külgvedelikuga. Kraan hoitakse lahti seni, kuni külgvedelik tuseb elektroodideni. Seejärel suletakse kraan lplikult ja määratakse piirpinna asukohad kolloidlahuse ja külgvedeliku vahel mlemas U-toru harus. Lülitatakse pingeallikas sisse ja reguleeritakse vastav pinge elektroodidele, fikseerides ühtlasi ka aja. Ettenähtud aja möödudes lülitatakse pinge välja ja määratakse piirpinna edasiliikumise ulatus ja suund (kumba elektroodi poole piirpind nihkus). Valemid: Elektrokineetiline potentsiaal - külgvedeliku viskoossus Pas, v - piirpinna edasiliikumise kiirus m/s, v = h/t, E - elektrivälja tugevus V/m, E= U/L = külgvedeliku dielektriline läbitavus, 0 - vaakumi dielektriline läbitavus 8,85410-12 F/m. Piirpinna nihkumise suuna järgi määratakse laetud osakese märk Katseandmed: Tabel 1 Potentsiaalide Elektroodide Piirpinna Elektro- Külgvedeliku Külgvedeliku
dehüdratiseerus ja sadestus lahusest välja. Kui lisasin vett, siis lahustus tekkinud sade uuesti, sest vähendasin veega sadesti küllastuskontsentratsiooni. Tegu oli pöörduva denaturatsiooniga. Süsivesikud 1.2.1. Molisch'i test Ühte katseklaasi panin ~2 ml tärklise lahust, teise katseklaasi ~2 ml sahharoosi lahust. Mõlemasse katseklaasi tilgutasin 6 tilka Molisch'i reaktiivi, loksutasin. Tärklise lahusele tekkis piirpinnale kollane värvus, sahharoosile tekkis koheselt lillakas piirpind ( lahus oli jaotatud kaheks osaks, piirpind on kahe kihi vaheline osa). Hoides tärklise lahusega katseklaasi kaldasendis, lisasin ettevaatlikult tilkhaaval 1 ml kontsentreeritud väävelhapet (hape voolas mööda katseklaasiseina uuritava lahuse põhja)- toimus kihistumine, kus oli eristatav ülevalt poolt lugedes valge, kollane, lilla, heleroheline osa. Sahharoosiga, toimides samamoodi sain ülemise osa valge tahkja moodustise, põhjast vedel ning piirpind oli intensiivse lilla värvusega.
minimaalselt külgvedelikuga. Kraan hoitakse lahti seni, kuni külgvedelik tuseb elektroodideni. Seejärel suletakse kraan lplikult ja määratakse piirpinna asukohad kolloidlahuse ja külgvedeliku vahel mlemas U-toru harus. Lülitatakse pingeallikas sisse ja reguleeritakse vastav pinge elektroodidele, fikseerides ühtlasi ka aja. Ettenähtud aja möödudes lülitatakse pinge välja ja määratakse piirpinna edasiliikumise ulatus ja suund (kumma elektroodi poole piirpind nihkus). Valemid: Elektrokineetiline potentsiaal , kus - külgvedeliku viskoossus Pas, v - piirpinna edasiliikumise kiirus m/s, v = h/t, E - elektrivälja tugevus V/m, E= U/L = külgvedeliku dielektriline läbitavus, 0 - vaakumi dielektriline läbitavus 8,85410-12 F/m. Piirpinna nihkumise suuna järgi määratakse laetud osakese märk. Katseandmed: Potentsiaalide Elektroodide Piirpinna Elektroforeesi Külgvedeliku Külgvedeliku
Kraan hoitakse lahti seni, kuni külgvedelik tuseb elektroodideni. Seejärel suletakse kraan lplikult ja määratakse piirpinna asukohad kolloidlahuse ja külgvedeliku vahel mlemas U-toru harus. Lülitatakse pingeallikas sisse ja reguleeritakse vastav pinge elektroodidele, fikseerides ühtlasi ka aja. Ettenähtud aja möödudes lülitatakse pinge välja ja määratakse piirpinna edasiliikumise ulatus ja suund (kumma elektroodi poole piirpind nihkus). Valemid: Elektrokineetiline potentsiaal , kus - külgvedeliku viskoossus Pas, v - piirpinna edasiliikumise kiirus m/s, v = h/t, E - elektrivälja tugevus V/m, E= U/L = külgvedeliku dielektriline läbitavus, 0 - vaakumi dielektriline läbitavus 8,85410-12 F/m. Piirpinna nihkumise suuna järgi määratakse laetud osakese märk. Potentsiaalide Elektroodide Piirpinna Elektroforeesi Külgvedeliku Külgvedeliku
aeg viskoossus elektroodidel kaugus, ne läbitavus 140 0,19 0,011 1800 81 Elektrokineetilise potentsiaali arvutan järgmise valemi abil: Kus külgvedeliku viskoossus, piirpinna edasiliikumise kiirus, elektrivälja tugevus, vaakumi dielektriline läbitavus, Piirpind nihkus allapoole ehk negatiivse elektroodi poole, seega osakesed olid positiivselt laetud. Tulemused Antud laboratoorses töös oli vaja uurida elektroforeesi nähtust ning arvutada elektrokineetiline potentsiaal ning määrata osakeste laengu märk. Minu katses elektrokineetiliseks potentsiaaliks tuli 0,0116 V ning osakesed olid positiivselt laetud.
Küllastunud auru rõhk- rõhk, millel vedelik antud temp-l aurustub, see tähendab hakkab keema. rõhu väärtus oleneb vedelikust ja selle temp-st. temp tõustes küllastunud auru rõhk suureneb, samuti suureneb kül auru tihedus,vedelik mille aur kinnises ruumis selle vedeliku kohal on, aga käitub vastupidiselt, paisumise tõttu väheneb vedeliku tihedus, mingil kindlal vedelikule omasel t´-l saavad need tihedused võrdseteks, sellest hetkest kaob vedeliku ja auru vaheline piirpind, nüüd on tegu gaasiga. kui vedelik liigub kiiresti, võib rõhk mingis süsteemiosas langeda alla küllastunud auru rõhu ja kuigi vedelik pole kuum hakkab ta keema. Juhul kui suurendada küllastunud auru tihedust, siis kasvab kül auru rõhk. Kriitiline temp- emperatuuri pideval tõstmisel väheneb pidevalt vedeliku ja selle kohal oleva küllastunud auru erinevus mingil kindlal, sellele ainele omasel temp, vahel see kaob hoopis.
------Charles'i seadus ------Kuidas tekib aur? Alati on olemas kindel hulk molekule, mille kineetilisest energiast piisab vedeliku pinnalt väljumiseks. Need molekulid moodustavad vedeliku pinna kohal gaasilise keskkonna, mis nimetatakse auruks. Auru tekkimise eelduseks on vedela faasi olemasolu. ------Mis on auru kriitiline rõhk? Kriitilise rõhu juures on aine samaaegselt nii vedelas faasis (vesi) kui ka gaasina (aur). ------Millal kaob vedeliku piirpind selle kuumutamisel? Kui temperatuuri veel tõsta, jõuame kriitilise temperatuurini (rõhul 218 atmosfääri ja temperatuuril 374° C), kus kaob erinevus vedela ja gaasilise faasi vahel.
c. Kristallivõre K8 muutub K12 d. Kristallivõre K12 muutub K8 Question 6 (10 points) Millised väited on õiged sulami faasi kohta? (Õigeid vastuseid võib olla enam kui üks) a. Polükristallse struktuuriga materjal võib koosneb ühest faasist b. Sulami faas on termodünaamilise sulamissüsteemi kõigi ühesuguste keemiliste-, füüsikaliste- ja mehaaniliste omadustega osade kogum, mida süsteemi teistest osadest eraldab piirpind c. Faasidiagramm kirjeldab ainult materjali faasilist koostist d. Monokristall võib koosneda rohkem kui ühest faasist Question 7 (10 points) Mis on sisendustüüpi tardlahus? a. Lahustaja komponendi aatomite vahele (tühimikesse) paigutuvad lahustuva komponendi aatomid b. Asendatakse osa lahustaja komponendi aatomeid lahustuva komponendi aatomitega c. Kahe erineva elemedi aatomid moodustavad erinevad kristallivõred, mis
Seejärel suletakse kraan lplikult ja määratakse piirpinna asukohad kolloidlahuse ja külgvedeliku vahel mlemas U-toru harus. Vastavalt juhendaja poolt antud tööülesandele lülitatakse pingeallikas sisse ja reguleeritakse vastav pinge elektroodidele, fikseerides ühtlasi ka aja. Ettenähtud aja möödudes lülitatakse pinge välja ja määratakse piirpinna edasiliikumise ulatus ja suund (kumba elektroodi poole piirpind nihkus) KATSEANDMED Potentsiaalid Elektroodide Piirpinna Elektroforeesi Külgvedeliku Külgvedeliku e vahe vaheline edasinihkumine aeg t viskoossus dielektriline elektroodidel kaugus L h läbitavus U V m m s mPa*s 150 0,233 0,005 1500 0,8902 78,53
Vedelikul on anuma kuju Gaasiline olek. Ainel kindlat ruumala ega kuju. Ta on kas aur või gaas. Auru võib muuta vedelikuks, rakendades ainuüksi rõhku gaas tuleb eelnevalt muuta auruks, alandades tema temperatuuri allapoole taset, mida nimetatakse gaasi kritiitiliseks temperatuuriks. Gaasiline olek-ruumala ja kuju muutuvad. Faas on kahe või rohkema olekuga ainete segu eraldi osa. Faaside vahel on piirpind. Liiva ja vee segu koosneb kahest faasist-tahkest faasist (liiv) ja vedelast faasist (vesi). * Fluidum on aine, mis voolab, s.t ta on gaasilises või vedelas olekus. Aatomid ja Molekulid Aatomiks (kreekakeelest sõnast atomos 'jagamatu') nimetatakse väiksemat osakest, mis säilitab talle vastava keemilise elemendi keemilised omadused. Aatomid võivad aines esineda üksikuna või molekulideks liitununa
moodustunud geomeetriline kujund. Monokristalliks nimetatakse seda keha, mis kujutab endast ühte kristalli. Polükristalliks nimetatakse sellist keha, mis koosneb paljudest korrapäratult asetatud ja kokkukasvanud väikestest kristallidest. Faasiks nimetatakse termodünaamilise süsteemi kõigi ühesuguse keemilise koostise ja ühesuguste füüsikaliste omadustega osade kogumit, mida süsteemi teistest osadest eraldab piirpind. Absoluutseks niiskuseks nimetatakse veeauru hulka õhu ruumalaühikus. Suhteliseks niiskuseks nimetatakse õhu absoluutse niiskuse ja antud temperatuurile vastava küllastunud auru massi suhet, mida tavaliselt väljendatakse protsentides. Difusiooniks nimetatakse ainete segunemist molekulide soojusliikumise tagajärjel.
Litosfäär 1. Mõisted: · Litosfäär maa tahke väliskest, mis koosneb maakoorest ja astenosfääri pealsest vahevööst. · Astenosfäär 100-300 km sügavusel asuv poolvedela aine kiht, mille peal liiguvad laamad. · Moho piirpind 3-70 km sügavusel maakoore ja vahevöö vahel. · Laamtektoonika õpetus, mis käsitleb laamade ehitust ja liikumist. · Rift maakoore rebenemisel tekkinud suur murrangulõhe. · Maardla maavara leiukoht. · Maavärin maakoore vappumine ja järsk lühiajaline kõikumine. · Magma Maa sügavuses tekkinud, veeaurust ja gaasidest küllastunud tulikuum kivimite sulam. · Laava vulkaani kraatrist ja maapinna lõhedest välja voolanud ja suurema osa gaasidest kaotanud magma.
täitmist, kuni külgvedeliku nivoo ulatub soolasillani. Seejärel suletakse kraan lōplikult ja määratakse piirpinna asukohad kolloidlahuse ja külgvedeliku vahel mōlemas U-toru harus. Vastavalt juhendaja poolt antud tööülesandele lülitatakse pingeallikas sisse ja reguleeritakse vastav pinge elektroodidele, fikseeritakse ühtlasi ka aeg. Ettenähtud aja möödudes lülitatakse pinge välja ja määratakse piirpinna edasiliikumise ulatus ja suund ehk kumma elektroodi poole piirpind nihkus. Katseandmed Potentsiaalide Elektroodide Piirpinna Külgvedelik Külgvedeliku Elektrofo- vahe vaheline u viskoossus dielektriline elektroodidel U kaugus L edasinihkumine h reesi aeg t η läbitavus ε 130 V 0,22 m 0,014 m 1500 s 0,00101 Pa.s 80,08
Süvakivimid graniit, gabro Setted liiv, savi, moreen, kruus, rahnud, lubi MÕISTED Lõõmpilv - kuumadest gaasidest ja tefrast koosnev vulkaani nõlva pidi kiirelt alla liikuv tulikuum pilv Litosfäär - maa tahke väliskest, mis koosneb maakoorest ja astenosfääri pealsest vahevööst Astenosfäär - Litosfääri all paiknev poolvedel kiht, mille peal liiguvad laamad. Erosioon - protsesside kogum, mille käigus maakoore pealmine osa mureneb ja kandub ühest kohast teise. Moho piirpind 3-70 km sügavusel maakoore ja vahevöö vahel. Laamtektoonika õpetus, mis käsitleb laamade ehitust ja liikumist. Rift maakoore rebenemisel tekkinud suur murrangulõhe. Maardla maavara leiukoht. Maavärin maakoore vappumine ja järsk lühiajaline kõikumine. Magma Maa sügavuses tekkinud, veeaurust ja gaasidest küllastunud tulikuum kivimite sulam. Laava vulkaani kraatrist ja maapinna lõhedest välja voolanud ja suurema osa gaasidest kaotanud magma.
Sulami komponent.Sulamifaas Sulam on aine, mis on saadud kahe voi enama komponendi (A, B, ...) kokkusulatamise või -paagutamise teel. Metallisulam on sulam, mille põhikomponent (üle 50%) on metall. Sulamisüsteem- antud komponentidest kõikide võimalike sulamite kogum. Sulami komponent- aine, mis moodustab sulami. Sulami faas- termodünaamilise sulamisüsteemi kõige ühesuguste keemilise koostise ja ühesuguste füüsikaliste omadustega osade kogum, mida süsteemi teistest osadest eraldab piirpind. Faasideks võivad olla keemilised elemendid, tahked või vedelad lahused ning keemilised ühendid. 3. Sulamite struktuur: mehaaniline segu (eutektikum, eutektoid), tardlahus ( asendus- ja sisendustüüpi), keemiline ühend Mehaaniline segu- sulami faas, mille korral koosneb sulam komponentide A ja B kristallidest. Eutektikum- mehaaniline segu, mille terades on vaheldumisi ühel ajal eraldunud tardfaasid. Eutektikum tekib vedelast lahusest kristalliseerumise tulemusena.
Ühel hetkel ei jõua pindpinevusjõud kasvava vedeliku massi enam kinni hoida. Tilk „rebeneb” lahti ja kukub alla.Tilkade mõõtmine-Tuleb loetud hulk tilku topsikusse koguda ja ära kaaluda. Nii saab arvutada tilga massi ja tilgale mõjuva raskusjõu. Kui vedeliku tihedus on teada, saab arvutada ruumala ja seekaudu ka tilga läbimõõdu 20. Mull. Mis piirab mulli? Mis on mullis? Tekkimine ja liigitus. Vaht? Mulli, nagu tilkagi, piirab gaasi ja vedeliku piirpind. 21.Mida nimetatakse faasiks? Aine erinevad olekud on ….Ühesuguse keemilise koostise ja ühesuguste füüsikaliste omadustega 22. Mis on faasisiire? Siirdetemperatuur? Faasisiire- aine üleminek ühest faasist teise (nt aurustumine) siirdetemp- füüsikaliste omaduste muutus toimub kindlal temp. 23. Mida kirjeldab siirdesoojus?soojushulk, mis neeldub või eraldub faasisiirdel ühe massiühiku aine kohta. 24. Olekudiagrammi lugemine. 25
Lahutatav segu paigutatakse kolonni algusesse ja seejärel "pestakse" liikuva faasi poolt läbi kolonni. komponentide jaotumine liikuva ja liikumatu faasi vahel. Aeg kolonni läbimiseks sõltub sellest, kui suure osa ajast ta paikneb liikuvas faasis. Aine jaotumine liikuva ja liikumatu faasi vahel sõltub aine vastasmõjudest kummagi faasiga. Kolloidkeemia ja pinnanähtused 43. Pihussüsteemide (dispergeeritud) mõiste ja klassifikatsioon, faasidevaheline piirpind. Kolloidsüsteemide saamismeetodid jagatakse kahte rühma: a) kondenseerimismeetod – väiksemate osade liitmine suuremateks b) dispergeerimismeetod – suuremate osade pihustamine väiksemaks Pihussüsteemid on sellised süsteemid, kus ühed osakesed on teise pihustunud, kahe või enamfaasiline süsteem. Faasidevaheline piirpind – pind kahe faasi vahel. 44. Kolloidlahused. Kolloidlahused on lahused, kus kolloidosakesed on pihustunud lahustissse,
sulamistemperatuuriks. Kolmikpunktis saavad kokku 3 faasipiiri ja seal on need 3 faasi omavahel ka tasakaalus. Kolmikpunkt on ainele iseloomulik suurus, mille asukohta ei saa muuta. Kriitiline temperatuur – temperatuur, mille korral auru ja vedeliku tihedus on võrdsed (ei saa eristada vedelat ja gaasilist faasi). Aururõhk kriitilises temperatuuril – kriitiline rõhk Kriitilisel temperatuuril ja rõhul kaob piirpind auru ja vedeliku vahel ning gaas (aur) pole enam rõhu tõstmisega veeldatav. Auru veeldamiseks piisab rõhu tõstmisest, gaasi veeldamiseks tuleb aga ka temperatuuri alandada. 8. Superkriitiline olek. Aine, mille rõhk ja temperatuur on tema kriitilise punkti väärtusest kõrgemad Keemiline kineetika 1. Reaktsiooni kiirus. Sõltuvus kontsentratsioonist, kiiruste seadused, reaktsiooni järk. Reaktsiooni kiirus on defineeritud kui lähteaine kadumise või saaduste tekke kiirus.
! Emulsioon on dispersne süsteem, mis koosneb lahustusmatutest vedelikest (dispersioonikeskond ja dispersne faas on vedelikud). Üks faasidest on vesi ja teine «õli». Kummas vedelikus lahustab PAA, mis stabiliseerib emulsiooni. Emulsioonid võivad tekkida iseeneslikult, aga sagedamini mehaanilisel dispergeerimisel. Emulsioonide üks olulisi omadusi on stabiilsus. Emulsioonid pole termodünaamiliselt püsivad tänu oma kõrgele pinnaenergiale (faasidevaheline piirpind on väga suur). Stabiilsus võib kaduda mitmesugustel põhjustel: a) sedimentatsioon, b) tilgakeste koalestsents. Esimeses astmes emulsiooni tilgakesed ujuvad pinnale (näiteks õ-v emulsioonide korral) gravitatsioonijõudude toime. Teises astmes toimub tilgakeste koalestsents, mille füüsikaliseks aluseks on pinnaenergia vähenemine ja sellega kaasneb tilgakeste suurenemine. Emulsioonide stabiliseerimiseks tuleb kasutada emulgaatorit. Emulgaatorimaterjalid: PAA,
atm.
Sulamissoojus energiahulk, mis on vajalik 1 mooli aine sulamiseks
sulamistemperatuuril (Hs, kJ/mol). Hs
atm.
Sulamissoojus energiahulk, mis on vajalik 1 mooli aine sulamiseks
sulamistemperatuuril (Hs, kJ/mol). Hs
meetodil? Stalagmomeetriline meetod-Loetakse kindlast ruumalast tekkinud tilkade arvu 2 8. Millel põhineb mullikeste suurima rõhu meetod? Mulli suurima rõhu meetod- Siin mõõdetaks rõhku, mida on vaja rakendada, et suruda läbi kapillaari ava ühe vedeliku sisse teise vedeliku tilk või gaasimullike. 9. Kuidas ja miks sõltub pindpinevus temperatuurist? Kriitilisel temperatuuril faasidevaheline piirpind kaob. Vedeliku pindpinevuse sõltuvus temperatuurist: 10. Mida nimetatakse kohesiooniks ja adhesiooniks? Miks on need nähtused olulised? Milliseid parameetreid kasutatakse nende kvantitatiivseks iseloomustamiseks? Kohesioon: on töö ühtlase mahulise faasi katkestamiseks ühikulise katkepinna kohta. Kohesioon avaldab vastupanu aine dispergeerimisele. Lahtirebimisel moodustub kaks ühesuguse suurusega pinda. Lahtirebimisel moodustub 2 ühesugust pinda.
channel of distribution= distribution channel- jaotuskanal, turustuskanal 16. sequence- jada, sari 17. negotiation- läbirääkimiste pidamine, läbirääkimine, äritegemine 18. intermediary- vahendaja, maakler 19. merchandise- müügikaup, ostukaup 20. to effect- vormistama, teostama, sooritama, täide viima 21. pallet- tõstealus 22. forklift truck- kahveltõstuk 23. management- organiseerimine, korraldamine 24. concern- hool, mure 25. interface- piirpind, liides, kasutajaliides 26. cash till- rahalaegas, kassa kaupluses, sularahaautomaat 27. consideration- kaalutlemine, arutlemine, kasu, tulu 28. amount to- tegelikult tähendama, millenigi jõudma 29. chain- kett 30. bound- seotud, kohustatud 31. is bound to result in- lõpeb kindlasti 32. economies- säästud 33. economies of specialisation- spetsialiseerumisest tulenev sääst 34. economies of scale- majanduslik mastaabisääst 35. volume- maht 36
Kohesioon on töö ühtlase mahulise faasi katkestamiseks ühikulise katkepinna kohta. Kohesioon avaldab vastupanu aine dispergeerimisele. Lahtirebimisel moodustub kaks ühesuguse suurusega pinda. Uue faasi moodustamiseks tuleb kulutada energiat. Kohesioonitöö gaasikeskkonnas on esitatud vasakpoolsel joonisel, vaakumis aga parempoolsel joonisel. Adhesioon on töö faasidevahelise pinna katkestamiseks. Seda tööd tarvitatakse kahe uue pinna moodustamiseks. Piirpind kaob. Adhesiooni mõõduks on pindade lahtirebimiseks kuluv töö pinnaühiku kohta (Wa). Seda mõõdetakse samades ühikutes kui pindpinevust (m2 J). Viies (t) ja (v) kokku, tekib faasidevaheline pindpinevus tv.Faasidevaheline pindpinevus muutub võrdseks nulliga, kui kaob faasidevaheline piirpind. See toimub, kui faasid lahustuvad teineteises täielikult. Eristatakse adhesiooni kahe vedeliku, vedeliku ja tahke aine ning kahe tahke aine vahel. 23
Süsivesikute reaktsioonid: 1. Molischi test Süsivesikute olemasolul tekib nende segus -naftooliga (C10H7OH) konts. väävelhappe lisamisel happe ja lahuse piirpinnale purpurne kiht. Töö käik: ühte katseklaasi valasin 2 ml glükoosi ja teise 2 ml sahharoosi lahust lisasin mõlemasse katseklaasi 0,5 ml Molischi reaktiivi (-naftooli lahus alkoholis) loksutasin lisasin tilkhaaval 1 ml konts. väävelhapet (rohkem ei loksuta). Tulemus: Peale väävelhappe lisamist oli piirpind tumeroheline/pruunikas mõlemas lahuses. Natukese aja pärast hakkas tekkima purpurne, kahe kihi vahele. Purpur tekkis kiiremini sahharoosi sisaldavas katseklaasis. Mõlemas katseklaasis hõljus happe kohal lillakas puru (reaktiivist). Maisitärklist sisaldavas katseklaasis puudus kahe lahuse piiril lilla kiht. Järeldus: Nii glükoosis kui sahharoosis sisalduvad süsivesikud.?? Mis nad siis ise on? Valgu lahuses neid ei sisaldu, sest lillat piirprodukti ei tekkinud.
jne. *Homogeensete süsteemide korral pinnaenergia osakaal süsteemi koguenergia suhtes väga väike. *Suurem osa osakesi asub faasi sees ega puutu eralduspinnaga kokku. *Piirpinnal asetsevate osakeste vabadusastmete arv väiksem kui faasi sisemuses ja molekulaarsed jõuväljad (Van der Waalsi jõud jne) gaasifaasi poolt kompenseerimata. *Pindala suhet ruumalasse iseloomustab eripind. *Tänu vedelike molekulide võimele liikuda uueneb vedelik-gaas-piirpind pidevalt. *Mida lähedamal on molekul pinnale, seda rohkem jääb jõuväli kompenseerimata. Selle tõttu suureneb pindkihi potentsiaalne energia *Mida tugevamad on lahuses olevate molekulide intermolekulaarsed jõud, seda rohkem tuleb tööd teha pinna suurendamiseks. *Olulist osa pindpinevuse suurendamisel etendavad ka vesiniksidemed. *Kui pinna suurendamisega kaasneb vabaenergia kasv, siis peab järelikult vastassuunaline protsess
*Homogeensete süsteemide korral pinnaenergia osakaal süsteemi koguenergia suhtes väga väike. *Suurem osa osakesi asub faasi sees ega puutu eralduspinnaga kokku. *Piirpinnal asetsevate osakeste vabadusastmete arv väiksem kui faasi sisemuses ja molekulaarsed jõuväljad (Van der Waalsi jõud jne) gaasifaasi poolt kompenseerimata. *Pindala suhet ruumalasse iseloomustab eripind. *Tänu vedelike molekulide võimele liikuda uueneb vedelik-gaas-piirpind pidevalt. *Mida lähedamal on molekul pinnale, seda rohkem jääb jõuväli kompenseerimata. Selle tõttu suureneb pindkihi potentsiaalne energia *Mida tugevamad on lahuses olevate molekulide intermolekulaarsed jõud, seda rohkem tuleb tööd teha pinna suurendamiseks. *Olulist osa pindpinevuse suurendamisel etendavad ka vesiniksidemed. *Kui pinna suurendamisega kaasneb vabaenergia kasv, siis peab järelikult vastassuunaline protsess (pinna
Töö käik: Valasin ühte katseklaasi 2ml tärklise lahust ja teise 2ml laktoosi lahust. Lisasin mõlemasse katseklaasi 5 tilka Molisch'i reaktiivi (-naftooli lahus alkoholis), loksutan katseklaase. Lisasin katseklaasi kaldus hoides mõlemasse klaasi 1ml väävelhapet. NÜÜD EI TOHI ENAM LOKSUTADA (hape ja proov ei tohi seguneda). Tärklisega katseklaasis muutus segu alumine lahuse osa roheliseks ning piirpinnal oli purpurjas kiht. Laktosiga klaasis oli alumine osa samuti roheline kuid piirpind oli lillakam. Järeldus: Selle katsega sai tõestatud, et tärklis ja laktoos on süsivesikud (sahhariidid) 1.2.2 Osasoonide saamine Osasoonid, süsivesikute derivaadid, tekivad redutseeriva suhkru reageerimisel fenüülhüdrasiiniga. Monoosidega kõrvuti moodustavad osasoone ka taanavad oligosahhariidid. Osasoonid kristalluvad lahusest välja. Osasoonide järgi saab eristada sarnaseid suhkruid, mille stereostruktuurid erinevad ühe kiraalse tsentri konfiguratsiooni tõttu.
Täielikul mittemärgumisel = 1800; cos = -1; ja tv = tg + vg Kohesioon: on töö ühtlase mahulise faasi katkestamiseks ühikulise katkepinna kohta. Kohesioon avaldab vastupanu aine dispergeerimisele. Lahtirebimisel moodustub kaks ühesuguse suurusega pinda. Uue faasi moodustamiseks tuleb kulutada energiat. Kohesioonitöö gaasikeskkonnas: Wk=2vg. Kohesioonitöö vaakumis: Wk=2B. Adhesioon: on töö faasidevahelise pinna katkestamiseks. Seda tööd tarvitatakse kahe uue pinna moodustamiseks. Piirpind kaob. Adhesiooni mõõduks on pindade lahtirebimiseks kuluv töö pinnaühiku kohta (Wa). Seda mõõdetakse samades ühikutes kui pindpinevust ( J/m2). Viies (t) ja (v) kokku, tekib faasidevaheline pindpinevus tv. Faasidevaheline pindpinevus muutub võrdseks nulliga, kui kaob faasidevaheline piirpind. See toimub siis, kui faasid lahustuvad teineteises täielikult. Eristatakse adhesiooni kahe vedeliku, vedeliku ja tahke aine ning kahe tahke aine vahel. 20. Elektriline kaksikkiht
sirgetest moodustunud geomeetriline kujund. Monokristalliks nimetatakse seda keha, mis kujutab endast ühte kristalli. Polükristalliks nimetatakse sellist keha, mis koosneb paljudest korrapäratult asetatud ja kokkukasvanud väikestest kristallidest. Faasiks nimetatakse termodünaamilise süsteemi kõigi ühesuguse keemilise koostise ja ühesuguste füüsikaliste omadustega osade kogumit, mida süsteemi teistest osadest eraldab piirpind. Absoluutseks niiskuseks nimetatakse veeauru hulka õhu ruumalaühikus. Suhteliseks niiskuseks nimetatakse õhu absoluutse niiskuse ja antud temperatuurile vastava küllastunud auru massi suhet, mida tavaliselt väljendatakse protsentides. Difusiooniks nimetatakse ainete segunemist molekulide soojusliikumise tagajärjel. 6 SOOJUS – AINEOSAKESTE KAOOTILISE LIIKUMISE ENERGIA Soojusliikumine toimub aine eri faasides erinevalt. Ideaalne gaas: • molekule on palju ja nad on ühesugused
Nekton- suured veeloomad, aktiivse liikumisvõimega (kalad ja imetajad) Bentos põhja ja selle lähedast veekihti asustvad organismid (korallrifid) Neuston vee ja õhu piirpinda asustavad organismid (karbid) Pleuston organimsid, millil osa kehast asub veel ja osa veepinna kohal (ujutaimed) Pelagiaal avaveeosa Bentaal veekogu põhi ja selle veekiht, ulatub põhjataimestiku alumisest piirist suurima sügavuseni. Neustaal vee ja õhu piirpind Pindpinevus - veepinnale moodustub kile, mille põhjuseks on paralleelselt veepinnaga mõjuvad molkeulidevahelised jõud. Veeringe Magevees 70% on jää või lumi ja jäääb joogiveest välja. Liustikud sulavad ja sulvaad ookeiani. Põhjavesi on 30% ja sobib joogiveeks, aga on keeruline kätte saada. Tartu all on 5 põhjavee kihti, erinevate maitseomadustega. Põhjaveekihtides toimub ka liikumine, jõuab allikate või käbi mingite aukude
Mustast august eemalduva valguslaine võnkesagedus väheneb, Muidugi on need muutused olulised ainult Schwarzschildu sfääri lähedal, mustast august kaugel muutub võnkesagedus vähe. Mustade aukude iseloomulikke omadusi 7 Must auk on oma tekkimise hetkel lapik, kuid see kuju ei saa olla püsiv. Nagu väljavenitatud seebimull võtab pärast häiriva mõju alt vabanemist kera kuju, nii omandab ka musta augu ,,moondunud" piirpind kiiresti sileda sfäärilise kuju. Kõik ülearuse viivad ära gravitatsioonilained. Tekib täiesti kerasümmeetriline must auk täiesti kerasümmeetrilise välise gravitatsiooniväljaga, mida iseloomustab ainult üks suurus- gravitatsioonikeskme mass. Mustad augud võivad olla suured (massiivsed) ja väikesed, kuid kõiges ülejäänud on nad üksteisega täiesti sarnased. Must auk ei saa pöörelda kuitahes suure kiirusega. Liiga kiiresti pöörlevast kehast ei
valem tähtede ja numbrite kombinatsiooniga E100-E199 toiduvärvid. d.nomeklatuursed nimetused on standardiseeritud puhastele ainetele JUPAC poolt: H2SO4 tetraoksosulfaat(VI)vesinik. 3. Liht ja liit.:Aine on puhas kui ta ei sisalda lisandeid (suhteline mõiste). Homogeenses segus on keemiline struktuur igas ruumiosas sarnane (õhk, lahused), heterogeenses aga ebaühtlane. Faas on heterogeense süsteemi üks homogeenne osa, eri faase eraldab piirpind. Süsteem on ruumiosa, mis võib olla piiratud piirpindadega (suletud süsteem) ja mitte (avatud süsteem). Reaktsiooni kiirust mõõdetakse reageerivate ainete konsentratsioonide muutusega ajaühikus. Reaktsiooni kiirus oleneb : a) heterogeenses keskkonnas: 1)temperatuurist 2)konsentratsioonist 3)gaaside ja aurude korral nende rõhust; b) homogeenses keskkonnas : 1,2,3, vt. eelmiseid, 4)faaside
kriitilisest väärtusest. Väiksema nurga korral haarab must auk keha gravitatsiooniliselt, suurema nurga korral lendab keha kosmosesse. Kriitilise nurga suurus sõltub keha ja musta augu vahelisest kaugusest. Mida kaugemal on keha mustast august, seda väiksem on kriitiline nurk. Must auk on oma tekkimise hetkel lapik, kuid see kuju ei saa olla püsiv. Nagu väljavenitatud seebimull võtab pärast häiriva mõju alt vabanemist kera kuju, nii omandab ka musta augu ,,moondunud" piirpind kiiresti sileda sfäärilise kuju. Kõik ülearuse viivad ära gravitatsioonilained. Tekib täiesti kerasümmeetriline must auk täiesti kerasümmeetrilise välise gravitatsiooniväljaga, mida iseloomustab ainult üks suurus- gravitatsioonikeskme mass. Mustad augud võivad olla suured (massiivsed) ja väikesed, kuid kõiges ülejäänud on nad üksteisega täiesti sarnased. Must auk ei saa pöörelda kuitahes suure kiirusega. Liiga kiiresti pöörlevast kehast ei saa
temperatuuril. Mida puhtam on metall, seda enam on ta kalduv allajahutusele. Metalli jahtumiskõverad erinevatel jahtumiskiirustel Faasid, mehaanilised segud ja tardlahused Faas on sulami kõigi ühesuguse keemilise koostisega ja ühesuguste füüsikaliste omadustega osade kogum, mida süsteemi teistest osadest eraldab piirpind. Mehaanilise segu korral koosneb sulam komponentide A ja B kristallidest. Sagedamini esineb mehaaniliste segude korral struktuur, mille terades on vaheldumisi üheaegselt eraldunud tardfaasid. Eutektikum - kihilise ehitusega segu, kui ta tekib vedelast lahusest selle kristalliseerumise tulemusena. Eutektoid - tekib tardlahuse ümberkristalliseerumise või lagunemise tulemusena. Tardlahusteks nim
Kohesioon avaldab vastupanu aine dispergeerimisele. Lahtirebimisel moodustub kaks ühesuguse suurusega pinda. Uue faasi moodustamiseks tuleb kulutada energiat. Kohesioonitöö gaasikeskkonnas on esitatud vasakpoolsel joonisel, vaakumis aga parempoolsel joonisel. Adhesioon on erinevate faaside vahelise sideme katkestamiseks vajalik töö. On töö faasidevahelise pinna katkestamiseks. Seda tööd tarvitatakse kahe uue pinna moodustamiseks. Piirpind kaob. Adhesiooni mõõduks on pindade lahtirebimiseks kuluv töö pinnaühiku kohta (Wa). Seda mõõdetakse samades ühikutes kui pindpinevust (J/m2). Viies (t) ja (v) kokku, tekib faasidevaheline pindpinevus tv. Faasidevaheline pindpinevus muutub võrdseks nulliga, kui kaob faasidevaheline piirpind. See toimub, kui faasid lahustuvad teineteises täielikult. Eristatakse adhesiooni kahe vedeliku, vedeliku ja tahke aine ning kahe tahke aine vahel.
atm.
Sulamissoojus energiahulk, mis on vajalik 1 mooli aine sulamiseks
sulamistemperatuuril (Hs, kJ/mol). Hs
atm. Sulamissoojus – energiahulk, mis on vajalik 1 mooli aine sulamiseks sulamistemperatuuril (∆Hs, kJ/mol). ∆Hs<∆Ha Sublimatsioon – tahke aine üleminek gaasufaasi vedelfaasi läbimata. Sublimatsioonisoojus – soojushulk, mis on vajalik 1 mooli aine üleminekuks tahkest olekust gaasilisse konstantsel temp vedelat olekut läbimata. (∆Hsub, kJ/mol). ∆Hsub = ∆Hs + ∆Ha Kriitiline temperatuur – temp, mil vedeliku ja gaasi vaheline piirpind kaob (kaob erinevus gaasi ja vedeliku vahel). Kriitiline rõhk – vedeliku auru rõhk kriitilisel temp. Max võimalik auru rõhk antud vedelikule. Ülikriitiline olek – kriitilisest temp kõrgemal olev olek. Ainetel on nii vedeliku kui gaasi omadusi – vedelikena lahustuvad ühendeid, samas on tihedus oluliselt väiksem ja puudub pindpidevus. 18. Suhteline niiskus – õhu tegelik niiskussisalduse (veeauru osarõhu) suhe
adsorbaadiks. Ainet või keskkonda, mille pinnal adsorptsioon toimub nimetatakse adsorbendiks. Tuntumad adsorbendid on suure poorsuse ja eripindalaga ained: aktiivsüsi, silikageel, alumogeel, aktiivmuld jm. Absorptsioon on gaasi või gaasisegu neeldumine vedelikus või tahkises (vedeliku neeldumist tahkises). Neeldumiskeskkonda või -ainet nimetatakse absorbendiks. 91. Adsorptsioon vedeliku ja gaasi piirpinnal. Tänu vedelike molekulide võimele liikuda uueneb vedelik-gaas-piirpind pidevalt. Mida lähedamal on molekul pinnale, seda rohkem jääb jõuväli kompenseerimata. Selle tõttu suureneb pindkihi potentsiaalne energia. 92. Absorptsioon ja adsorptsioon (erinevus). Absorptsioon on gaasi või gaasisegu neeldumine vedelikus või tahkises (vedeliku neeldumist tahkises). Adsorptsioon on aatomite, ioonide, biomolekulide, gaasiliste, vedelate ning lahustunud molekulide adhesioon pinnale. 93. Millised ained on hüdrofoobsed, millised hüdrofiilsed?
Jahtumiskiiruse kasvades suureneb ka allajahutusaste ja kristalliseerumine toimub tasakaalutemperatuurist märgatavalt madalamal temperatuuril. Mida puhtam on metall, seda enam on ta kalduv allajahutusele. Tavaliselt ei ületa allajahutusaste 10...30 °C. JOONIS Faasid ja mehaanilised segud Sulami faas - termodünaamilise sulamisüsteemi kõigi ühesuguse keemilise koostisega ja ühesuguste füüsikaliste omadustega osade kogum, mida süsteemi teistest osadest eraldab piirpind. Mehaaniline segu- mehaanilise segu korral koosneb sulam komponentide A ja B kristallidest. Kui niisuguses sulamis uurida komponentide A ja B kristallide omadusi üksikult, siis langeksid need ühte puhaste komponentide A ja B omadustega. Sagedamini esineb mehaaniliste segude korral struktuur, mille terades on vaheldumisi üheaegselt eraldunud tardfaasid. Sellist kihilise ehitusega segu nimetatakse eutektikumiks (kreekakeelsest sõnast
Milleri indeksid on kristallograafiliste tasapindade identifitseerimiseks. Indeksid on defineeritud, kui pöördväärtused lõikudes, mida antud tasapind teeb kristallograafilistele x,y,z telgedele. Ühikmõõduks on kuublise võre elementaarraku mõõtmed. 7.Millised on polükristallilised materjalid? Polükristallilised materjalid on materjalid, mis koosnevad paljudest väikestest kristallidest. Osakesed selles materjalis omavad täiesti juhuslikku suunda ja nende vahel on piirpind. 8.Miks materjali välispind kujutab endast energia liiga? Kuna pinna aatomite osa sidemeid on vabad, sest nende aatomite naabrite arv pole vastav sellele, mida nõuab püsiva sideme moodustamine. Seega kujutab materjali pind endast kõrgema energiaga olekut võrreldes sisemusega. 9.Millised on laengukandjad elektroonses elektrijuhis? Elektroonses elektrijuhtivuses on laengukandjateks elektronid. Pos laetud osakesed saavad väljasuunalise kiirenduse, neg laetud aga vastupidise suuna kiirenduse
elektrikaares, vedelate/tahkete ainete peenestamine ultraheliga, katkestamiseks. Seda tööd tarvitatakse kahe uue pinna emulgaatorit, võib emulsiooni õ/v muuta emulsiooniks v/õ või Solubilisatsiooniga kaasnevad muutused mitselli ehituses: mitselli keemiline dispergeerimine. Kolloidosakste puhastamine: dialüüs, moodustamiseks, piirpind kaob, mõõduks on pindade vastupidi. Protsessi, mille tagajärjel muutub emulsioonis ruumala suureneb ja mitsell võib omandada kihilise ehituse.Kui seep elektridialüüs. Ültrahelifiltreerimine, tsentrifuugimine. Optilised lahtirebimiseks kuluv töö pinnaühiku kohta
osaliselt laiali (märgumisnurk on teravnurk); jääp terakujulisena, tekib nüsinurk. Nurga suurust v saab seletada pindpinevusjõududega, Õli korral kas oleofiilne v oleofoobne. Täielikul märgumisel v=0, täielikul mittemärgumisel v=180'.Kohesioon: töö ühtlase mahulise faasi katkestamiseks ühikulise katkepinna kohta. K avaldab vastupanu aine dispergeerimisele. Adhesioon on töö faasidevahelise pinna katkestamiseks. Seda tööd tarvitatakse kahe uue pinna moodustamiseks, piirpind kaob, mõõduks on pindade lahtirebimiseks kuluv töö pinnaühiku kohta. Kah vedeliku, vedeliku ja tahke aine ja kahe tahke aine vahel. . Kohesioonitöö on määratud aurustumise entalpiaga, kus Haur = Gaur + TSaur. Tasakaalus, kui p,T=const, siis G=0 ja Haur =TSaur. Saur=S0-Rln(p/patm). S0-aurustumise entroopiamuut keemit-il, patm atmosfäärirõhk keemisel qaur=TkeemS0 ehk qaur/Tkeem=S+. Qaur aurustumissoojus keemist-il
Murrangud tekivad maakoores esinevate tektoonilistest liikumistest tulenevate pingete lahenemise teel. Murrangu tekke ja edasise arenguga kaasnevad maavärinad. Murrangud esinevad tihti suuremate gruppidena, moodustades murranguvööndeid. Valdav osa murranguist esineb vaid maakoore ülaosas (10...15 km) nn haprate deformatsioonide vööndis. Sellest allpool on kivimid suure rõhu ja temperatuuri tõttu plastilisemad. Seetõttu nimetatakse seda vööndit plastiliste deformatsioonide vööndiks. Piirpind kahe murrangu ploki ehk tiiva vahel on murrangupind. Kui murrangupind on mittevertikaalne, nimetatakse alumist plokki murrangu lamavaks ning ülemist murrangu lasuvaks tiivaks. Murrangu orientatsioon määratakse tema lasumuselementide abil. Murrangu kallakusnurgaks on horisontaaltasapinna ja murrangupinna vaheline nurk. A kerkemurrang, B normaalmurrang, C nihkemurrang. Murrangu struktuurideks on pind ja tiivad. Murrangupind pind, mida mööda toimub kivimiplokkide nihkumine.
6.Mis on Miller'i indeksid? indeksid on kristallograafiliste tasapindade indentifitseerimiseks.indeksid on defineeritud,kui pöördvaärtused lõikudes,mida antud tasapind teeb kristallograafilistele x, y z telgedele. Ühikmõõduks on kuubilise võre elementaarraku mõõtmed. 7.Millised on polukristallilised materjalid? Polukristallilised materjalid on materjalid mis koosnevad paljudest väikestest kristallidest. Osakesed selles materjalis omavad täiesti juhuslikku suundaja nende vahel on piirpind. 8.Miks materjali välispind kujutab endast energia liiga? Kuna pinna aatomite osa sidemeid on vabad, sest nende aatomite naabrite arv pole vastav sellele, mida nõuab püsiva sideme moodustamine. Seega kujutab materjali pind endast kõrgema energiaga olekut võrreldes sisemusega . 9.Millised on laengukandjad elektroonses elektrijuhis? Elektroonses elektrijuhtivuses on laengukandjateks elektronid.Pos.laetud osakesed saavad
temperatuur kiire, kiirus sõltub temperatuurist, mittepöörduv protsess. 79. Gibbsi adsorptsioonivōrrand. Gibbsi adsorptsiooniks e. Gibbsi pindliiaks nimetatakse aine hulka, mis tuleb lisada süsteemile, kui pindala suureneb ühe ühiku võrra (näiteks 1 cm2) selleks, et aine kontsentratsioon süsteemis jääks samaks. 80. Adsorptsioon vedeliku ja gaasi piirpinnal. Tänu vedelike molekulide võimele liikuda uueneb vedelik-gaas-piirpind pidevalt. Mida lähedamal on molekul pinnale, seda rohkem jääb jõuväli kompenseerimata. Selle tõttu suureneb pindkihi potentsiaalne energia 81. Absorptsioon ja adsorptsioon (erinevus). Absorptsioon on gaasi või gaasisegu neeldumine vedelikus või tahkises (vedeliku neeldumist tahkises). Adsorptsioon on aatomite, ioonide, biomolekulide, gaasiliste, vedelate ning lahustunud molekulide adhesioon pinnale. 82. Millised ained on hüdrofoobsed, millised hüdrofiilsed?
-Vedeliku pinnal moodustub energeetiline barjäär, millest läbiminek nõuab kindlat energiat. Alati on olemas kindel hulk molekule, mille kineetilisest energiast piisab vedeliku pinnalt väljumiseks. Need molekulid moodustavad vedeliku pinna kohal gaasilise keskkonna, mida nimetatakse auruks. Auru tekkimise eelduseks on vedela faasi olemasolu 26. Mis on auru kriitiline rõhk? -Kriitilise rõhu juures on aine samaaegselt nii vedelas faasis (vesi) kui ka gaasina (aur) 27. Millal kaob vedeliku piirpind selle kuumutamisel? -Kui jõuame kuumutamisel kriitilise temperatuurini (rõhul 218 atmosfääri ja temperatuuril 374oC), kus kaob erinevus vedela ja gaasilise faasi vahel. S.t et molekulide tõenäoseim kineetiline energia ületab molekulaarjõudude poolt määratud väljumistöö vedeliku pinda määravate jõudude mõju kaob ja koos sellega ka pind ise. Ehitusmaterjalid ja vesi 1.Milline tähtsus on niiskusel ehituses?
adsorbaadiks. Ainet või keskkonda, mille pinnal adsorptsioon toimub nimetatakse adsorbendiks. Tuntumad adsorbendid on suure poorsuse ja eripindalaga ained: aktiivsüsi, silikageel, alumogeel, aktiivmuld jm. Absorptsioon on gaasi või gaasisegu neeldumine vedelikus või tahkises (vedeliku neeldumist tahkises). Neeldumiskeskkonda või -ainet nimetatakse absorbendiks. 91. Adsorptsioon vedeliku ja gaasi piirpinnal. Tänu vedelike molekulide võimele liikuda uueneb vedelik-gaas-piirpind pidevalt. Mida lähedamal on molekul pinnale, seda rohkem jääb jõuväli kompenseerimata. Selle tõttu suureneb pindkihi potentsiaalne energia. 92. Absorptsioon ja adsorptsioon (erinevus). Absorptsioon on gaasi või gaasisegu neeldumine vedelikus või tahkises (vedeliku neeldumist tahkises). Adsorptsioon on aatomite, ioonide, biomolekulide, gaasiliste, vedelate ning lahustunud molekulide adhesioon pinnale. 93. Millised ained on hüdrofoobsed, millised hüdrofiilsed?
Nii hakkab vesi keema rõhul 760 mmHg 100 °C juures, rõhul 250 mmHg 70 °C juures. Järelikult sõltub keemistemperatuur välisrõhust. Mida madalam on rõhk, seda madalam on keemistemperatuur. Vedelik hakkab keema vaid avatud anumas, anuma siserõhk võrdsustub välisrõhuga kuna aur eraldub atmosfääri. Suletud anumas vedelik keema ei lähe. Vedeliku tihedus temperatuuri tõustes väheneb ja gaasifaasi tihedus kasvab kuni nad saavad võrdseks piirpind kaob. Temperatuuri, mil vedeliku ja gaasi vaheline piirpind kaob (kaob erinevus gaasi ja vedeliku vahel) nim. antud aine kriitiliseks temperatuuriks. Aurustumissoojus (.Ha, kJ/mol) Antud aine aurustumissoojuseks (aurustumisentalpiaks) nimetatakse soojushulka, mis on vajalik 1 mooli aine üleminekuks vedelast olekust gaasilisse konstantsel temperatuuril: määratakse katseliselt, ühik kJ/mol. Aurustumissoojuse väärtused on alati positiivsed (aurustumisel soojus neeldub).
Difusiooni sügavuse avaldis Võtame Ficki I seadusest tuletise x-i kaudu , kui D=const siis Kolloidkeemia Kristian Leite 2012 Materjal/aine Kalju Lott 6. Kolloidlahuste osmootne rõhk. Defineerime esiteks osmootne rõhk. Olgu meil selleks kaks faasi ja . ja vahel on osaliselt läbilaskev membraan (piirpind). Nende faaside kontsentratsioonid on erinevad, toimub molekulide liikumine keemilise potentsiaali ajendil. Rõhk, mis oleks vaja rakendada selle liikumise vastu, et liikumine peatuks, olekski osmootne rõhk (Pa). Olemuselt on see seotud seega keemilise potentsiaaliga. Van't hoffi võrrand või Leiame 1 ja 2 suhte Sellest järeldub, kuna , eeldame et molekulide arv on sama Siit võibki järeldada, et osmootne rõhk kasvab PÖÖRDVÕRDELISELT molekuli suurusega. Järelikult seisneb
annaabi.ee 
