Iga tetraeedri nurgas asuv hapnik annab kovalentseid sidemeid kahe räni aatomiga. · Metaränihape H2SiO3 ja ortoränihape H4SiO4 on nõrgad happed. · Ortosilikaadi lahuse hapustamisel tekib ränihappe asemel zelatiinitaoline ränidioksiidi sade: 4H3O+ (aq) + SiO4 4- (aq) + xH2O(l) SiO2(s)·xH2O(gel) + 6H2O(l) · Pesemise ja kuivatamise järel saadakse silikageel, mis on väga suure eripinnaga. 30. Selgitage süsiniku- ja räniühendite reaktiivsuste erinevusi. Räni ei moodusta iseendaga hästi sidemeid, C moodustab. Räni korral on hüdriidide arv palju väiksem. Süsinik moodustab püsivaid sidemeid iseendaga, seetõttu on palju erinevaid süsivesinikke. 31. Kirjeldage klaaside ja keraamiliste materjalide olemust ning nende omadusi. · Klaas on iooniline amorfne tahkis. · Klaasil on võrkstruktuur, mis baseerub mittemetallioksiidil (tavaliselt SiO2) ja on saadud selle kokkusulatamisel
SiH4(g) + 2H2O(l) SiO2(s) + 4H2(g) Kõrgemad silaanid, nt H3Si-SiH2-SiH3 on vähem stabiilsed ja lagunevad seistes. Saamine: silitsiidide (Mg2Si) lagundamisel hapete või leelistega tekib peamiselt SiH4-ebapuhas. SiHaln lagundamisel teatud Li- ühenditega, eriti liitiumalumiiniumhüdriidiga: SiCl4+LiAlH4SiG4+LiCl+AlCl3. SiHaln redutseerimisel vesinikuga. Kasutatakse peamiselt monsilaani lähteainena pooljuhträni saamiseks. 30. Selgitage süsiniku- ja räniühendite reaktiivsuste erinevusi. Süsinik moodustab püsivaid sidemeid iseendaga, seetõttu on palju erinevaid süsivesinikke. Räni korral on hüdriidide (silaanide) arv palju väiksem. 31. Kirjeldage klaaside ja keraamiliste materjalide olemust ning nende omadusi. Klaas on silikaatide segu, amorfne, anisotroopne tahke lahus, mis sisaldab korrapäratu asetusega SiO4 tetraeedreid. Tavalist klaasi saadakse liiva, soda ja lubjakivi segu kuumutamisel 1400C juures. Keemiliselt vastupidav, eriti hapetele,
annaabi.ee 
