Vedelik dispersioonikesk- LAPLACE VÕRRANDI TULETUS: kui dispergeeritud faasi Sedimentatsioon: Suurte osakeste korral raskusjõud põhjustab kuid liiguvad veel kaasa kolloidosakesega. Kompenseeriv NO3- konnana asetseb õhukeste kiledena gaasimullide vahel. Vahumullid kontsentratsioon on c, siis ajaühikus läbi pinnaühiku raskusjõu mõjul dispergeeritud osakeste väljasadenemise dispersioonikeskkonnast. laeng jaotubadsorbse ja difuusse kihi vahel. Teatud kaugusest alates on polüeedri kujuga. Vahtu iseloomustatakse kordsusega . Vahu liikuv ainehulk on sedimentatsioonivoog: Is=vc (1) (v-osakeste Kolloidosakeste puhul toimib raskusjõule vastu difusioon ja NO3- ioonid ei liigu enam graanulaga kaasa.Seda pinda nimetatakse tekkimiseks peab vedelik sisaldama stabilisaatorit vahutekitajat. liikumiskiirus). Sedimentatsioonivoole toimib vastu difusioonivoog
Ag + ioonid on siispotentsiaali määravad ioonid. Seda tekkinud positiivset laengut hakkavad kompenseerima NO 3-anioonid, milliseid nimetatakse vastasioonideks ja millised kuloniliste tõmbejõudude toimel kogunevad Ag + lähedusse. Ag+ läheduses on NO3- ioonid tugevasti seotud. Mida kaugemale, seda nõrgemaks muutub side. Adsorbne kiht lõpeb, kui NO3- ioonid hakkavad osa võtma soojusliikumisest, kuid liiguvad veel kaasa kolloidosakesega. Kompenseeriv NO3- laeng jaotubadsorbse ja difuusse kihi vahel. Teatud kaugusest alates NO3 - ioonid ei liigu enam graanulaga kaasa.Seda pinda nimetatakse libisemispinnaks ehk nihkepinnaks. Elektrokineetilised nähtused jagunevad kahte rühma, kus esimese rühma moodustavad elektroforees (kõige tähtsam, seisneb kolloidosakeste liikumises välises elektriväljas teatud kindlas suunas ning meenutab elektrolüüsinähtusi elektrolüütide lahustes.) ja elektroosmoos, mis tekivad
annaabi.ee 
