Materjaliuurimise KORDAMISKÜSIMUSED 2.KT
· Optiline metallograafia: kiirem meetod väiksemate suuurenduste juures (kuni1000 x),
mis annab ülevaate mikrostruktuurist. Ei anna keemilist informatsiooni.
· SEM: kiirem meetod väiksemate suurenduste juures (kuni 20 000), mahuliste
objektide uurimine, lahutusvõime kuni 50 nm mahulistel objektidel, kvalitatiivne
keemiline informatsioon, piiratud kristalloraafiline informatsioon elektronide
kanaleerumise abil.
· EPMA: kiirem, täpsem (1% rel.) kvantitatiivne elementanalüüs alates B(5), halvem
ruumlahutusvõime (18m3), ei anna kristallograafilist informatsiooni.
22. Millised on TEM piirangud?
· Prepareerimine võib kesta nädalaid.
· Kujutise lahutusvõime 0,12 nm.
· Minimaalne analüüsitav ala 30 nm.
· Elemendi avastamise piir 0,5 kuni 1% (massi).
· Kvantitatiivse analüüsi täpsus 5 kuni 15 % (suhteline).
annaabi.ee 
