"epitaksiaalkiled" - 1 õppematerjal

ELEMENTIDE RÜHMITAMISE PÕHIMÕTTED

Pärast erilist happetöötlust saadakse 99,9%-lise Si-sisaldusega produkt. Teised meetodid (elektrol.) – tööstuses väga vähe Kõrgpuhas Si (saam.): 99,9%-line Si → SiCl 4 või SiHCl3; klooriühendid: rektifikatsioon jt. puhastusmeetodid, redutseeritakse ülipuhta H2-ga (1200-1300ºC) → Si Ülipuhas Si: 10-7 - 10-8% lisandeid kokku  sageli → monokristallid Ülipuhast Si kasutatakse üsna palju (ainuüksi monokristallilist ca 3000 t/a). Profileeritud monokristallid, epitaksiaalkiled. 3.9.2. Füüsikal. ja keemil. Omadused vt. tabel p. 3.7. Kristallil. kompaktne Si metalliläikega tume-hõbehall kõva, habras aine Mohsi skaala järgi kõvadus 7 nn. amorfne räni (tegel. peenkristalliline) – pruunikas pulber  Madalal tº-l keemiliselt passiivne, toato-l reageerib ainult fluoriga: Si + 2F2 → SiF4