8 6 4 7 2 Arvutused Arvutame suhtelised moolkontsentratsioonid: X = NNH3/ NH20 X1 = NNH31/ NH20= 0,108 / 55,6 = 0,0019424 X2 = NNH32 / NH20= 0,0965 /55,6 = 0,0017356 komponentide kontsentratsioonid muutuvad vähe, nagu see on antud laboratoorses töös, siis ligikaudselt arvestame, et Y = y; X = x. X1-le ja X2-le vastavate tasakaalsete kontsentratsioonide Y1* ja Y2* leidmiseks kasutame tabelit 2. Tabel 2. Tasakaaluandmed süsteemile ammoniaak-vesi. X, mool NH3/mool H2O 0 0,005 0,010 0,0125 0,015 0,020 0,023 Y*, mool NH3/mool õhku 0 0,0045 0,0102 0,0138 0,0183 0,0273 0,0327 m = Y*/X - 0,9 1,02 1,104 1,22 1,365 1,422 Et saada Y* väärtust, interpoleerime andmed tabelist 2:
Kas on võimalik materjalides ideaalne korrapära ja millistel tingimustel? Kui T=0K 2. Mis on kristallvõre defekt? igasugune kõrvalekalle ideaalsest võre korrapärasusest. 3. Kristallvõre defektide klassifikatsiooni alused? geomeetria või dimensioonide alusel 4. Loetle võimalikud punktdefektid? Vakants, võrevahelised, 5. Mis on vakantsid? tühjad aatomkohad kristallvõres, mis normaalselt on ideaalses võres hõivatud. 6. Kuidas tekivad tasakaalsed vakantsid? 7. Kuidas sõltub tasakaalsete vakantside kontsentratsioon temperatuurist? Tasakaalsete vakantside kontsentratsioon Nv suureneb eksponentsiaalselt temperatuuriga. 8. Kuidas tekitada mittetasakaalseid vakantse? materjali plastilised deformatsioonil, materjalide järsul jahutamisel külmutades kinni materjali kõrgtemperatuurse defektkoostise, kui ka materjali pommitamisel suure energiaga osakestega (neutronitega, elektronidega). 9. Millised on võrevahelised defektid
Keemiline side kahe argooni aatomi vahel on dipoolne ja väga nõrk, kuna argooni väliskiht on täidetud ei saagi ta moodustada tugevaid sidemeid. Kui üks Ar aatom satub teise lähedusse, siis tema elektronpilv kaldub kõrvaloleva aatomi positiivse tuuma poole. Sellest tulenebki side. 6.Sõltuvus kuubilise raku külje ja aatomraadiuse vahel RTK elementaarrakus? Sõltuvus avaldub kujul: a sqrt(3)=4r kus r aatomraadius ja a-ühikraku külje pikkus. 7.Kuidas sõltub tasakaalsete vakantside kontsentratsioon temperatuurist? Tasakaaluliste vakantside konsentratsioon suureneb aine temperatuuri vähenedes. 8.Kirjeldage difusiooni vakantsmehhanismi? Vakantsmehhanismi puhul difundeeruv aatom vahetab oma koha vakantsiga selles kehas(?) 9.Millest sõltub metalli elektritakistus? Takistusele avalduvad mõju elektronide hajumise mehhanismid (lisanddefektid, foononid ja deformatsioon) ja muidugi ka vabade elektronide arv. 10.Millised optilised nähtused esinevad mittemteallides?
Keemiline side kahe argooni aatomi vahel on dipoolne ja väga nõrk, kuna argooni väliskiht on täidetud ei saagi ta moodustada tugevaid sidemeid, Kui uks Ar aatom satub teise lahedusse siis tema elektronpilv kaldub kõrvaloleva aatomi positiivse tuuma poole. Sellest tulenebki side. 6. Sõltuvus kuubilise raku kuljeja aatomraadiuse vahel RTK elementaarrakus? Sõltuvus avaldub kujul: a ruutjuur3=4R kus R- aatomi raadius ja a- ühikraku külje pikkus. 7. Kuidas sõltub tasakaalsete vakantside kontsentratsioon temperatuurist? Tasakaaluliste vakantside konsentratsioon suureneb aine temperatuuri vähenedes. 8. Kirjeldage difusiooni vakantsmehhanismi? Vakantsmehhanismi puhul difundeeruv aatom vahetab oma koha vakatnsiga selles kehas. (?) 9. Millest sõltub metalli elektritakistus? Takistusele avalduvad mõju elektronide hajumise mehhanismid (lisanddefektid, foononid ja deformatsioon) ja muidugi ka vabade elektronide arv.
Mehaaniline tasakaal-rõhkude võrdsus. Termiline tasakaal- temperatuuride võrdsus ja püsivus. Kui mõlemad on tasakaalus- täielik tasakaal. Tasakaalseks termodünaamiliseks protsessiks: protsess, mis kulgeb nii aeglaselt,et igal ajahetkel taastub termodünaamiline tasaakaaluolek. (p-v diagramm). Termodünaamiiseks protsessiks nimetatkse protsessi mille jooksul keha olekuparameetrid muutuvad- jaguneb: tagastatavad protsessid: protsess mis kulgeb läbi ühtede ja samade tasakaalsete olekute nii ühes kui ka teises suunas. Kõik reaalsed protsessid on suuremal või vähemal määral tagastamatud protsessid, kuna nad pole tasakaalus. Ringprotsess: protsess mille kulgemise käigus termodünaamiline keha läbib igat vahepealset olekut ja tuleb tagasi algolekusse. 6. Termodünaamilised kehad ja nende termilised ja energeetilised olekuparameetrid ja mõõtühikud. Termodünaamilised kehad gaasid ja aurud(veeaur) sest nad muudavad oma mahtu väga
punktis olekuparameetrid ei muutu ajas. Protsessi mis kulgeb väga aeglaselt, et igal ajamomendil taastub termodünaamilises kehas tasakaalu olukord nimetatakse tasakaalseks protsessiks. (järelikult tasakaalne protsess on lõpmatult aeglane ja tasakaalseid protsesse ja olukordi saab kujutaba pv-oleku diagrammiga) Tagastatavaks loetakse protsessi, mis kulgeb lõpmata aeglaselt, ilma hõõrdumiseta ja ta kulgeb läbi ühtede ning samade tasakaalsete olekute mõlemas suunas. Nii paisudes kui kokku surudes. Tagastamatul protsessil läheb osa energiat kaduma tänu hõõrdumisele (hõõrde töö muutub soojuseks). Kõik reaalsed protsessid on suuremal või vähemal määral tagastamatud. 5. Ideaalgaaside mõiste ja ideaalgaaside põhiseadused. Ideaalseks gaasiks nim: gaasi, mis koosneb elastsetest molekulidest, millede vahel puuduvad vastastikused mõjujõud. Ideaalse gaasi molekulide endi maht loetakse tühiselt
Mehaaniline tasakaal-rõhkude võrdsus. Termiline tasakaal- temperatuuride võrdsus ja püsivus. Kui mõlemad on tasakaalus- täielik tasakaal. Tasakaalseks termodünaamiliseks protsessiks: protsess, mis kulgeb nii aeglaselt,et igal ajahetkel taastub termodünaamiline tasaakaaluolek. (p-v diagramm). Termodünaamiiseks protsessiks nimetatkse protsessi mille jooksul keha olekuparameetrid muutuvad- jaguneb: tagastatavad protsessid: protsess mis kulgeb läbi ühtede ja samade tasakaalsete olekute nii ühes kui ka teises suunas. Kõik reaalsed protsessid on suuremal või vähemal määral tagastamatud protsessid, kuna nad pole tasakaalus. Ringprotsess: protsess mille kulgemise käigus termodünaamiline keha läbib igat vahepealset olekut ja tuleb tagasi algolekusse. 6. Termodünaamilised kehad ja nende termilised ja energeetilised olekuparameetrid ja mõõtühikud. Termodünaamilised kehad gaasid ja aurud(veeaur) sest nad muudavad oma mahtu väga
10-5 eV/aatom K ehk kui anname mooli aine kohta siis k asendub R - 8,31 J/mool K e. 1,987 cal/mool K. Kui vakantside kontsentratsioon materjalis vastab võrrandiga arvutatule, siis nimetatakse seda tasakaaluliseks vakantside kontsentratsiooniks. Võrrandist järeldub, et kui absoluutne temperatuur läheneb nullile, siis tasakaalne vakantside kontsentratsioon läheneb nullile s.o. 43 vaid absoluutse nulli juures on võimalik saada materjale, kus tasakaalsete vakantside kontsentratsioon on 0. Tasakaalsete vakantside kontsentratsioon N v suureneb eksponentsiaalselt temperatuuriga. Temperatuuridel, mis on lähedased materjali sulamistäpile, on suhe N/N v suurusjärgus 104. Lisaks tasakaalulistele, temperatuurist põhjustatud vakantsidele võivad materjalides esineda veel mittetasakaalulised vakantsid, mida on võimalik tekitada materjali plastilised deformatsioonil, materjalide järsul
annaabi.ee 
