Vajad kellegagi rääkida?
Küsi julgelt abi LasteAbi
Logi sisse
Sulge

"peroksiidis" - 2 õppematerjali

VIA Rühma elemendid
3
odt

VIA Rühma elemendid

struktuur on hõre, seetõttu on jää kergem kui vesi polaarse ainena on vesi heaks lahustiks polaarsetele või ioonilistele ainetele vesi on keemiliselt püsiv ühend ja väga nõrk elektrolüüt võib reageerida aluseliste ja happeliste oksiididega, seega avalduvad nii happelised kui ka aluselised omadused aktiivsemate metallide suhtes käitub vesi oksüdeerijana, eraldades vesinikku · Vesinikperoksiid(H2O2) Hapniku o.a peroksiidis on -I Ebapüsiv Päikesevalguse käes ja eriti katalüsaatorite toimel laguneb ta kiiresti tugev oksüdeerija saab kasutada pleegitamisel kasutades vesiniku peroksiidi kontsentreeritumaid lahuseid, tuleb olla ettevaatlik, sest need võivad tekitada nahale söövitushaavu Hapnik looduses · Hapniku levinuim allotroop looduses on tavaline molekulaarne hapnik ehk dihapnik · Atmosfääri on hapnik tekkinud peamiselt fotosünteesi tulemusena

Keemia → Keemia
15 allalaadimist
Materjalide keemia
36
docx

Materjalide keemia

kaotamine ligniini eemaldamata. Pleegitamine ­ Cl2- suht madal konts 12-15%, eksotermiline, 45-90 min, ph alla 2, ei kahjusta nii tselluloosi, järgneb leelise ekstraktsioon, temp 60-80, kestvus 2h. Hüpoklorot- reageerib ligniini kromofoorsete rühmadega, reageerib tselluloosiga, slufittselluloosil, ph üle 9 , 35-40kraadi, 1-2t. ClO2 ­ kõrge valgesus, suure selektiivsusega, mõjutab tseluloosi vähe, 2-4t, kõrge konts, 70-75 kraadi, ph 3,4-4, siis 5,5-6. Peroksiidis- kõrge saagiseda tselluloosi ja puitmassi pleegitamiskes, madal temp, mõjub vähe saagisele, ph 10,5, regul. NaOH ja Na-silikaadiga, 1-3t. O2-ga- kõrge konts ja temp, leeliseline keskkond, 20-60min, oht tselluloosi lagunemise ­ listakse Mg soola. Osoon- tugev oksüdeerija, kõrged konts, madal temp, hapu keskkond. Ditioniit ­ puitmassi peegeldamine, tõstab valgesust 5-12%, püsivus ei ole hea, madal konts, ph 4-6, temp 50-70, stabilisaatoreid, 1t

Keemia → Materjalide keemia
24 allalaadimist


Sellel veebilehel kasutatakse küpsiseid. Kasutamist jätkates nõustute küpsiste ja veebilehe üldtingimustega Nõustun