SiO2(s) + 4HCl(aq). SiCl4 kasutatakse puhta räni saamiseks: SiCl4(l) + 2H2(g) Si(s) + 4HCl(g). Silaanid- SinH2n+2 ehk ränivesinikud on küllastunud süsivesinike analoogid. Nt oktasilaan Si8H18, monosilaan SiH4, disilaan Si2H6, mis plahvatab õhuga kokkupuutudes. . Puhtas vees silaan ei lagune, kuid leelise toimel hüdrolüüsub: SiH4(g) + 2H2O(l) SiO2(s) + 4H2(g) Kõrgemad silaanid, nt H3Si-SiH2-SiH3 on vähem stabiilsed ja lagunevad seistes. Saamine: silitsiidide (Mg2Si) lagundamisel hapete või leelistega tekib peamiselt SiH4-ebapuhas. SiHaln lagundamisel teatud Li- ühenditega, eriti liitiumalumiiniumhüdriidiga: SiCl4+LiAlH4SiG4+LiCl+AlCl3. SiHaln redutseerimisel vesinikuga. Kasutatakse peamiselt monsilaani lähteainena pooljuhträni saamiseks. 30. Selgitage süsiniku- ja räniühendite reaktiivsuste erinevusi. Süsinik moodustab püsivaid sidemeid iseendaga, seetõttu on palju erinevaid süsivesinikke
ränitetrafluoriid Hapete suhtes on räni passiivne, reageerib ainult seguga HNO3 + HF, tekib SiF4 Leelistega → silikaadid + H2: Si + 4NaOH → Na4SiO4 + 2H2 Temperatuuril 400-600º reageerib räni - hapnikuga → SiO2 - halogeenidega → SiHal4 või SinHal2n+2 - väävliga → SiS2 (üle 600o → SiS) Se, Te-ga: sarnased ühendid - vesinikuga otseselt ei reageeri, silaane SinH2n+2 saadakse kaudselt: silitsiidide lagundamisel Kuid räni lahustab vesinikku (kuni 47 aatom-% H) Temperatuuril üle 1000ºC moodustab räni - fosforiga: SiP (ränifosfiid) - arseeniga: arseniidid As2Si ja AsSi - süsinikuga: SiC (ränikarbiid, karborund) - booriga: boriidid SiB3, SiB6, SiB12 termiliselt ja keemiliselt püsivad - enamiku metallidega: silitsiidid paljud neist rasksulavad, ülikõvad 3.9.3. Ühendid Ränidioksiid on levinuim aine looduses (12% maakoorest), esineb polümeerina (SiO2)n:
annaabi.ee 
