Ta on hästi töödeldav (kuid juba vähesed lisandid, eriti S ja O, halvendavad oluliselt mehhaanilisi omadusi korrosioonikindlust). · Keemiliselt on kompaktne Ni väheaktiivne, õhus püsiv. Metall kattub õhus NiO kaitsekihiga ning on püsiv kuni ca 800C. · Hapetega H2SO4, HCl, H3PO4 ja HF reageerib Ni väga aeglaselt, kuid reageerib kergesti lahj HNO3-ga; knots HNO3 toimel passiveerub. · Leeliste lahused ei toimi niklisse, kuid Ni reageerib NH 3 vesilahusega. Alles üle 550 C oksüdeerub Ni sulatatud NaOH toimel 2Ni + 2NaOH -> 2NiO + 2Na + H2 Vee ja õhuniiskuse suhtes on Ni püsiv. · Vesinikuga moodustab Ni tahkeid lahuseid. · Lämmastik lahustub niklis väga vähe. Pihusa nikli reageerimisel NH 3-ga moodustub nikkel(I)nitriid Ni3N. · Halogeenidega kuumutamisel tekivad nikkel(II) halogeniidid. Ni on üks püsivamaid metalle F2 suhtes.
Cu, Ni) mis on viidud lähedasse kokkupuutesse. Lähteolek on kirjeldatav joonisega 4.3. Kui kuumutame seda metallide paari mingi aeg suhteliselt kõrgetel temperatuuridel (aga madalamal, kui nende metallide sulamistäpid) ja jahutame, siis näeme, et Cu ja Ni osade vahele on tekkinud ala, kus need metallid esinevad koos ja nende mõlema kontsentratsioon muutub mingi kindla seaduspära järgi (joonis 4.4). Tulemus on tõestuseks, et vase aatomid on difundeerunud niklisse ja nikkel on difundeerunud vaske. Sellist protsessi nimetatakse lisandi difusiooniks (s.o. Ni Cu; Cu Ni). Difusioon esineb ka puhastes metallides sama tüüpi aatomite positsioonide vahetamise protsessina. Antud nähtust nimetatakse omadifusiooniks. Et toimuks difusioon peavad protsessist osavõtvad aatomid omama energiat, et ületada aktivisatsioonienergiaga seotud energeetiline barjäär. Energia hulka, mida aatomid peavad omama üle kõigi aatomite