aine kontsentratsioonide suhe kahes tasakaalus olevas lahuses on antud temperatuuril püsiv suurus, mis ei sõltu lahustunud aine üldhulgast. Matemaatiliselt väljendub jaotusseadus: c1 K , (7) c2 kus c1 ja c2 on lahustunud aine kontsentratsioonid kummaski vedelikukihis, K jaotustegur. Mittelenduva aine lahuse küllastunud auru rõhk on alati madalam kui puhta lahusti küllastunud auru rõhk samal temperatuuril. Vastavalt Raoult'i seadusele on mitteelektrolüütide lahjendatud lahuste aururõhu suhteline langus võrdne lahustunud aine moolimurruga lahuses: p o p p o X2 , (8)
kuluvat energiat kohtsurvekaoks hk. l v2 v2 ht = hl + h k hl = hk = d 2g 2g 1.22 Statsionaarse ühtlase voolamise põhivõrrand. Tangentsiaalpinge jaotus ümartorus. Statsionaarse voolamise põhivõrrand: 0 = gRI , vedeliku tihedus, g raskuskiirendus, R hüdrauliline raadius, I hüdrauliline lang. Tangentsiaalpinge vedelikukihis, mis asub toru teljest kaugusel r: 0,5 grI . Tangentsiaalpinge jaotus on lineaarne, pinge on suurim seina ääres ning võrdne nulliga toru teljel. 1.23 Vedelike voolamise reziimid Vedelik võib voolata laminaarselt või turbulentselt. Laminaarne vool liigub püsiva kujuga jugadena, mis omavahel ei segune, selgete piiridega värvitud vedeliku niit on nähtav kogu klaastoru ulatuses. Turbulentset voolamist iseloomustab intensiivne segunemine peaaegu kogu ristlõike ulatuses
mittesegunevast vedelikust (nt. vesi-eeter), on selle aine jaotumine vedelike vahel määratud jaotusseadusega: lahustunud aine kontsentratsioonide suhe kahes tasakaalus olevas lahuses on antud temperatuuril püsiv suurus, mis ei sõltu lahustunud aine üldhulgast. Matemaatiliselt väljendub jaotusseadus: c K= 1, (7) c2 kus c 1 ja c 2 on lahustunud aine kontsentratsioonid kummaski vedelikukihis, K - jaotustegur. Mittelenduva aine lahuse küllastunud auru rõhk on alati madalam kui puhta lahusti küllastunud auru rõhk samal temperatuuril. Vastavalt Raoult'i seadusele on mitteelektrolüütide lahjendatud lahuste aururõhu suhteline langus võrdne lahustunud aine moolimurruga lahuses: p o - p p = o = X2 , (8) po p
Taldrikkolonnides kasutatakse paljusid vahepõhjasid (nn. taldrikuid), mis on varustatud avadega või kuplitega alt üles liikuva gaasi läbilaskmiseks. Absorbent juhitakse ülalt esimesele taldrikule, kust ta voolab ülalt alla ühelt taldrikult teisele ülevoolutorude kaudu (kuppeltaldrikkolonnides) või valgub alla läbi samade avade, millest tuleb läbi ülestõusev gaas (läbivooluga taldrikkolonnides). Gaasi ja vedeliku kontakt toimub taldrikute pinnal olevas vedelikukihis gaasimullide pihustumisel ja tõusmisel läbi vedeliku. Pihustustornides pihustatakse absorbent torni ülaosas asuvate pihustite abil võimalikult ühtlaselt torni ristlõikepinnale. Gaasi ja vedeliku kontakt toimub alt üles liikuva gaasi kokkupuutel allalangevate vedeliku piiskadega. 4. Gaasiliste lisandite eemaldamine adsorptsiooniga Adsorptsioonil seotakse gaasi molekulid tahke pinnaga nõrkade füüsikaliste või keemiliste jõududega.
annaabi.ee 
