Tavaliselt ei saavutata heitaasi vajalikku puhtust ühes seadmes ja seetõttu lülitatakse mitu sama või erinevat tüüpi seadet järjestikku. 3. Gaasiliste lisandite eemaldamine absorptsiooniga Absorptsioon on ülekandenähtus, kus aine siirdub gaasifaasist vedelfaasi. Füüsikaline absorptsioon puhastusprotsessis seisneb heitgaasi kontakteerumises mitmesuguste vesilahustega, mille tulemusena heitgaasi üks või mitu lisandit neelduvad lahuses. Tingituna aine difusioonitakistustest nii gaasi kui vedelikupoolsel küljel toimub tavaline füüsikaline absorptsioon aeglaselt. Seda püütakse kiirendada rõhu või kineetilise energia abil. Absorptsioon on tuntud keemilise tehnoloogia protsess, mis põhineb ainete tasakaalulisel jaotusel gaasilise ja vedela keskkonna vahel. Levinuimaks absorbendiks on vesi. 4. Gaasiliste lisandite eemaldamine adsorptsiooniga Adsorptsioon on ülekandenähtus, kus aine siirdub gaasilisest faasist tahkesse faasi. Gaaside
Tavaliselt ei saavutata heitgaasi vajalikku puhtust ühes seadmes ja seetõttu lülitatakse mitu sama või erinevat tüüpi seadet järjestikku. 4. Gaasiliste lisandite eemaldamine absorptsiooniga Absorptsioon on ülekandenähtus, kus aine siirdub gaasifaasist vedelfaasi. Füüsikaline absorptsioon puhastusprotsessis seisneb heitgaasi kontakteerumises mitmesuguste vesilahustega, mille tulemusena heitgaasi üks või mitu lisandit neelduvad lahuses. Tingituna aine difusioonitakistustest nii gaasi kui vedelikupoolsel küljel toimub tavaline füüsikaline absorptsioon aeglaselt. Seda püütakse kiirendada rõhu või kineetilise energia abil. Keemiline absorptsioon on protsess, mis põhineb ainete tasakaalulisel jaotusel gaasilise ja vedela keskkonna vahel. Levinuimaks absorbendiks on vesi. Juhul kui absorbeeritava gaasi ja absorbendi vahel toimub keemiline reaktsioon, nimetatakse seda kemosorptsiooniks. Absorptsioontehnikas on väga levinud täidiskolonnid (skraberid)
erinevat tüüpi seadet järjestikku. 4. Gaasiliste lisandite eemaldamine absorptsiooniga Kui gaas sisaldab peale tolmu veel mitmesuguseid kahjulikke gaasilisi lisandeid (nt SO 2, lämmastikoksiidid, H2S, HCl, HF jt. Absorptsioon on ülekandenähtus, kus aine siirdub gaasifaasist vedelfaasi. Füüsikaline absorptsioon puhastusprotsessis seisneb heitgaasi kontakteerumises mitmesuguste vesilahustega, mille tulemusena heitgaasi üks või mitu lisandit neelduvad lahuses. Tingituna aine difusioonitakistustest nii gaasi kui vedelikupoolsel küljel toimub tavaline füüsikaline absorptsioon aeglaselt. Seda püütakse kiirendada rõhu või kineetilise energia abil. Absorptsioon on tuntud keemilise tehnoloogia protsess, mis põhineb ainete tasakaalulisel jaotusel gaasilise ja vedela keskkonna vahel. Levinuimaks absorbendiks on vesi, mis seob hästi anorgaanilisi happelisi HCl, HF jne gaase. Orgaaniliste phendite absorbeerimiseks kasutatakse orgaanilisi vedelikke. 5
gaasivooluga pihustub. Gaasi-vedelikusegu lahutatakse tsüklon-tüüpi separaatoris. Puhas vesi eraldatakse mudast setitis ja pumbatakse taas pesurisse. 4. Gaasiliste lisandite eemaldamine absorptsiooniga Absorptsiooni on ülekandenähtust, kus aine siirdub gaasifaasist vedelfaasi. Füüsikaline absorptsioon puhastusprotsessis seisneb heitgaasi kontakteerumises mitmesuguste vesilahustega, mille tulemusena heitgaasi üks või mitu lisandit neelduvad lahuses. Tingituna aine difusioonitakistustest nii gaasi- kui ka vedelikupoolsel küljel toimub tavaline füüsikaline absorptsioon aeglaselt. Seda püütakse kiirendada rõhu või kineetilise energia abil. Absorptsioon on tuntud keemilise tehnoloogia protsess, mis põhineb ainete tasakaalulisel jaotusel gaasilise ja vedela keskkonna vahel. Levinuimaks absorbendiks on vesi. Vaja on valida õige absorbent (lahusti) eraldatava komponendi lahustuvuse järgi antud temperatuuril ja rõhul
Värvkatte µ-väärtus veeauru suhtes = 1000 Kahekordse kihi värvkatte paksus on 100 µm (= 100 x 10-6m) Sd = 1000 x 100 x 10-6m = 0,1 m 23 Difusioonitakistuse arvutus: Konstruktsiooni difusioonitakistuse moodustub üksikute kihtide difusioonitakistuste summast: Sd = Sd1 + Sd2 + Sd3 + ... + Sdn Nt. seina kihtide projekteerimisel tuleb arvesse võtta ka üksikute kihtide paiknemise järjekorda lähtuvalt nende difusioonitakistustest. Kehtib "rusika-reegel", et tarind peab olema konstrueeritud nii, et veeaur ei kondenseeruks piirdesse. Üldjuhul peab väljas (madalama temperatuuri pool) asuva kihi difusioonitakistus peab olema väiksem kui seesmisel (on lubatud teatud erandeid): Sd1 > Sd2 > Sd3 > ... > Sdn See on vajalik selleks, et vähendada veeauru kondenseerumisohtu auru tõkestavatel kihtidel. Eelkõige külmal aastaajal toimub veeauru difusioon seest välja. Külmasildade mõju on eraldi teema.
lähenduses kujutada sümmeetrilise normaaljaotusena. 3. Gaasiliste lisandite eemaldamine absorptsiooniga Sorptsiooni all mõeldakse ülekandenähtust, kus aine siirdub gaasifaasist vedelfaasi (võib vaadelda lahustumisena) - absorptsioon või tahkesse faasi - adsorptsioon. Füüsikaline absorptsioon puhastusprotsessis seisneb heitgaasi kontakteerumises mitmesuguste vesilahustega (absorbentidega), mille tulemusena heitgaasi üks või mitu lisandit neelduvad lahuses. Tingituna aine difusioonitakistustest nii gaasi- kui ka vedelikupoolsel küljel toimub tavaline füüsikaline absorptsioon aeglaselt. Seda püütakse kiirendada rõhu või kineetilise energia abil. Absorptsioon on tuntud keemilise tehnoloogia protsess, mis põhineb ainete tasakaalulisel jaotusel gaasilise ja vedela keskkonna (absorbendi) vahel. Levinuimaks absorbendiks on vesi, mis seob hästi anorgaanilisi happelisi HCI, HF, SiF4 ja mõõdukalt happelisi SO2, Cl2, H2S gaase.
annaabi.ee 
