Plasma
keskkond, milles erinimelise laengukandjate tihedus (n) on võrdne. Mida kõrgem on plasma
temperatuur, seda suuremad on osakeste kiirused.
Maailmaruumis on 99,9% plasma-olekus, kusjuures tihedus võib muutuda väga suures
vahemikus,
Näiteks: tähtedevahelises ruumis n=1 m-3 ja tahkes kehas n=1028 m-3, tähtede sisemuses on
tihedus veelgi suurem. Maal tekib plasma harmooniline gaaslahenduses (kaar- ja
huumlahenduses). Eristatakse madalatemperatuurilist (to < 105 K) ja kõrgetemperatuurilistes
lahendusplasmat (t o 10 5- 10 8 K). Madalatemperatuurilise plasma komponentide keskmine
energia on erisugune, niisugune plasma ei ole termodünaamiliselt tasakaalus.
Madalatemperatuurilist plasmat kasutatakse lahenduslampides ja gaaslaserites.
Madalatemperatuurilises plasmas kiirenevad heterogeensedreaktsioonid, kasutatakse pindade
töötlemisel, modifitseerimisel ja kilega katmisel.