a) pinda märgav vedelik. Märgav vedelik tõuseb kapillaaris anumas oleva vedeliku pinnast kõrgemale. Kapillaaris vedelik tõuseb nii kaua ja saavutab kõrguse h, kui vedelikusamba raskusjõud mg saab võrdseks pindpinevusjõuga, kus m on sambas oleva vedeliku mass, g on vabalangemise kiirendus ja F on pindpinevusjõud. b) pinda mittemärgav vedelik. Valem : Tahkised. Tahked ained: a) tahkised on kritallilised ained, kus kristalle kuju on määratud kristall-ehk ruumvõrega, mille saame, kui aine osakesed ühendame mõtteliste joontega. Nt. metallid, teemat, süsinik. Tahkistel on kindel sulamistemperatuur, mis ei muutu sulamise ajal. Monokristall on üks kristall, mille ulatuses kristallvõre on ühesugune. Polükristall koosneb paljudest kristallidest, on kristallvõred korrapäratult. b) amorfsed ained nt. klaas,pigi,plastmassid. Nende ehitus on sarnane vedelike
tasakaalustatud tekkereaktsioonid. Kõik pea-alarühmade elemendid (v.a.väärisgaasid) moodustavad vesinikuga binaarseid ühendeid hüdriidi valem on seotud pea-alarühma numbriga · Tugevalt elektropositiivsed (leelis- ja leelismuld) metallid moodustavad soolataolisi hüdriide, kus vesinik on hüdriidioonina, H-. Ioonilised on leelis- ja leelisemuldmetallide hüdriidid, nt KH ja CaH2. Ioonilised hüdriidid on kõrge sulamistemp tahked kritallilised ained ehk soolad. Esimese rühma s-elementide hüdriidid on nagu enamik nende elementide halogeniide NaCl struktuuriga. Keemilises mõttes käituvad ioonilised hüdriidid aluseliste ühenditena. KH+HOH=KOH +H2 Metallilised hüdriidid on elektrijuhid, metalse läikega ja evivad ka teisi metallilistele ainetele iseloomulikke omadusi. Vastavad metallilised ühendid tekivad siis, kui valentstsoonis saavutatakse teatav elektronide konts. Ti2H, TiH, TiH2. Metallilised
annaabi.ee 
