nukleotiidid, DNA- matriitsiks, nukleotiidid, polümeraas, ATP RNA-polümeraas, ATP KOMPLEMENTAAR G-C; C-G; A-T; T-A G-C; C-G; A-U; T-A SUS KÄIK Alguspunkte(replikone) on Promootoriga seostab palju, kiirus 3-4k nukleotiidi polümeraas. Terminaator min. lõpetab. TULEMUS 2 terviklikku DNA molek., Tekib 3 eri vormi RNA-d: kuna replitseeruvad tRNA, mRNA, rRNA mõlemad ahelad ERINEVUSED Matriitsiks terve molek. Matriitsiks lõik DNA-st. Tekib 1 molekulide vorm. Tekib 3 eritüüpi molek. Replitseeruvad mõlemad Transkirbeerub ühe ahela ahelad. lõik.
Alleel-geeni vorm (emalt ja isalt) Dominantne alleel määrab dominantsed tunnused. Retresiivne tunnus varjatud tunnus. Mutageen mutatsioone esile kutsuv aine v tegur. Nt. viirused, bakterite mürgid, taimsed alkaloidid *inimese igas keharakus on 23 paari kromoseeme *naise sugukromosoomide paar on xx *inimese sugu määratakse viljastumise hetkel *inimese geenid kokku moodustavad genotüübi *geenmutatsiooni korral on muutused DNA molek. Pärilik muutlikus *muutlikus tingitud geenide v kromosoomide ehituse muutusest. *pärandub järglastele Mittepärilik muutlikus *muutlikus tingitud keskkonnateguritest ja pärilikkusest. *muutused ei pärandu järglastele. Suguline paljunemine *vaja kaht eri soost vanemoraganismi *muutlikus suur Mittesuguline paljunemine *piisab ühest organismist. *muutlikus väga väike Pärilikud haigused avalduvad kohe pärast sündi või hiljem, aga päriliku soodumusega
Reaalne gaas on gaas, kus on: 1)gaasi molekulidel olemas ruumala 2)gaasi molekulide vaheline vastastikmõju Pindpinevus vedelik üritab omandada võimalikult väikese Fp=*l Fp-pindpinevusjõud, sigma-pi- pindala. pi.tegur (N/m), l-pinna piirjoone pikkus (m) Pind käitub pingule tõmmatud kilena, sest mõjub jõud risti pinnaga. Kui ved ja tahke keha molek omavahelised kõlgetõmbejõud on Kapillaarsus, veesamba kõrguse valem: suuremad kui ved.sisesed, siis ved märgab tahket pinda. Athesioon> Kui ved molek omavahelised külgetõmbejõud on suuremad kui h-kõrgus, roo, r-raadius(m), ved ja tahke keha, siis ei märga. Kohesioon> pipi.t. Abs.õhuniiskus, grammi kuupmeetri kohta. Suhteline õhuniiskus = /0*100%
Tõeline lahus- lahus, milles lahustunud aine on ühtlaselt jaotunud ioonide, molek ulide või aatomitena,(10-7 ei ole nähtavad) ei kihistu, läbiva valguskiirte kimbu nähtavus ei ole näha, välimus- läbipaistev. Segusid milles üks aine on jaoutunud teises suhteliselt ühtlaselt, kuid jaotunud aine osakesed on palju suuremad kui lahustes, nimetatakse pihussüsteemideks, ehk pihusteks. Need koosnevad analoogiliselt pihustuskeskkonnast ja pihustunud ainest Kolloidlahus- kui pihustatud aine osakesed koosnevad sadadest või tuhandetest ioonidest või
tunneleid mille kaudu külalismolekulide kontakti;fikseerib tsütoplasma voolab transport(kokaiin,fluoks reageerivad ained nii,e välja ja rakk etiin).struktuurvalk nt siirdeolek oleks hukkub.Suhkrud tubulin(polümeriseerub saavutatav;osaleb sihtmärgina:osalevad tsütoplasmas reaktsmehhanismides,h protsessides nagu mikrotuubuliteks,mis iljem molek. omakorda taastub;nõrgendab Äratundmine,regulatsio depolümer.,tagasi keemilisi sidemeid,mis on,kasv.Bakterid- tubuliini peaksid katkema peremeesrakk- ühikuteks)Kolhitsiin reaktsioonis.Ravimid ründamine ja süs. Nagu seostub t-ga ensüümiinhibiitorid:s retseptorid.Glükokonju blokeerides polümer- ulfoonamiidid(inhibeer
Kem om-elektronegat,süsinik ning vesinik seega omavad negat osalaengut. Elektrofiil-fiil=armastama,osake,millel on pos laen v osalaeng soovib liit elektroni(katioon) osakesel on tühi orbitaal. Nukleofiil-osake,millel on negat laeng v osalaeng,soovib liit prootonit(anioon) osakesel on vaba elektronpaar Elektrofiilne tsenter-aatom molekulis,millel pos laeng v osalaeng Nukleofiilne tsen-aatom molekulis,negat laeng v osalaeng. Ründav osake-millel on LAENG(molek ioonide side) metII/I A+mittemet tugev, katkeb keemiline side Reakt tsent-koht molekulis kus toimub rühmade vahetumine Katkev side-rünnatavas molekul olev kov side mis lõhutaxe Lahkuv rühm-osake,mille on OSALAENG,kov side. Mis lahkub reakt käigus Isomeer-ühesugun summaarne valem kuid erin struktuur,erin kem ja füs omadused Asendisomeer-asendusrühm asub erin kohas(1-klorobutaan,2-klorobutaan) Ahelisomeer-asendusrühm samas aga süsinikuahel on erinev.
Polümeermaterjalid materjal, mille aine või sideaine on sünteetiline kõrgmolekulaarne aine. Polümeerid mood lihtsatest ainetest füüs-keem prots tulemusel. Pol jagatakse: termoplastsed, termoreaktiivsed, mullplastid, elastomeerid. Pol materjale liigit: plastid (koosn polümeerist ja täiteainest, stabil-st ja plastif-st), lakid ja värvid (lakk on pol lahus org lahustis, täiteaine lisam saad värv), polümeerbetoonid, tehiskiud (kapron, nailon jne saad orienteeritud lineaarse molek pol-de baasil). Plastmass Deform om * jäik säilit oma kuju kõrgel temp. * pooljäik tek suur jääv deform, mis taandub, kui sulatada. * pehme pehme, suure pikenemisega, väheste jäävate def-ga. * elastne pehmed, elastsed, def taanduvad kiiresti. Püsivus elastsed, löökkoormusi taluvad pragunemata, paljukordseid painutusi, tug väh temp tõustes ja väh-s, om parandat lisandite lisamisega.
LEELIS vees lahustuv tugev alus (NaOH, KOH, Ca(OH) 2). IA ja IIA rühma metallidest: leelismetallide hüdroksiidid LiOH, KOH, jt. leelismuldmetallide hüdroksiidid Ca(OH)2, Sr(OH)2, Ba(OH)2 Tugevus Leelised on tugevad LiOH Vees mittelahustuvad alused on nõrgad Cu(OH)2 Tugevus dissotsiatsioonimäär = ioonideks dis.nud molek. arv / lahustunud molek üldarv · 100% DISSOTSIATSIOONIMÄÄR (aste) aine ioonideks lagunenud ja lahustunud molekulide üldarvu suhe. NÕRK KESKMINE TUGEV <3% 3<<30% >30 % HCl, HJ, HBr, H2S, H2CO3, H2SO4, H2SO3, H3PO4 H4SiO4, HF HNO3 14. Keemilised reaktsioonid elektrolüütide lahustes
meri, järv, jõgi. Ökosüsteemi näitajad on liigiline koosseis liigi rikkus, tominantliik, biomass, produktsioon- biomassi juurdekasv ajas, toitumissuhted- kes, keda sööb. Toitumis suhted ökosüsteemis toiduvõrk, droofilised tasemed Toitumis suhete alusel reastatud organismide moodustavad toiudu ahela. Selle esimeseks lüliks on ..... . rohelised taimed sünteesivad ja moodustavad esimese orgaan aine CO2 ja veest ja päikese energia osavõtul ergastuvad kloroplastide klorofülli molek. Moodustub elektron transpordi ahel ja valgus staadiumis seotakse keemilise energia poolest energi rikkad ühendid ( ATP ja NADPH2) . pimedus staadiumis seotakse CO2 ja tekib klükoos . klükoosist tekib tärklis ja teised polüsahhariidid. Teiseks lüliks on tarbijad, kes on olemuselt heterotroofid. Need on taim toidulised loomad kellest toituvad kiskjad. Nad võivad moodustada mitu astet. Tarbija on konsunent. On kas 1, 2 või 3 astne tarbijad.
• O3 ehk trihapnik ehk osoon (terav lõhn, sinine, mürgine gaas,ebapüsiv, atmosf. üle. kihtides) S • kollane kristalne aine • tavatingim. S8 • madal st. • Kergesti peenestatav Kasutusalad: • H2SO4 autoakudes, ainete kuivatamine • H2S – roiskumine+mädanemine • Na2S2O3 – fotograafia • SO2 – keldrite, ladude desinfits., pleegitamisvahend Allotroobid: • S8 - rombiline väävel (rombikujulised kristallid, S8 molek.) • Sn - plastiline väävel (mustjaspruun plastiliinisarnane aine, seismisel rombiliseks, pikad siksakahelad) • monokliinne väävel (S8 molekulidest, nõeljad kristallid) 5. Lämmastik ja fosfor. Kasutusalad ja omadused. Millised on nende elementide ühendite kasutusalad ja nende omadused? Nimeta lämmastiku ja fosfori allotroope (võrdle neid). N • aatomite vahel kolmikside -> kõige püsivam lihtaine • maitseta, lõhnata, värvusetu gaas
Liigitus a) Vesiniku alusel HCl 1 prootoniline H2SO4 2 prootoniline H3PO4 3 prootoniline H4SiO4 4 prootoniline b) Hapniku alusel Hapnikhape ehk Hapnikuta hape oksohape HNO3 HCl HBr HJ H2SO4 HF H2S HCN HSCN H4SiO4 c) Tugevuse järgi 1. - dissotsiatsioonimäär = ioonideks dis.-nud molek. arv / lahustunud molek üldarv · 100% DISSOTSIATSIOONIMÄÄR (-aste) aine ioonideks lagunenud ja lahustunud molekulide üldarvu suhe. 5 NÕRK KESKMINE TUGEV <3% 3<<30% >30 % HCl, HJ, HBr, H2S, H2CO3, H2SO4, H2SO3, H3PO4 H4SiO4, HF HNO3
, seega mõjutab reag. ainete iseloom reakts. kulgemist ja kiirust.) Kat. on aine, mis reakts. osavõtul muudab selle kiirust, kuid reakts. lõppedes koostis taastub. Katalüüs on reakts. kiiruse muut. kat. toimel. Inh. on aeglustav kat. Eksoterm sooj. eraldub, endoterm neeldub. Keem. tasakaal on, kui kiirused on võrd. ja konts. ei muutu. El.lüüdid juh. elektrit. Diss. aste näit. ioonideks dissotsieerumise astet lahuses. Molarisats. on kui erinim. Ioonid kokkupõrk. liit. ja mood. molek. Hüdratats. on kui el.lüüt. lah. vees ja molek. ümbr. kat. ja anioonid. Hüdrolüüsiga tekib vähedissots. ühend (nõrk alus või hape) ning lahuse reakts. muut. Metallid Metallid igapäevaelus Metall on igapäevaelus asendamatu materjal. Metallid on suhteliselt hästi töödeldavad ning oma heade omaduste tõttu kasutatakse väga laialdaselt. Metalle toodetakse juba 6000-7000 aastat. Kaks levinumat metalli on:
fikseeritud punkti labinud lainepikkuste arv hc 1 E h ; P h h 6 .62 10 34 Js c 3 .00 10 8 m / s Elektromagnetilise kiirguse spekter Ergastus Sisekihi Valentsele Võnkumised Pöörlemised Tuumade molek elektroni ktron spinnid ulis d id Nimetus gamma X-kiirgus UV-vis infrapunane mikrolained raadiolained Lainepikkus 10-13...10-11 10-11...10-8 10-8...10-6 10-6...10-4 10-4...10-1 10-1...101 [m] Aatomite energianivood Kvantarvud n=1,2,3,... peakvantarv l=0,...n-1; tähistus s,p,d,f, orbitaalne kvantarv m=-l,..
4,92 dm3 124. 4,58 mol 162. 392 dm3 201. 10,6 dm3 125. 252 cm3 163. 22,4 dm3 202. 22,4 dm3 89. 3,2 2,4,1 126. 257 mol 164. 8% 203. 28,7 g 90. 1,4 1,1,2 127. 448 cm3 165. 0,818% 204. C6H6 91. 3,6 5,1,3 128. 1,76 1024 molek. H2SO4 166. 75% 205. 151 g 92. 1,4 1,2,1 2,4 1024 molekuli H2O 167. 80% 206. 314 g 93. 1,2 1,1,2 129. 49,5% SO2 , 50,5% N2 168. 0,0117 mol Al(OH)3 , 207. 55,6 cm3 94. 2,10,8 1,2,5,8 130. 10-7 mol 6,76 cm3 HNO3 208. 1177 dm3 95. 1,5,2 1,1,5,2 131. 5,6 104 m3 169. 5,2 cm3 209. 4,57% 96
5, tolueen 6.1, atsetoon 2.1.
Tahke aine vedelas lahustis: Absol. mittelahustuvaid aineid pole olemas. Rõhk oluliselt mõju ei
avalda. Lahustuvus suureneb temp tõustes, kui lahustumisprotsess on endotermiline(H>0).
Väheneb temp tõustes, kui lahustumispr on eksotermiline (H
Rõhk on sel juhul p=nkT=(n1+n1+...)kT. Rõhku mille põhust. ühte sorti molekulid tingimusel, et neid on anumas samal hulgal nagu segus, nim. gaasisegu vastava komponendi partsiaalrõhuks. Võttes kasut. partsiaalrõhud, saame p=nkT=(n 1+n1+...)kT kirjut. kujul p=p1+p2+...=pI. Jõudsime Daltoni seaduseni, mis väidab, et ideaalsete gaaside segu rõhk on võrdne moodustavate gaaside partsiaalrõhkude summaga. §64. Maxwelli jaotusseadus. Olgu gaasil ühes ruumiühikus n molek. Eraldame nendest osa dn, mis omavad kiirusi vahemikus v/v+dv. Jagame selle arvu kiirusvahemiku suurusega: dn/dv. Saame väljavalitud kiiruse v juures võetud kiiruse ühikvahemikku kuuluvate molekulide arvu. See mood. kogu molekulide arvust osa dn/dv/n. Saadud tulemus oleneb väljavalitud kiiruse arvväärtusest ehk mingi fun. kiirusest f(v). Seda nim. jaotusfunktsiooniks. Maxwell sai tule-museks 1/n*dn/dv=f(v)=Av2emv2/2kT
annaabi.ee 
