Vajad kellegagi rääkida?
Küsi julgelt abi LasteAbi
Logi sisse
Sulge

"redoksomadusi" - 2 õppematerjali

Keemia alused KT3
14
doc

Keemia alused KT3

tsüklilistest S8 molekulidest. ­ Esineb kahes kristallivormis: rombiline ja monokliinne, normaaltingimustel on esimene stabiilsem. ­ Väävliaurud koosnevad madalamal temperatuuril samuti S8 molekulidest, temperatuuril üle 720 °C hakkab tekkima ka S2. 43. Iseloomustage hapnikule vastavat allotroopi. Hapniku allotroop on osoon O3, sinakas teravalõhnaline diamagneetiline aine. 45. Kirjeldage vee ja vesinikperoksiidi happelis-aluselist iseloomu ning redoksomadusi. · Vesi on oluline lahusti ja üldisemalt keskkond Maal, samas küllaltki reaktiivne. · Vesi on oksüdeerija, kuid tema oksüdeerivad omadused ilmnevad kõrgetel temperatuuridel: · Vesi on ka redutseerija, kuid ainult fluor ja veel mõned üksikud ained on piisavalt tugevad tema oksüdeerimiseks. · Vesi on Lewis'i alus, sellel põhineb ka tema hüdrolüüsiv võime. ­ Hüdrolüüsiga võib kaasneda oksüdatsiooniastme muutus: Cl2(g) + H2O(l) HClO(aq) + HCl(aq)

Keemia → Keemia
27 allalaadimist
Keemia aluste KT3
29
doc

Keemia aluste KT3

­ Osoon tekib stratosfääris kiirguse toimel. Mittekatalüütiline fotokeemiline reakts: 3/2O2O3. O3 tekib kõrvalsaadusena ka jaheda väävelhappe elektrolüüsil peroksodiväävelhappe saamisel. ­ Laboris saadakse elektrilahendusel hapniku keskkonnas.: O2+O+MO3+M' 44. Iseloomustage VIA rühma teisi elemente (Se, Te ja Po). Nende kasutamine. 45. Kirjeldage vee ja vesinikperoksiidi happelis-aluselist iseloomu ning redoksomadusi. Vesi on oksüdeerija, kuid tema oksüdeerivad omadused ilmnevad kõrgetel temperatuuridel: CH4+H2OCO+3H2. Vesi on ka redutseerija, kuid ainult fluor ja veel mõned üksikud ained on piisavalt tugevad tema oksüdeerimiseks. Võib ka osaled reaktsioonides, kus elementide o-a jääb muutumatuks. · Vesi on Lewis'i alus, sellel põhineb ka tema hüdrolüüsiv võime. ­ Hüdrolüüsiga võib kaasneda oksüdatsiooniastme muutus: Cl2(g) + H2O(l) = HClO(aq) + HCl(aq)

Keemia → Keemia alused
42 allalaadimist


Sellel veebilehel kasutatakse küpsiseid. Kasutamist jätkates nõustute küpsiste ja veebilehe üldtingimustega Nõustun