõpetuse eksam 2011

neid saadakse vesiniku reageerimisel vastava lihtainega, nt H 2 + Cl2 = 2HCl või vastavate soolade reageerimisel tugevama happega, nt FeS + H2SO4 = FeSO4 + H2S. Aluste moodustumine: aluseid võib saada oksiidide lahusest veega, nt Na 2O + H2O = 2NaOH. Raskesti lahustuvate aluste saamiseks käsitsetakse soola lahuseid leelistega, nt CuSO 4 + 2NaOH = Cu(OH)2 + Na2SO4 . Hapete ja aluste tugevuse mõõdupuuks on nende molekulide disotsieerumise määr või aste. Tugevate aluste või hapete molekulid on disotsieerunud 90-95% ulatuses, nõrkadel mõni %. Tugevad happed: soolhape, lämmastikhape ja väävelhape; nõrgad happed: boorhape, äädikhape. Tugevad alused: naatriumhüdroksiid, kaaliumhüdroksiid; nõrgad alused: ammoniaagi vesilahus. Hapete reaktsioonivõime oleneb happe prootonite loovutamise võimsest ehk aktiivsusest ­ pingerida.

Keemia → Keemia ja materjaliõpetus
244 allalaadimist
Keemia eksam 2011
48
doc

Keemia eksam 2011

Nt:H2O+SO3=H2SO4, vesiniksulfiidhape ja vesinik-halogeniidhapped on vastavate gaasiliste ainete vesilahused ja neid saadakse vesiniku reageerimisel veega H2 + Cl2 = 2HCl või vastavate soolade reageerimisel tugevama happega FeS+H2SO4=FeSO4+H2S. Aluste moodustumine: aluseid võib saada oksiidide lahustamisel veega Na2O+H2O=2NaOH. Raskesti lahustuvate aluste saamiseks käsitsetakse soola lahuseid leelistega CuSO4+2NaOH = Cu(OH)2+Na2SO4. Hapete ja aluste tugevuse mõõdupuuks on nende molekulide disotsieerumise määr või aste. Tugevate aluste või hapete molekulid on disotsieerunud 90-95% ulatuses, nõrkadel mõni protsent. *Tugevad happed: soolhape, lämmastikhape ja väävelhape. Nõrgad: boorhape, äädikhape. *Tugevad alused: naatriumhüdroksiid, kaaliumhüdroksiid. Nõrk: ammoniaagi vesilahus. Hapete reaktsioonivõime oleneb happe prootonite loovutamise võimest ehk aktiivsusest ­ pingerida. Kui a)pH=2,7, siis [H+]=102,7=501mol/l b)kui pH=8,8, siis [H+]=6,3*108,8mol/l c)kui

Keemia → Keemia ja materjaliõpetus
209 allalaadimist


Sellel veebilehel kasutatakse küpsiseid. Kasutamist jätkates nõustute küpsiste ja veebilehe üldtingimustega Nõustun