..1,25% ja on maksimaalne 3...3,5 % Si-sisalduse juures. Siit tulenevalt on Si-sisaldus hallmalmis tavaliselt 1,2...3,5 % (väiksem suurtes, suurem väikestes valandites). Räni koos süsinikuga määrab ära tekkiva malmi struktuuri - nii vaba grafiidi olemasolu kui ka metalse põhimassi struktuuri - Suurema Si-sisalduse puhul austeniit küllastub ning moodustub ebapüsiv ränikarbiid, üle 10% Si-sisalduse puhul moodustuvad intermetalliidsed ühendid rauaga ning selle tulemusena saadakse valgemalmi struktuur. Mangaan. Mangaan tavalisandina viiakse malmi väävli sidumiseks (moodustub MnS) ja selle kahjuliku mõju vähendamiseks. Siit tulenevalt peab Mn-sisaldus malmis ületama teatud protsendi (Mn % = 1,7xS% + 0,35), et siduda väävlit ja kõrvaldada väävli takistavat toimet vaba grafiidi tekkele. Teiselt poolt mangaan, moodustades tsementiidile analoogse karbiidi Mn3C, soodustab valgemalmi teket, s.o
..1,25% on suurim 3...3,5% Si-sisalduse juures. Siit tulenevalt on Si-sisaldus hallmalmis tavaliselt 1,2...3,5% (väiksem suurtes, suurem väikestes valandites). Räni koos süsinikuga määrab ära tekkiva malmi struktuuri nii vaba grafiidi olemasolu kui metalse põhimassi struktuuri. Suurema Si-sisalduse puhul austeniit küllastub ning moodustub ebapüsiv ränikarbiid, üle 10% Si-sisalduse puhul moodustuvad rauaga intermetalliidsed ühendid ning selle tulemusena saadakse valgemalmi struktuur. b)Mangaan (Mn) Mangaan tavalisandina viiakse väävli sidumiseks (moodustub MnS) ja selle kahjuliku mõju vähendamiseks. Siit tulenevalt peab Mn.sisaldus malmis ületama teatud protsendi, et siduda väävlit ja kõrvaldada väävli takistavat toimet vaba grafiidi tekkele. Teiselt poolt mangaan, moodustades tsementiidile sarnase karbiidi Mn3C, soodustab valgemalmi teket, vähenevad eeldused vaba grafiidi tekkeks
annaabi.ee 
