"lahendusplasmat" - 1 õppematerjal

Plasma

keskkond, milles erinimelise laengukandjate tihedus (n) on võrdne. Mida kõrgem on plasma temperatuur, seda suuremad on osakeste kiirused. Maailmaruumis on 99,9% plasma-olekus, kusjuures tihedus võib muutuda väga suures vahemikus, Näiteks: tähtedevahelises ruumis n=1 m-3 ja tahkes kehas n=1028 m-3, tähtede sisemuses on tihedus veelgi suurem. Maal tekib plasma harmooniline gaaslahenduses (kaar- ja huumlahenduses). Eristatakse madalatemperatuurilist (to < 105 K) ja kõrgetemperatuurilistes lahendusplasmat (t o 10 5- 10 8 K). Madalatemperatuurilise plasma komponentide keskmine energia on erisugune, niisugune plasma ei ole termodünaamiliselt tasakaalus. Madalatemperatuurilist plasmat kasutatakse lahenduslampides ja gaaslaserites. Madalatemperatuurilises plasmas kiirenevad heterogeensedreaktsioonid, kasutatakse pindade töötlemisel, modifitseerimisel ja kilega katmisel. Kõrgtemperatuuriline triitiumi- ja deuteeriumiplasma on juhutava termotuumareaktsiooni uurimise objekt.