Funktsionaalsed materjalid I kontrolltöö vastused
Ainult hapnikku on rohkem.
Esineb peamiselt kvartsi (SiO2) ja silikaatide kujul. Räni on küll palju, aga tema saamine ülipuhtal kujul on väga
keeruline ning palju energiat nõudev, mistõttu puhas räni on küllalt kallis. Räni puhastamise teeb raskeks kõrge
sulamistemperatuur 1414OC. Sel temperatuuril pehmeneb konteinerite ja torude valmistamise peamine materjal
räni tehnoloogias kvartsklaas SiO2. Grafiiti ei saa aga kasutada, kuna süsinik reageerib räniga.
Pooljuhtpuhtusega räni saamise tehnoloogia peamised etapid:
- tehnilise Si üleviimine kloriidiks Si + 4 HCl = SiCl4 + 2 H2 (300 400 OC);
- SiCl4 destillatsioon, ekstraktsioon ja rektifikatsioon;
- SiCl4 taandamine vesinikuga SiCl4 + 2 H2 = Si + 4 HCl (1000 OC);
- Si lõplik puhastamine vertikaalse (tiiglivaba) tsoonsulatuse meetodil vaakuumis;
- legeeritud monokristallide kasvatamine sulandist tõmbamise (Czochralski) meetodil.
annaabi.ee 
