HI vesinikjodiidhape I- H2S divesiniksulfiidhape S 2- H2SO4 väävelhape SO 42- HNO3 lämmastikhape NO3- HNO2 lämmastikushape NO2- H3PO4 fosforhape PO43- H2CO3 süsihape CO32- H2SiO3 (H4SiO) ränihape SiO32- CH3COOH Etaanhape ehk CH3COO etanaat äädikhape
H2SO4 Väävelhape sulfaat Fe3+2(SO42-)3 raud(III)sulfaat H2S divesiniksulfiidhap sulfiid Fe2+S2- e H2CO süsihape karbonaat NA+2CO32- 3 -Naatriumkarbonaat H3PO4 Fosforhape fosfaat Ca2+3(PO43-)2 -kaltsiumfosfaat H4SiO ränihape silikaat Mg2+SiO32- 4 -Magneesiumsilikaat Oksiidid-on kahest elemendist koosnevad hapnikuühendid. Valemis on O teisel kohal. di,tri,tetra,penta-5,heksa-6,hepta-7,deka-10 kasutatakse mittemetallidega. Oksiidide saamine: · lihtainete põletamisel õhus või hapnikus. C+O2=CO2 2Mg+O2=2MgO
Raskesti lahustuvate aluste saamiseks käsitsetakse soola lahuseid leelistega CuSO4+2NaOH = Cu(OH)2+Na2SO4. Happe molekul koosneb ühest või mitmest vastavast aatomist ja happe jäägist, happe molekulis on võimalik asend vesinikku met-ga. Sõltuvalt mitu vesiniku aatomit on ühes happe molekulis, met-ga asendatavad jaot-se met a)1-aluseline: HCl, HBr, HNO3; b)2-aluseline: H2SO4, HOOC-COOH, H2S; c)3- aluseline: H2PO4; d)4-aluseline: H4SiO. Hapete ja aluste tugevuse konts: Tugevad happed on oksüdeeruva toimega, nende pH2, tugevate aluste pH12. Tugevad happed on HNO3, H2SO4; nõrk hape H3PO4; tugevad alused NaOH, KOH; nõrk alus Ca(OH)2. Tugevaks nim aluseid ja happeid, milles suurem osa osakesi on dissots. Hapete reaktsioonivõime oleneb happe prootonite loovutamise võimest ehk aktiivsusest pingerida. Kui a)pH=2,7, siis [H+]=102,7=501mol/l b)kui
Raskesti lahustuvate aluste saamiseks käsitsetakse soola lahuseid leelistega (N: CuSO 4 + 2NaOH Cu(OH)2 + Na2SO4). Happe molekul koosneb ühest või mitmest vastavast aatomist ja happe jäägist, happe molekulis on võimalik asendada vesinik metalliga. Sõltuvalt mitu vesiniku aatomit on ühes happe molekulis, metalliga asendatavad jaotatakse: a) 1-aluseline: HCl, HBr, HNO3; b) 2-aluseline: H2SO4, HOOC-COOH, H2S; c) 3- aluseline: H2PO4; d) 4-aluseline: H4SiO. Hapete ja aluste tugevuse määrab happe ja aluse molekulide dissotsiatsiooni määr. Hapete ja aluste tugevusest sõltub üldiselt ka hapete ja aluste reaktsioonivõime. NB! Mitmetel juhtudel mõjutab hapete ja aluste reaktsioonivõimet (suurendab) aniooni ja katiooni omadused. Tugevad happed soolhape HCl (1,0), lämmastikhape HNO3 (1,0), väävelhape H2SO4 (1,0) Nõrgad happed etaanhape CH3COOH (2,4), süsihape H2CO3 (3,8), oblikhape (COOH)2 (1,6) Tugevad alused - LiOH, NaOH, KOH
annaabi.ee 
