Vajad kellegagi rääkida?
Küsi julgelt abi LasteAbi
Logi sisse
Sulge

"mullikestevahelised" - 5 õppematerjali

Füüsikaline ja kolloidkeemia 3-vaheeksam
10
doc

Füüsikaline ja kolloidkeemia 3. vaheeksam

kiledena gaasimullide vahel. Vahumullid on polüeedri kujuga. Vahtu iseloomustatakse kordsusega . Vahu tekkimiseks peab vedelik sisaldama stabilisaatorit ­ vahutekitajat. Ilma selleta märkimisväärset ja püsivat vahtu ei saa. Vahu püsivust iseloomustab eluiga. See on aeg vahumullikese tekkest kuni tema täieliku lagunemiseni. Kui vahumullikesel on kõik vahu omadused, siis võime teda nimetada elementaarseks vahuks. Kahe mulli vahelises kiles toimuvad keerulised protsessid. Mullikestevahelised kiled on peaaegu tasaparalleelsed. Kohtades, kus nad ühinevad, tekivad nõguspinnad (vaata eelmine joonis). Sellel pinnal on hüdrostaatiline rõhk väikesem, võrreldes tasaparalleelsete osadega. See kutsub esile vedeliku voolamise kile keskelt äärtele ja toimub kile õhenemine. Kui selline kile on kaetud pindaktiivse aine adsorptsioonikihiga, siis tulemusena langeb pindaktiivse aine kontsentratsioon kile keskel, liitekohtades see aga suureneb. Selle tagajärjel tekib

Keemia → Füüsikaline ja kolloidkeemia
162 allalaadimist
Kolloidkeemia eksam
1
docx

Kolloidkeemia eksam

Gaasi või vedeliku ühe kihi võimet takistada teise kihi välises elektriväljas teatud kindlas suunas ning meenutab siis võime teda nimetada elementaarseks vahuks. Kahe mulli V=mg/B=V(-0)g/B (2). Asetades kiiruse väärtuse võrrandist (2) liikumist või avaldada vastupanu mõne teise keha liikumisele nim elektrolüüsinähtusi elektrolüütide lahustes.) ja elektroosmoos, mis vahelises kiles toimuvad keerulised protsessid. Mullikestevahelised võrrandisse (1), saame Is=vc=mgc/B. Difusioonivoog on Id= VISKOOSSUSEKS ehk sisehõõrdumiseks. Kuna kolloidosakesed tekivad süsteemis siis, kui faaside liikumine on põhjustatud välise kiled on peaaegu tasaparalleelsed. Kohtades, kus nad ühinevad, -D*dc/dx. Tasakaalu korral, kus silmaga nähtavad muutused on oma suurte mõõtmete tõttu lisatakistuseks peenestuskekskkonna elektrivälja poolt

Keemia → Füüsikaline keemia
115 allalaadimist
Kolloidkeemia eksam
8
doc

Kolloidkeemia eksam

kiledena gaasimullide vahel. Vahumullid on polüeedri kujuga. Vahtu iseloomustatakse kordsusega . Vahu tekkimiseks peab vedelik sisaldama stabilisaatorit ­ vahutekitajat. Ilma selleta märkimisväärset ja püsivat vahtu ei saa. Vahu püsivust iseloomustab eluiga. See on aeg vahumullikese tekkest kuni tema täieliku lagunemiseni. Kui vahumullikesel on kõik vahu omadused, siis võime teda nimetada elementaarseks vahuks. Kahe mulli vahelises kiles toimuvad keerulised protsessid. Mullikestevahelised kiled on peaaegu tasaparalleelsed. Kohtades, kus nad ühinevad, tekivad nõguspinnad. Sellel pinnal on hüdrostaatiline rõhk väikesem, võrreldes tasaparalleelsete osadega. See kutsub esile vedeliku voolamise kile keskelt äärtele ja toimub kile õhenemine. Kui selline kile on kaetud pindaktiivse aine adsorptsioonikihiga, siis tulemusena langeb pindaktiivse aine kontsentratsioon kile keskel, liitekohtades see aga suureneb. Selle tagajärjel tekib

Keemia → Füüsikaline keemia ii
138 allalaadimist
Füüsikaline ja kolloidkeemia kordamisküsimused
14
docx

Füüsikaline ja kolloidkeemia kordamisküsimused.

kiledena gaasimullide vahel. Vahumullid on polüeedri kujuga. Vahtu iseloomustatakse kordsusega . Vahu tekkimiseks peab vedelik sisaldama stabilisaatorit ­ vahutekitajat. Ilma selleta märkimisväärset ja püsivat vahtu ei saa. Vahu püsivust iseloomustab eluiga. See on aeg vahumullikese tekkest kuni tema täieliku lagunemiseni. Kui vahumullikesel on kõik vahu omadused, siis võime teda nimetada elementaarseks vahuks. Kahe mulli vahelises kiles toimuvad keerulised protsessid. Mullikestevahelised kiled on peaaegu tasaparalleelsed. Kohtades, kus nad ühinevad, tekivad nõguspinnad . Sellel pinnal on hüdrostaatiline rõhk väikesem, võrreldes tasaparalleelsete osadega. See kutsub esile vedeliku voolamise kile keskelt äärtele ja toimub kile õhenemine. Kui selline kile on kaetud pindaktiivse aine adsorptsioonikihiga, siis tulemusena langeb pindaktiivse aine kontsentratsioon kile keskel, liitekohtades see aga suureneb. Selle tagajärjel tekib pindkontsentratsiooni gradient, milline

Keemia → Füüsikaline ja kolloidkeemia
287 allalaadimist
Füüsikalise ja kolloidkeemia eksam
29
docx

Füüsikalise ja kolloidkeemia eksam

õhukeste kiledena gaasimullide vahel. Vahumullid on polüeedri kujuga. Vahtu iseloomustatakse kordsusega . Vahu tekkimiseks peab vedelik sisaldama stabilisaatorit ­ vahutekitajat. Ilma selleta märkimisväärset ja püsivat vahtu ei saa. Vahu püsivust iseloomustab eluiga. See on aeg vahumullikese tekkest kuni tema täieliku lagunemiseni. Kui vahumullikesel on kõik vahu omadused, siis võime teda nimetada elementaarseks vahuks. Kahe mulli vahelises kiles toimuvad keerulised protsessid. Mullikestevahelised kiled on peaaegu tasaparalleelsed. Kohtades, kus nad ühinevad, tekivad nõguspinnad (vaata eelmine joonis). Sellel pinnal on hüdrostaatiline rõhk väikesem, võrreldes tasaparalleelsete osadega. See kutsub esile vedeliku voolamise kile keskelt äärtele ja toimub kile õhenemine. Kui selline kile on kaetud pindaktiivse aine adsorptsioonikihiga, siis tulemusena langeb pindaktiivse aine kontsentratsioon kile keskel, liitekohtades see aga suureneb. Selle tagajärjel tekib

Keemia → Füüsikaline ja kolloidkeemia
111 allalaadimist


Sellel veebilehel kasutatakse küpsiseid. Kasutamist jätkates nõustute küpsiste ja veebilehe üldtingimustega Nõustun